等离子表面处理技术在硅胶材料改性中的应用
1.改善粘接性:等离子处理能够在硅胶表面引入极性基团,如羟基、羧基等,这些基团能够显著增加硅胶的表面能,提高其与粘接剂或其他材料之间的粘接强度。2.清洁表面:等离子处理还能有效去除硅胶表面的微量污染物,如脱模剂、油污等,确保粘接或涂层处理的质量。3.活化表面:通过等离子处理,可以在硅胶表面形成微观粗糙度,...
机壳料去阻燃的方法有哪些?这些方法对产品质量有何影响?
3.机械剥离法机械剥离法是通过物理手段,如研磨、切割或剥离,来去除材料表面的阻燃层。这种方法适用于阻燃层较薄或易于剥离的材料。机械剥离法的优点是操作简单,对材料的整体性能影响较小。然而,这种方法可能会导致材料表面的粗糙度增加,影响产品的外观和手感。4.溶剂溶解法溶剂溶解法是利用特定的溶剂来溶解材料...
为什么和田玉表面粗糙:粗糙度高、不光滑的原因解析
在和田玉销售领域,也有一些业内人士认为和田玉表面粗糙度可以反映其品质。他们认为,和田玉材质好、制作工艺精湛的橄榄油产品表面晶莹剔透、光洁亮丽;而品质不佳的不光滑和田玉料表面会有毛糙、小凹坑等缺陷。在这个观点下,和田玉表面粗糙则比表面光滑的例如产品更容易被质疑其品质。总的瑕疵来说,和田玉料表面是否粗...
金属3D打印的表面处理方法
激光抛光利用高能激光束再次熔化零件表面材料以降低表面粗糙度。目前,激光抛光零件的表面粗糙度Ra在2~3μm左右。由于激光抛光设备成本较高,在实际的3D打印后处理工艺中并未得到广泛应用。化学抛光化学抛光的直接结果是微粗糙度平滑和抛光形成,以及上层的平行溶解。在小型增材制造中,去除中空结构或带有中空结构零件表...
《食品科学》:上海理工大学马悦博士等:抗生物黏附材料的构建及在...
进一步降低疏水材料的表面能,构建对所有液体均显示出强大排斥功能的全疏表面(静态水接触角>150°;滑动角<5°),有望进一步减少生物污染物的黏附并预防生物被膜的产生。Cassie模型是一种典型的全疏水表面,其基本原理是在平滑的疏水材料表面引入微纳米级别的粗糙结构,利用粗糙结构中的凹槽截留空气,从而形成气穴,以降低...
综述:钠离子电池层状氧化物正极综述:降解机制、改性策略和应用
作为一种重要的层状氧化材料,具有二维输运通道的NaxTMO2具有由共用TMO6八面体薄片和NaO6碱金属层的边缘交替堆叠形成的结构(图3A)(www.e993.com)2024年10月20日。TM层沿c轴的不同堆叠模式导致了多种层状结构,为层状氧化物的后续结构设计和调制提供了更多的可能性。根据Delmas提出的层状结构分类符号,根据Na层配位环境和o层堆叠顺序,可以将NaxT...
中南大学王海鹰/广州大学黄磊JECE:具有特定暴露表面的金属钴点...
对不同碳化温度下Co-NC的研究表明,碳化温度升高会导致Co-NC的形态发生更明显的塌陷,表面粗糙度增大。当温度达到800°C时,结构开始恶化(图2f)。相应的能量色散X射线光谱(EDS)图显示,Co-NC中含有Co、C和N元素(图2g)。所有元素的分布相对均匀(图2h-j)。
【综述】碲锌镉衬底表面处理研究
抛光粉的粒径大小和形状主要影响加工工件的表面质量和材料去除速率,通常,粒径越大以及形状越不规则,则材料的去除速率越快,表面质量也越差,如表面粗糙度大、划痕多等;反之,则去除速率慢,表面质量好。抛光垫具有贮存抛光液及去除抛光过程产生的残留杂质等作用,抛光垫的种类(或材质)也是影响工件抛光效果的主要因素之一...
一万八干字详解半导体刻蚀工艺_腾讯新闻
1.物理刻蚀(PhysicalEtching):物理刻蚀指的是通过物理作用去除材料的过程,不涉及化学反应。溅射(Sputtering):这是一种常见的物理刻蚀方法,其中高能离子撞击材料表面,将原子或分子从表面撞出,从而实现刻蚀。这种方法广泛用于精细图案的制造,尤其是当需要各向异性刻蚀时。
【复材资讯】高强铝合金电弧增材制造的研究进展
降低丝材表面粗糙度[41],去除丝材表面的油脂、水分等氢源头的碳氢化合物[45]。(2)优化工艺参数。调控合理工艺参数,包括优化保护气体、降低热输入、优化热源[46]、调整熔滴过渡形式[47]和主动调控层间温度[48]等。(3)辅助能量场或复合增材技术。采用激光-电弧复合工艺[49]、超声波辅助电弧[50]、层间冷轧[51...