和美相比 中国科技到底是巨弱无比还是强悍到窒息
芯片制造有很多道工序,中微做的是其中的一环,叫做蚀刻机。在蚀刻机这一环做到世界领先当然很好,但中国在许多其他环节依然是落后的,甚至在有些领域是一片空白。媒体的炒作,对尹志尧来说,不但是浪费时间,牵扯精力,而且会影响商业利益,扰乱企业经营。这实际上是损人利己。另一种常见的错误是反过来,把中国说得巨弱无...
东方电子2023年年度董事会经营评述
在新能源和储能领域,快速响应新能源业务市场需求,开发了新能源主动支撑系统、网源协调系列装置、新能源柔性管理系统、宽频测量系统、智能微电网系统等一系列新产品并已投入现场运行,适应新型电力系统的新原理保护装置、宽频震荡监测及治理系统等新装备投入研发,产品链日益完善;新能源智慧管控、智能微电网、新能源二次总包...
蚀刻机和光刻机有什么区别,原理有什么不一样
刻蚀机和光刻机的区别:光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分。刻蚀相对光刻要容易。如果把在硅晶体上的施工比成木匠活的话,光刻机的作用相当于木匠在木料上用墨斗划线,刻蚀机的作用相当于木匠在木料上用锯子、凿子、斧子、刨子等施工。蚀刻机和光刻机...
光刻机的工作原理的原理是什么?怎么刻芯片?
而光复印技术就是光刻机,而刻蚀工艺就是蚀刻机。在光刻技术的原理下,人们制造了光刻机,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到晶圆上,不同光刻机的成像比例不同,有5:1,也有4:1。然后使用化学方法显影,得到刻在晶圆上的...
振奋人心!国产5纳米蚀刻机来了,核心工艺达到世界先进水平
那么蚀刻机的是怎么工作的呢?实际上,在芯片制造的过程中,首先会使用光刻机将特定的高精电路图复制到硅片上,随即会利用蚀刻机再按照这个图进行施工,并且在相关区域将标记点进行蚀刻,只留下芯片最重要的一部分。其实这个原理就是蚀刻机将前段硅及化合物进行蚀刻,后段就是对金属和电解质的蚀刻了。另外,蚀刻机的刻蚀...
他60岁创业,不惧美国多次打压,用14年造出全球最先进5nm蚀刻机
2017年4月,尹志尧宣布,中微已经掌握5nm技术,预计年底正式敲定5纳米刻蚀机(www.e993.com)2024年10月19日。无独有偶,两周后,IBM也宣布掌握5奈米技术。因此,尹志尧这一宣布,意味着中微在核心技术上突破了外企垄断,中国半导体技术第一次占领至高点。2018年12月,深圳中微半导体自主研发的5nm等离子体蚀刻机,近日已经通过了台积电的验证,这标志着...
中国光刻机距离顶尖水平还有较大差距,那么蚀刻机处在什么地位?
所以我国的光刻机水平距离世界领先水平还是有较大的差距的。我国的刻蚀机水平国内生产刻蚀机水平最高的企业为中微半导体设备(上海)有限公司(这家同样是有国资背景的企业,前两大股东也是国有企业,所以有人说我国光刻机没发展起来是因为国企的原因,这是不对的,中微半导体也可以说是国企,但是刻蚀机的技术水平...
CIS制造工艺回顾与展望
TSV需要一种称为深硅蚀刻机的特殊制造设备。TSV的制造需要其周围的隔离区(KOZ),这是需要没有任何电路的间隙区域。这限制了电路设计者可用于电路设计的区域。TSV仅提供基板之间的电连接。TSV和Cu-Cu键合的比较如图16所示。值得注意的是,与TSV相比,Cu-Cu混合键合技术需要更少的空间和简化的制造工艺,使其成为理...
半导体制造即将停摆?
干法刻蚀设备温度控制原理目前,台积电熊本工厂正在建设中,月产能为5.5万片,目标2024年投产。此类半导体工厂可能需要数百台或更多的干法蚀刻机。在干法刻蚀设备中,为了进行精细加工,必须精确控制硅片的温度。下面结合图5说明干法刻蚀装置的温度控制原理。图5干法刻蚀设备温度控制原理...
国产5nm芯片设备巨头,技术全球领先;官宣拒绝降价!
蚀刻机的工作原理是,通过特定的方法,将暴露在芯片特定电子区域的气体,提取到等离子体中,然后利用电场加速电离气体的能量,与蚀刻表面反应。具体来说,在电极RF的作用下,轰击硅片表面,打破硅片材料的化学键,与先前提取的电离气体,形成挥发性物质,然后被蚀刻机内部的真空管道抽走。这种方法也称为“感应耦合等离子...