能耗据称只要十分之一!佳能交付首台新型纳米压印光刻机

财联社9月27日讯(编辑史正丞)全球光刻机产业终于迎来了一个有些“不一样”的新产品——日本佳能公司本周宣布,成功交付首台新一代纳米压印光刻机。(来源:佳能公司官网)这里首先需要解释一下,佳能的纳米压印光刻(NIL)系统,与阿斯麦的光刻技术有什么区别。传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆...

中国发布最新DUV光刻机,套刻精度8纳米!与最先进设备差了多少

我们最主流的顶尖产品主要来自荷兰的ASML公司，比如他们的第四世代ArF干式DUV光刻机1460k，套刻精度高达5纳米，而1470干型光刻机更是能达到57纳米的分辨率。对比之下，我们的新光刻机正好是处于ArF干式DUV这一代技术中较为先进的一款，但与这些顶尖产品还有差距。说到第五世代，那可是浸没式光刻机的大舞台。ASML...

干货满满!荷兰刚宣布扩大管制,我国就公布2条重磅光刻机消息

对于ASML来说，反而是个重大坏消息，因为能用于量产5nm制程工艺的NXT：2000i系列相比XT:1400系列只是提升了ArF光源功率、将物镜系统NA值从0.93提升到1.35、将双工件台套刻精度从7.5nm提升到2nm。这种光刻机单次曝光就能生产28nm制程工艺，因此这种光刻机也被称为28纳米光刻机。令人欣喜的是，我国早已造出28纳...

国内五家受益!高端光刻机问世!荷兰阿斯麦后悔莫及

工信部宣布我们正式拥有高端光刻机。消息发出后,荷兰阿斯麦第一时间感觉无地自容,前脚刚刚配合老美禁止两款中高档光刻机NXT:2050i和NXT:2100i对中国的出口。而且禁止了英伟达中高档芯片对中国的出口,后脚,我们就宣布这光刻机实现自主。1970i、1980i,这两款光刻机在ASML产品序列中属于中低端产品。我们这款8...

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

于无声处听惊雷,日本浸润式DUV光刻机赶超ASML提及尼康的NSR-S636E,从发布的关键技术指标看,这款曝光机由于采用增强型iAS设计,可用于高精度测量、圆翘曲和畸变校正,重叠精度(MMO)更高,不超过2.1纳米,分辨率小于38纳米,镜头孔径1.35,对比当前型号,它的整体生产效率可提高10-15%,创下尼康光刻设备的新高,产能(wph)...

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

第二个问题:为什么我会说这台光刻机可能不是大家想象当中的那台设备?从工信部公布文件的参数来看,这台光刻机的最小分辨率是65nm,最小套刻精度是8nm(www.e993.com)2024年11月2日。在国产光刻机工件台唯一供应商华卓精科的招股书中有这么一段话,公司研发的DWS系列纳米精度运动及测控系统主要适用于「干式步进式扫描光刻机」,可用于65nm及以上...

我国国产 DUV 光刻机迎来里程碑式进步,套刻≤8nm

IT之家9月15日消息,工业和信息化部于9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化氩光刻机(65nm)的内容。中国首台(套)重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品,包括整机设备、...

荷兰与美国保持一致收紧光刻机出口,没关系芯片差距只有三五年

9月5日周四,美国宣布对量子计算机组件等尖端技术的出口实施更严格的管制,并将其推广到全世界,旨在与其盟国共享这一做法。具体而言,美国商务部将控制这些技术的出口,其中还包括用于制造先进半导体芯片的光刻机器等,如果美国商务部认为此举会对美国国家安全造成影响,则有权否决此类出口。

上海微电子重磅出击:新一代光刻机问世!

从去年开始我们就频频听到关于光刻机的消息，这项技术之所以如此受到瞩目是因为它能够重新定义半导体行业的技术格局。根据目前掌握的信息，七纳米是该光刻机已经可以胜任的工艺，华为即将发布的麒麟九零零零零s芯片可能就是由它来生产。而正在研发的五纳米工艺也是华为所寄予厚望的，如果能够顺利实现的话，这将是一项开创...

喜大普奔!国产高端DUV光刻机突然官宣!节后抢筹概念股?

阿斯麦光刻机在其进化过程中，既关注纵向的技术进步（例如由I线DUV进化到AIFI，光学分辨率逐渐提升），也注重横向改进，例如套刻精度（从2.5纳米到1.3纳米）的不断提高，以及产能的逐步增加（例如从1980DI的2.5纳米和2.5wafer/hour，进化到2050F的1.3纳米和4.5wafer/hour）。此外，对于EUV光刻技术，...