华林科纳新一代槽式一体机——湿法刻蚀清洗一体机
一、工作原理湿法刻蚀:在将产品放入槽内后,槽盖密封关上,体内开始进行抽真空模式同时超声波开启,此方式利用超声波清洗在一定真空度下优质的空穴效应,增强化学蚀刻溶液与被蚀刻物体表面发生化学反应,排除工件表面和孔隙中的空气,从而有效的剥离或去除部分杂质或材料。DIW清洗:在刻蚀完成后,酸液回收冷却,槽内依然在一...
晶圆制造刻蚀工艺面试常见问题
请解释刻蚀工艺的基本原理以及在半导体制造中的重要性。在选择刻蚀工艺时,如何确定是使用干法刻蚀还是湿法刻蚀?请描述RIE(反应离子刻蚀)工艺的工作原理和应用场景。什么是选择性刻蚀,如何在实际工艺中实现高选择性?在刻蚀工艺中,如何控制侧壁的形貌以避免倒锥形或梯形剖面?等离子体刻蚀中的“异向性”和“各向同...
首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”
通俗来讲,它采用类似照片冲印的技术,将电路图形转移到硅片或介质层上,以实现电路图形的刻画和复制。光刻机的工作原理是采用波长为2000~4500埃的紫外光作为图像信息载体,以光刻蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。一般光刻工艺的基...
半导体制造技术之刻蚀工艺
第一步钝化过程,C4F8在等离子状态下分解成CF+x基,与硅表面反应形成高分子钝化膜,第二步刻蚀,通入SF6气体,增加F离子分解,F-与nCF2反应刻蚀掉钝化膜并生成挥发性气体CF2,接着进行硅的刻蚀。trenchETCHtrenchETCH中主要涉及的气体有CF4、SF6、CHF3、O2、AR-S,其中SF6、CHF3、和O2用在主刻步,原因是F原子...
东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...
投影式光刻机利用光学成像原理在掩膜版和光刻胶之间采用了具有缩小倍率的成像物镜,突破了之前的衍射限制,同时增加了掩膜版的使用寿命,有效的提高了分辨率。世界首台扫描投影式光刻机,采用了汞灯光源,分辨率为2μm。在工作过程中,扫描台上的硅片与掩膜版同时移动,汞灯发出的光线将掩膜版的图案投影在光刻胶上。(3...
桌面型等离子设备介绍|粒子|原子|等离子体_网易订阅
桌面型等离子设备的工作原理具体来说,桌面型等离子设备通过高频电源产生高压电场,使气体分子电离形成等离子体(www.e993.com)2024年10月19日。然后,等离子体被引导至物体表面,与物体表面的原子或分子发生碰撞、激发、解吸等过程,从而实现对物体表面的清洁、刻蚀、聚合、沉积等功能。桌面型等离子设备的特点...
效率性能达26.7%!中国科大钙钛矿太阳电池研究破世界纪录,徐集贤...
钙钛矿太阳能(4.820,-0.17,-3.41%)电池是一种新型的太阳能电池,其独特的三明治结构和基于光伏效应的工作原理,使得它在能量转换效率上展现出惊人的潜力。当太阳光照射到钙钛矿半导体材料上时,光子被吸收并激发出电子,这些电子与空穴之间形成的电势差,通过电荷传输层的提取,最终实现了对外的电能输出。这一过程不仅高效,而...
新书上架!德国高级工程师撰写《电子电路版图设计基础 》
2.9.1基本原理:场效应晶体管542.9.2工艺选项572.9.3FEOL:创建器件582.9.4BEOL:连接器件61参考文献62第3章技术桥梁:接口、设计规则和库633.1电路数据:原理图和网表643.1.1电路的结构描述643.1.2电路描述中的理想化653.1.3电路表示:网表和原理图66...
198亿,国产化率近80%,机器人带火的这条传感器赛道正处风口!
这将极大地提高工作效率,同时将有助于保障操作工人的安全。2.力传感器分类力传感器分类方式众多,可根据以下方式分类:①测量原理:可分为应变式、压电式、电容式、光学式等;②测力维数:可分为1-6维力传感器,其中以一维、三维、六维力传感器最为常见;③输出方式:可分为模拟传感器和数字传感器;④力的种类:可分为...
详解刻蚀清洗机的结构和工作原理
详解刻蚀清洗机的结构和工作原理三、清洗设备干燥方式通过去离子水清洗后,需要在最短的时间里把晶圆表面的水分去除,而且去除后晶圆的外表不要有任何水痕,否则会降低晶圆的良率。半导体生产上常采用以下几种干燥方式:旋转甩干、热氮气烘干、异丙醇慢提拉干燥及Marangoni干燥。