中国院士谈论光刻机:中国曾有光刻机,但国外的好,就买国外的了

1980年，我国的科研团队成功研制出第四代分步式投影光刻机，精度达到3微米，接近国际先进水平。在随后的几年中，我们成功研制了JK-1型半自动接近式光刻机和KHA-75-1型光刻机。直到1985年，由中电科45所开发的分步式投影光刻机在技术上已达到美国4800DSW的标准。与美国技术的差距缩短至不足7年，与日本佳能的差...

中国首台光刻机成功量产,喜讯传来!

反观美国的态度，从一开始的强硬到现在的无奈，已经显示出他们对中国科技发展的无可奈何。当看到中国研制光刻机取得如此突破时，美国一开始的超然与自信已经被现实打了脸。从曾经的高高在上，到如今不得不重新评估中国的科技实力，进而试图在舆论上进行掩饰和解脱。科技战的背后，恰恰体现了国际关系的复杂性与微妙之处...

国产光刻机官宣成功 产业链这些上市公司迎来机遇

为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同,工信部于9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《目录》)通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化氩光刻机(65nm)等集成电路关键生产设备。《目录》中的电子专用装备...

中科大副院长:美国都造不出的光刻机,中国永远不可能造出来!

视频中,博主项立刚自信地宣称,中国只需要再有五年时间,就完全有能力自主研发光刻机这样的芯片制造设备。这一观点迅速在社交媒体上爆火,激发了国民对于国家科技进步的期待与自豪感。项立刚的言论得到了不少公众的支持,许多人认为,这种乐观预期并非空穴来风,而是基于中国近年来在科技领域所取得的显著进步。毕竟,无论...

国产DUV光刻机研制成功!各国反应:荷兰不满,韩国美国诧异

面对这些困难，中国的DUV光刻机行业需要冷静思考，自己研发，不断提高技术能力和服务质量。只有这样，我们才能在竞争激烈的市场上稳住脚跟。中国在DUV光刻机领域取得成功，这标志着一个新的起点。它告诉我们，中国科技已经进入了一个全新的时代，有能力在全球科技竞赛中扮演更加重要的角色。这条创新之路充满了困难和挑战...

ASML可远程锁死光刻机,我国如何关上半导体制造“后门”

截至到目前,俄半导体已经成功研发了90nm光刻机,且大幅降低了交付周期,并且价格也更实在,对比荷兰ASML公司的光刻机,综合竞争力更强(www.e993.com)2024年11月1日。据业内人士透露,预计在2025年,俄半导体就能实现28nm光刻机量产,且争取在2030年就能突破10nm先进工艺,很显然,俄半导体并没有妥协,而是对标荷兰ASML公司,想要利用更多元的方式来实现技术...

“从0到1 ”:中国集成电路的破晓时刻丨科技自立自强之路

国外早有光刻胶技术,但根本不公开团队凭借国外文献的蛛丝马迹硬是给试了出来有了光刻胶,还要研制光刻机王守觉等人因陋就简巧妙地用两台显微镜和一个紫外曝光灯搭建了一台“土光刻机”……1963年底首批“超小型硅平面高速开关管”和“高频晶体管”样管研制成功...

1977年中国已成功研制光刻机,有时间优势为何没成为垄断巨头

根据查到的资料来看,早在55年前,最早的光刻机是1445所在1974年开始正式研制的,直到1977年研制成功了GK-3型半自动光刻机,是一台接触式光刻机。对比于1984年才成立的ASML公司来说,中国的光刻机研发好似提前了好几年,占据了时间优势的中国为何没有成为如今的垄断巨头?

时间缩短整整1000倍,中国成功突破不可能:没有光刻机也能造芯片

西方国家都不太相信,毕竟,在一般的认知里,芯片需要光刻机才能研制成功。值得一提的是,现在市面上5nm的芯片,只有在极紫外光光刻机中加工才能完成。如果要研制体积更小的芯片,对光刻机的要求就更高。但是我国在光刻机领域的研究非常少。一直以来,我们国家就是在沙子中提取高浓度的硅,然后通过加工制作,最后成为...

如果中国举全国力量研发芯片和研制光刻机,需要多长时间?

因此,正常来说,就算是中国举全国力量研发芯片和研制光刻机,也需要10-20年左右。如果心急火燎,抡圆了胳膊,一窝蜂地“大干快上”,很容易忽略科技发展的正常规律,反而会造成各种意想不到的问题。但是就我个人来说,我当然希望光刻机的研发制造越快越好!