国产半导体光刻胶野望
2022年5月20日 - 腾讯新闻
对于膜厚为1.4??m的光刻胶,仅损失1%的溶剂就已经导致4%的膜厚,因此带来的影响是厚度偏移,厚度与CD的swingcurve(入射光与底层反射的二次干涉引起的驻波效应)强相关,一旦偏移会造成产线CD关键尺寸异常,产品返工。所以产线量产型光刻胶绝对不允许开封,都是直接装到机台的光阻chemicalbox中直接使用,因此一般...
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对于膜厚为1.4??m的光刻胶,仅损失1%的溶剂就已经导致4%的膜厚,因此带来的影响是厚度偏移,厚度与CD的swingcurve(入射光与底层反射的二次干涉引起的驻波效应)强相关,一旦偏移会造成产线CD关键尺寸异常,产品返工。所以产线量产型光刻胶绝对不允许开封,都是直接装到机台的光阻chemicalbox中直接使用,因此一般...