国产进入新一轮研发潮:电子束曝光机市场与企业盘点

JEOL的电子束曝光机产品主要有电子束光刻系统(可变矩形束电子束光刻)、电子束光刻系统(圆形电子束光刻)等。1967年,JEOL完成JBX-2A电子束光刻系统;1998年,JBX-9000MV电子束光刻系统完成;2002年,JBX-3030系列电子束光刻系统完成;2017年,与IMS共同发布世界首台量产化电子束光刻机并投入市场。目前,JEOL的电子束曝...

EUV光刻,日本强在哪儿?

尼康、佳能与ASML曾经并称光刻机三巨头,但因为选错了路线,前者错失了ASML193纳米浸没式光刻技术,逐渐没落,尤其是在EUV极紫外光刻技术上毫无建树。但在EUV光刻环节,除了EUV光刻机这个最受瞩目的设备产品外,EUV光源、EUV掩膜和EUV光刻胶以及其他配套设备等,一直是EUV光刻的重要技术组成部分。芯片光刻流程图光刻...

国产电子束光刻机面临诸多问题,未来将走向哪里 | 年会专刊

其中,目前性能最优的国产化电子束光刻设备包括DB-8型号电子束曝光设备、DY-70.1μm电子束曝光系统,均为高斯束类型。在变形束方面主要有DJ-2μm级可变矩形电子束曝光机,而在多束方面在过去并无相关研究,仅有电工所开展了多束的前身技术——投影电子束曝光的研究,设备代号为EPLDI。国内研发设备的加速电压停留...

除了EUV光刻机,5nm芯片还需要一种关键设备,也被美国禁售

目前全球仅4家主要企业,能够制造这种多束电子束光刻机,分别是日本的JEOL公司、Nuflare公司、德国的Vistec公司和奥地利的IMS(IMSNanofabricationGmbH)公司。其中IMS已被英特尔收购。这4家中,日本Nuflare公司最牛,拿下全球90%的份额,也是唯一一家能够具备3nm摸膜板制备能力的厂商。而这种设备,当然也是被禁运的,...

无光罩光刻,靠谱吗?|光学|电子束|光刻胶_网易订阅

那么这个时候非光学就该登场了,首当其冲便是电子束光刻机,也被称为ebeamwriter。无论是Raith还是JEOL都可以实现10nm以下的直写分辨率。ebeamwriter的发展经历了高斯束,可变束(VSB)和多电子束(MEB)的发展,依托先进的电磁手段来精确控制电子束的束斑大小和扫描路径,在提升设备分辨率的同时,也改善了设备的产出性能...

行业需求旺盛+国产替代,直写光刻头部企业迎快速发展——芯碁微装...

以扇出形封装(Fan-Out)为例,在重布线(RDL)环节,拼装过程中芯片会产生位移,使得使用掩膜版的光刻机难以精确定位(www.e993.com)2024年11月25日。而无掩膜直写光刻设备可以在使用软件侦测位移后,通过RDL,重新将裸片(die)连接起来,这样效率和成品率都会有一定提升。随着效率和技术的不断提高,直写光刻设备在先进封装中的应用有望更加普遍。

HOYA和东芝的争夺之战!半导体掩膜光刻设备企业Nuflare是什么样的...

在7nm以后,如果是利用逐步导入到量产工程的极紫外光光刻技术的话,其费时的特点更加显著。与ArF液浸+MultiPatterning技术相比,曝光次数减少,掩膜上描绘图案增多,普遍认为EUV以后多光束是必须的!IMS、日本电子的MultiBeam(多光束)领先于其他Nuflare在多光束方面存在落后于人的现象,虽然向主要客户提供了测试的设备...