江化微申请强化钼铌合金蚀刻专利,提升铜/钼铌金属叠层基板的蚀刻...
专利摘要显示,本发明公开了一种强化钼铌合金蚀刻的铜蚀刻液,按质量百分比计,铜蚀刻液主要组成为:过氧化氢5%~20%、有机酸5%~20%、有机碱3%~12%、金属保护剂0~0.25%、去离子水60%~77%;铜蚀刻液的pH值为2.1~3.6;有机酸为至少两种有机酸的组合。该强化钼铌合金蚀刻的铜蚀刻液通过优选铜蚀刻液的主要组...
晶圆蚀刻Etch工艺主要工艺步骤
技术:使用精细的蚀刻技术形成导电通道。4、GBL(全局连通):目的:形成晶片全局的连接框架。技术:大面积蚀刻,需要精确控制蚀刻深度和均匀性。5、SNC(信号层连通):目的:形成或调整信号层的电连接。技术:使用高精度蚀刻技术,确保信号完整性和功能实现。6、M0(金属零层):目的:构建初始金属连接层,作为电路的...
蚀刻液化学成分分析检测配方含量配比还原
其中,酸类成分如硫酸、硝酸和氢氟酸等,起到主要的蚀刻作用;碱类成分如石灰,用于调节溶液的pH值,促进蚀刻反应的进行;盐类成分如硫酸钠,在蚀刻液中作为填充剂使用;其他添加剂如氟化铵和草酸等,用于调节蚀刻速度和改善蚀刻效果。具体来说,硫酸和硝酸作为强酸,具有高溶解度和强烈的腐蚀性,能够有效地蚀刻金属表面,提高...
捷邦科技启动横向并购 拟控股赛诺高德
捷邦科技表示,公司账面货币资金为7.6亿元,主要来源于自有资金和募集资金,交易预计不会对公司日常运营产生较大不良影响。赛诺高德是一家以高精密金属蚀刻技术为核心的高新技术企业,主要为消费电子、汽车制造、半导体等行业客户提供金属蚀刻、电镀、激光切割、冲压等精密金属加工一站式解决方案。直接客户主要为比亚迪、领益...
郑大《Acta Materialia》:结构缺陷对镍催化合成金刚石蚀刻行为的...
此外,蚀刻坑的大小、密度和深度可以通过硼掺杂水平进行有效调节。NiNPs的横向移动会受到平面缺陷的限制,从而导致沿孪晶平面/堆叠断层的蚀刻速率增大。据观察,金刚石的晶界是金刚石向石墨转化的快速通道。这些结果深入揭示了缺陷在金属催化金刚石蚀刻过程中的作用,可作为金刚石半导体工业可控蚀刻的基础。相关工作以题为...
铸铜打磨、瓷片烧制切割、金属板蚀刻……天府国际机场里很多艺术...
铸铜上色打磨、瓷片烧制切割、金属板蚀刻等等,听上去和美术创作毫不相关、更像是闯进了某个工厂车间看到的工艺程序,其实恰恰是本次四川美术学院的艺术家们为天府国际机场量身打造艺术品的主要创作手段(www.e993.com)2024年9月8日。不仅如此,现场还有壁画作品真的融入了精巧细腻的真实蜀绣……多位参与创作的艺术家告诉上游新闻记者,这里面很多手法、...
日本半导体出口管制政策出台:这些设备、材料及技术都将受限!
此次正式公布的出口管制政策与之前公布的版本基本一致。被新增列入出口管制设备品类包括:3项清洗设备、11项薄膜沉积设备、1项热处理设备、4项光刻设备、3项蚀刻设备、1项测试设备。此外,查看原有的出口管制条例(2022年12月6日生效),部分碳化硅、金刚石、光刻胶等相关半导体材料,高质量的12吋半导体硅片制造、EUV、GA...
山东大学冯金奎教授AEM:一锅法蚀刻策略制备具有可调配位化学的...
导读:近日,山东大学冯金奎教授通过一种新的单点蚀刻策略,制备了具有可调控配位化学的分级多孔N-掺杂碳包覆的无氟Ti3C2Tx。二维过渡金属碳化物和氮化物(MXenes)在层间距扩展、表面终止改性和成分结构构建方面的持续和大量探索引起了储能领域的极大兴趣。然而,由于对MXenes的配位化学缺乏基本的理解,它们的使用仍然受到严...
金属蚀刻i5芯娱乐本 惠普dm4重力打造
惠普dm4-1118TX配备了一块主流的14英寸LED背光显示屏,沿用了自家的Brightview高亮屏技术,下沉式屏轴结合金属色泽的包边设计,可以更好的控制机身厚度,机身最薄处仅为25mm,特别值得一提的是,这是一台配备DVD光驱的笔记本,不同于一些牺牲光驱的轻薄设计。
《Acta Materialia》综述:增材制造金属的断裂与疲劳(2)
较高的温度退火通常会导致晶粒长大,改变晶粒取向,并能促进更多等轴组织的形成。这通常伴随着强度的降低、延展性的提高和各向异性的降低(这可能是可取的,因为AM金属通常包含柱状取向的微结构,特别是那些使用PBF工艺制造的微结构)。然而,较高温度的热处理并不能提高密度和表面光洁度。