荷兰扩大管制同日,我国光刻机领域连曝2大突破,干货满满!
因此,既然这种技术已经成功研发出来,与20年前研发氟化氩光刻机的速度相比,如今四年多的时间就已经取得了相当大的进展。因此,我们可以确信,假以时日,中国必定能够研发出属于自己的最先进光刻机。结语。尽管目前中国自主研制的光刻机技术尚未达到荷兰的水平,但相较于以往,已经取得了长足的进步。我们坚信,在不...
光刻机技术新突破!我国研制全球最薄光学晶体,能效提升万倍
氮化硼以其超硬性、高热导性、抗腐蚀性等优异特性,成为制造光刻机衬底托盘的理想材料之一。单晶氮化硼的研制是一个极大的挑战,尤其是要实现超大尺寸单晶的生产更是前所未有。转角菱方氮化硼的成功研制开启了国内高端光刻机从“引进”到“自主研发”的新篇章,同时也提供了打破外国垄断的关键。据悉,中国即将推出自...
中国DUV光刻机研制成功了,8nm芯片已成功,国外网友:感谢雷蒙多
在1965年,我国就研制出了第一台65式光刻机。而那个时候的荷兰阿斯麦公司,也就只见雏形。但不可否认,如今他们国家在光刻机领域的制造相当的强大,但中国的实力也是不容忽视的。即便是在当初我们没有更多的资金投入在该领域,但中国自启动光刻机制造时,就能够看出来我们一定会走向成功的。因为中国在此早就已经打下...
中国造不出光刻机?中科大高层一句话让人心凉,造光刻机有多难?
2023年,上海微电子正在致力于28nm的光刻机,交付已经近在眼前;而各个大学就光刻机技术进行了研制,也有着一定的突破。除此之外,我国也在加快推进14纳米、7纳米甚至更低的光刻机研发工作。这条路的终点不知道还有多远,但提升半导体设备国产化率迫在眉睫,相信在全国人民的一致努力下,光刻机技术不再遥不可及。...
我国光刻机诞生于改革开放后,说“造不如买”导致落后是无稽之谈
根据《中国光学》编委会《院士访谈》栏目关于姜文汉院士的访谈文章,1978年全国科学大会后,中国科学院安排光电所研制国内第一台光刻机,姜文汉院士和同事们通过两年时间才研制出第一台光刻机。由此可见,所谓1971年研制成功第一台光刻机且于1978年赴巴黎参展,纯属谎言。所以“半假”即为全假。这一事例说明,某些...
3年前ASML曾断言,中国将自产光刻机,如今三年到了,我国怎样了
三年前,世界最大半导体设备制造商之一,荷兰ASML公司的总裁就十分有前瞻性地预言了我国仅需三年就将会在半导体领域逐渐崛起,并实现自主研发生产光刻机(www.e993.com)2024年9月20日。如此关键的核心技术,中国一旦自主攻克了技术难题后,将会带来的影响不可估量,这也是ASML三年前就在担心的事。
光刻机比两弹一星还难?美国卡脖子有新政策,美芯片企业上有对策
难道我们真的只能依靠国外的光刻机吗?并非如此,中国是有能力自行研制光刻机的,无非就是时间问题。而如今我国早已攻克了光刻机,根本就不受美国的“卡脖子”了,因为它将会成为过去式。杀敌一千自损八百,难道美国还没有参透这个道理吗?我们再回到中国的市场上来看,的确美国禁止了其他国家向中国售卖芯片,但是他们...
我国光刻机起步不算晚,为啥至今没超越荷兰?这一观念太害人!
今年11月,我国为了进口光刻机,花了8.168亿美元。你以为这就完了?并没有。10月份,我们同样花了大价钱进口光刻机。两个月加起来超过了14.35亿美元,折合人民币100多亿元。国产光刻机不是已经研发出来了吗?为啥我国还要疯狂进口光刻机?荷兰光刻机的技术优势...
“从0到1 ”:中国集成电路的破晓时刻丨科技自立自强之路
当时,国家急需研制晶体管化电子计算机——“109乙机”但已有的“锗合金结晶体管”性能不足王守觉临危受命不到半年时间我国第一只锗合金扩散高频晶体管就在王守觉团队“出炉”为批量生产这类晶体管应用物理所为此建起“109厂”技术工人少、生产设备缺乏...
东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...
根据中国国际招标网信息,半导体设备招标中,刻蚀、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升,核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海外企业;但光刻机作为核心设备,国产化率不足3%,核心原因在于零组件供应与整机技术与海外差距较大,这样的技术发展需要长达5-10年甚至更久远时间才能逐步突破。我国2023年进口光刻机...