中国成功研发国产光刻机,打破美国制裁壁垒!
上海微电子今年更是在EUV光刻机技术上申请了新专利,这意味着我们在这一领域已经积累了相当的技术壁垒。掌握这项技术,未来我们的目标将更近一步。国产光刻机的问世不仅是技术的突破,更是精神胜利的体现。只要坚持自主创新,突破一切技术壁垒,让科技真正掌握在自己手中,才能实现自强不息的愿景。#迎接未来的挑战...
荷兰加大对中国科技限制,中国自主研发光刻机成功问世
最近,中国成功自主研发了光刻机,这标志着美国和西方国家对中国的全面封锁策略彻底失败了。然而,最受伤的是荷兰,因为他们失去了最大的光刻机客户,损失了不少经济利益。不得不说,成为美国的盟友,真的是一种“致命”的选择。
中国独立研发光刻机需要向美国报备吗?
中国本来想要的不是光刻机,而是芯片,光刻机我们本来没必要研发,是ASML公司要断授权、断维修、断零配件,那我们也没必要守规则,其实我们自研光刻机对国内的亲美买办势力的伤害才是最大的。造不如买买不如租听起来好像很有道理的,毕竟西方又搞自由市场,然后欧美就借着这个由头在国内培养起了庞大的买办势力,甚至...
扬眉吐气!国产光刻机研制成功,各国反应:荷兰、美、韩笑不出来
在我国很多科研人员的不懈努力之下,我国在光刻机领域终于取得了一些进展,成功研制出DUV光刻机。光刻机的主要分类有DUV光刻机和EUV光刻机,DUV光刻机的光线是深紫外光,EUC光刻机的光线是极紫外光。DUV用于7纳米以上距离芯片的制作要求,EUV则是用于5纳米以及以下,尺寸更小,精度的要求也越高。以上内容参考自人...
运营商财经网康钊:中国攻克了8纳米光刻机技术?
中国研发成功了氟化氩光刻机,最起码意味着光刻机能够在晶圆上实现非常高的图案对准精度。这对于生产先进的芯片非常重要,因为芯片的制造需要在晶圆上进行多次曝光和刻蚀,每次曝光都需要精确对准前一次曝光的图案。如果套刻精度不够高,就会导致芯片上的图案出现偏差,从而影响芯片的性能和良率。
丰茂股份:研发中心升级建设项目涉光刻机用橡胶密封圈材料研发...
董秘你好,看咱们公司之前的招股书,公司有在研究光刻机用橡胶密封圈用材料,你能不能介绍一下相关情况?董秘回答(丰茂股份SZ301459):尊敬的投资者,您好,公司募投项目研发中心升级建设项目将在整合目前公司研发资源基础上,进一步拓展相关材料研发领域,增强公司研发实力(www.e993.com)2024年9月21日。请您关注公司于交易所指定媒体巨潮资讯网披露的公...
国产光刻机问世了,究竟意味着什么?美国还能对中国卡脖子吗?
在2024年前的七个月中,我们进口了3081亿片芯片,支出了2120亿美元。如果未来新型国产光刻机能够正式投入商业使用,它将大幅满足国防、工业等领域的大部分芯片需求,从而降低对进口芯片的依赖。另一方面,新推出的国产光刻机表明中国成功突破了美国的技术封锁。独立自主研发光刻机是美国无法实现的,而我们中国做到了。...
冠石科技:上半年营收增长57.59% 掩膜版光刻机设备成功交付
公司表示始终将客户的需求放在首位,致力于提供最优质的服务和解决方案,并于上半年成功签约新的行业龙头客户,为公司未来的发展注入了新的动力。光掩膜版项目获突破进展,光刻机重磅设备顺利交付与此同时,报告期内,冠石科技光掩膜版项目也取得了关键进展。此前,子公司宁波冠石半导体与宁波前湾新区签署了投资协议书,...
国产DUV光刻机研制成功,各国反应:荷兰气愤,韩国美国意外
如今我们中国不仅突破了芯片的封锁,还成功研制出了国产DUV光刻机,那么世界各国又有着怎样的反应?我国已自主研发出国产光刻机提及光刻机,相信大多数人一时半会儿,都不能够具体的说出它是干嘛的,但一直有着这么一句话叫做“光刻机比造原子弹还难!”,你就能想到光刻机有多么重要,同时研发难度有多大了!
打脸“唱衰派”,中企光刻设备专利公布,7nm以下芯片指日可待
9月10日,上海微电子公布了其研发人员自主研发的“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利,一时间,关于中国版光刻机即将问世的讨论甚嚣尘上,这预示着,7nm以下芯片的实现已经指日可待。那么,这项发明专利的公布,究竟意味着什么?它又将如何影响全球芯片产业的格局?