半导体设备板块景气持续向上 光刻机等关键领域有望快速增长
半导体设备板块景气持续向上光刻机等关键领域有望快速增长SEMI全球副总裁、中国区总裁居龙表示,根据半导体设备投资情况分析,2024年中国大陆地区的半导体设备交付额预计将在去年的基础上实现增长,达到400亿美元以上,继续稳居全球最大的半导体设备市场。据预测,将有超过100家新的半导体制造工厂在2022年至2026年间投入运...
半导体界炸锅!上海微电子EUV专利曝光,顶尖性能引猜测
有业内人士爆料说,上海微电子这次在德国申请的专利涉及EUV光刻机的多个核心技术,包括光源、光路、曝光系统等关键环节。这意味着啥?意味着他们很可能已经在EUV技术上有了重大突破!不过,话说回来,专利申请归专利申请,真正能不能做出来还得打个问号。毕竟ASML为了研制EUV光刻机,前后投入了几百亿美元,花了二三十...
龙图光罩:深圳拥有7台光刻机正常运行,珠海高端半导体芯片掩模版...
公司回答表示:公司目前在深圳有7台光刻机,均处于正常使用状态。公司在珠海建设的高端半导体芯片掩模版制造基地项目,已有多台电子束、激光光刻机到货,募投项目建设完毕后将投入使用。本文源自:金融界AI电报
天大的好消息,全新国产光刻机曝光,套刻≤8纳米,什么水平?
其中有两种国产光刻机,一种是氟化氪光刻机,另一种是氟化氩光刻机,这些技术更加尖端,是此次的亮点。氟化氩光刻机被称为DUV光刻机,依据65纳米的分辨率可以判断其为干式DUV,其性能与阿斯麦的“XT:1460K”相似。大约还落后于全球最尖端的光刻机两代,分别是一代浸润式DUV和一代极紫外线(EUV)。浸润式DUV...
光刻机产业链深度报告:国产路漫其修远,中国芯上下求索
光刻机:类似纳米级打印机,通过光源将光掩膜上图形母版投射在硅片上。工作原理:利用光刻机发出的光通过具有图形的光置对涂有光刻胶的硅片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光置上得图形复印到硅片上,从而使硅片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而...
西工大团队在有机半导体辐射探测晶体材料取得进展
近日,西北工业大学材料学院介万奇和徐亚东教授团队与东京大学的TakaoSomeya教授等国内外团队合作,通过对4HCB的氰基(-CN)进行改性,开发出新型有机半导体辐射传感单晶材料4HPA;并结合DFT及蒙特卡罗模拟,揭示了4HPA单晶具有优异电子传输性能的结构机理;最后,通过溶液法制备了厘米尺寸高质量的4HPA单晶探测器,在国际上首次实...
干货满满!荷兰刚宣布扩大管制,我国就公布2条重磅光刻机消息
据《环球时报》报道,针对荷兰6日宣布扩大对先进半导体制造设备的出口管制,中国商务部新闻发言人8日表示,荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上,进一步扩大对光刻机的管制范围,中方对此表示不满。这次我国可不只是表达不满,而是立即作出反应。一是在工业和信息化部官方网站公布两款DUV光刻机推广消息9月9日,...
华为四重曝光工艺专利公开,国产5nm芯片有希望了?
另外,英特尔在推进其18A1.8nm工艺的过程中,由于新一代高NA光刻机尚未到位,公司不得不采用现有设备结合双重曝光技术来实现工艺目标。对于国内芯片行业来说,由于近年来美国对先进半导体制造设备的出口管制,国内企业不得不放弃对高端半导体制造设备的依赖(特别是ASML的EUV设备),另辟蹊径,通过多重曝光技术来实现7nm、5...
从光刻机到纳米压印,半导体行业拐角处的挑战与机遇 | 峰瑞创投对话
10月中旬,佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,可制造5nm芯片。据佳能公司CEO御手洗富士夫透露,设备售价将“比ASML(阿斯麦,半导体设备制造商)的EUV光刻机少一位数”。EUV的全称是ExtremeUltravioletLithography,即一种使用极紫外光波长的光刻技术,目前用于7纳米以下先进制程芯片。
中国唯一一家,掌握高档光刻胶研发技术,并拥有全国唯一ASML曝光机
这是全国唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的高新技术企业,并且这家公司还拥有全国唯一一台荷兰阿斯麦曝光机。根据相关数据显示,2023年我国光刻胶投融资事件的数量已经达到7起,金额为13.5亿元,远超2022年的表现。而目前中国光刻胶的市场规模已由2017年的58.7亿元增长至2022年的98.6亿元,年均复合增长率为10....