【个股价值观】茂莱光学:工业级精密光学先锋,助力国产光刻机自主...

光学成像系统对半导体检测效果的高低有关键影响,光学器件精度需控制在几纳米以内,对误差和稳定性的要求极为苛刻,公司主要为半导体检测设备提供高精度的光学显微成像镜头及系统,具备更高分辨率、更大检测面积的光学系统能够极大地提高晶圆检测设备的缺陷甄别能力及测量通量;此外,茂莱光学为光刻机光学系统提供用于匀光、中继...

国林科技:臭氧清洗技术在芯片和光刻机清洗中的广泛应用

臭氧清洗技术可以用于先进封装中的晶圆清洗工艺环节。请问在芯片和光刻机清洗运用领域广泛吗?董秘回答(国林科技SZ300786):尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程。感谢您的关注。查看更多董秘问答>>免责声明:本信息由新浪财经从公开信息中摘录...

源达:国内光刻机发展道阻且长,国产突破行则将至

光刻机是半导体制造中最核心的设备，光刻机的性能直接决定晶圆产线的制程节点和产能上限。光刻机的基本结构由激光器、照明光学模组、物镜、晶圆传输模组、晶圆扫描模组和扫描刻线模组等组成。我们认为光刻机的核心器件包括激光器、光学镜头和工作台等：1)激光器是光刻机的光源，决定了光刻机的套刻精度和工艺节点;2...

半导体真正龙头:7大“光刻机”龙头,细分领域真王者!(名单)

7、江化微我国湿电子化学品龙头，超净高纯试剂、光刻胶及光刻胶配套试剂等湿电子化学品的研发、生产和销售。已具备G2，G3，G4等级产品的规模化生产能力，公司湿电子化学品规模化生产所需的纯化技术，混配技术，分析检测技术在国内处于领先地位。8、这是南烛最为看好的一家企业，理由如下：①我国排名前三的...

光刻胶量产只是突破的第一步

某种程度上,光刻胶和光刻机的关系可以比作墨水和圆珠笔芯的关系,因为光刻胶验证周期长,需要客户的高度配合,墨水需要匹配对应的圆珠笔芯,光刻胶的研发也会适配专门的晶圆厂工艺,专品专用,这也是门槛最高的地方。甚至于光刻胶厂商的上游原料供应商也需要得到晶圆厂的认可,更换原材料供应商还要得到晶圆厂的许可,这...

中科大教授:美国造不出光刻机,中国有机会吗?我国选择另开赛道

当然了，虽然台积电等客户离不开阿斯麦的光刻机，但阿斯麦也同样离不开客户(www.e993.com)2024年11月5日。要知道，阿斯麦生产的极紫外光刻机，有70%都是卖给台积电。还有30%则是卖给其他企业，比如三星等。换句话说，阿斯麦和台积电的关系，就如同中国和澳大利亚铁矿石的关系。这是属于一种双向互利市场，如果可以的话，没人跟钱过不去。当然，...

长鑫存储取得光刻机及光刻机的控制方法和控制系统、生产设备专利...

长鑫存储取得光刻机及光刻机的控制方法和控制系统、生产设备专利,提高晶圆的良率,专利,晶圆,光刻机,半导体,光刻胶,控制方法

ASML High NA EUV光刻机晶圆制造速度提升150%,可打印8nm线宽

5月30日消息,光刻机大厂ASML在imec(比利时微电子研究中心)的ITFWorld2024会议上宣布,其首款High-NAEUV光刻机已创下新的晶圆制造速度记录,超过了两个月前创下的记录。根据ASML前总裁兼首席技术官、现任公司顾问的MartinvandenBrink的说法,新的HighNAEUV光刻机晶圆生产速度达到了每小时400至500片晶圆...

EUV光刻机争夺战,正式开打

ASML的高数值孔径EUVTwinscanEXE光刻机的物理尺寸比低数值孔径EUVTwinscanNXE光刻机更大。现有且广泛部署的ASMLTwinscanNXE将光源放置在其下方,这需要非常具体的晶圆厂建筑配置,并且使维护这些工具变得更加困难。相比之下,高数值孔径TwinscanEXE机器水平放置光源,简化了晶圆厂的建设和维护,但需要更...

光刻机进场 开启“芯”动力

当日,增芯科技12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目(简称“增芯项目”)光刻机搬入活动在项目现场举行,这标志着增芯项目迎来建设的关键性节点,进入调试投产准备阶段。正式通线量产指日可待项目布局:近年来,增城加快构建以“芯显车”为主导的现代化产业体系,在培育发展集成电路产业方面,相继布局了增芯...