怡达股份:致力于解决半导体级PM及PMA供应问题,争取打破国外垄断

金融界6月14日消息，有投资者在互动平台向怡达股份提问：高纯PMA是ArF光刻胶树脂的主要原材料，质量占比仅5%-10%，但成本占光刻胶原材料总成本的97%以上，目前国内半导体级PM及PMA的供应仍为空白，几乎全部依赖日本进口。贵公司在此方面有无投入？是否可以打破国外垄断？公司回答表示：持续研究开发提升电子化学品的...

百川股份:公司PMA产品年产能为5万吨

百川股份：公司PMA产品年产能为5万吨金融界5月27日消息，有投资者在互动平台向百川股份提问：董秘您好！今天午后半导体产业链爆发，百川股份回封涨停。消息面上，根据财联社报道，国家集成电路产业投资基金三期股份有限公司于5月24日正式成立，注册资本达3440亿元。请问百川股份是否还在生产光刻机溶剂PMA或其他光刻机、...

投资者提问:高纯PMA是ArF光刻胶树脂的主要原材料,质量占比仅5%-10...

高纯PMA是ArF光刻胶树脂的主要原材料,质量占比仅5%-10%,但成本占光刻胶原材料总成本的97%以上,目前国内半导体级PM及PMA的供应仍为空白,几乎全部依赖日本进口。贵公司在此方面有无投入?是否可以打破国外垄断?董秘回答(怡达股份SZ300721):您好!感谢您的关注,持续研究开发提升电子化学品的质量和用途是我们高质量...

...材料壁垒突破,“专精特新”企业助力国产替代加速_防盗_半导体...

光刻胶主要用于微电子领域的精细线路图形加工,是微制造领域最为关键的材料之一,自1959年被发明以来,光刻胶就成为半导体工业的核心工艺材料,随后被改进运用到印制电路板的制造工艺,成为PCB生产的重要材料;二十世纪九十年代,光刻胶又被运用到LCD器件的加工制作,对LCD面板的大尺寸化、高精细化、彩色化起到了重要的推动...

重庆市人民政府办公厅关于做好2024年市级重点项目实施有关工作的...

★重庆高新区三安半导体碳化硅衬底项目总建筑面积24万平方米,建设月产4万—4.5万片8英寸碳化硅衬底生产线续建西部科学城重庆高新区管委会48★重庆高新区12英寸集成电路特色工艺线一期建设月产2万片40—50纳米12英寸集成电路特色工艺线续建西部科学城重庆高新区管委会49重庆光掩膜版制造项目建设光掩膜...

苏州华林科纳半导体---用湿化学工艺制备的超薄氧化硅结构

所有硅衬底的表面在氧化之前都用标准的RCA工艺清洗(即(www.e993.com)2024年11月14日。浸泡在NH4OH+H2O2水溶液和然后用5wt%蚀刻氢氟酸。近十年来,湿化学法制备超薄二氧化硅结构的技术和研究得到了迅速发展。这种结构最重要的优点之一与大尺寸硅晶片上氧化物层的均匀生长有关。当然,氧化层和氧化物/硅界面的质量也非常好。在硝酸溶液中湿法制备的氧...

高速Serdes:半导体产业的前沿发展与投资机遇 | 一村研究社

另一方面,高速Serdes在高频率下运行,对半导体的制程工艺提出了更高的要求。上一代Serdes往往都是以传统模拟方式实现,从16nm开始,在速度大于56Gbps时,收发器已经转向基于ADC/DSP的策略,其中有很大一部分仍为模拟电路,但还有接近50%的电路是数字电路。因此,当应用到更加先进节点时,面积和功耗会有一定程度的改善。

光刻胶专题分析:半导体产业核心卡脖子环节,国内厂商蓄势待发

1、半导体光刻胶:半导体制造关键原材料之一1.1、光刻工艺中最关键的耗材,承担图形转移介质重任光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。集成电路制造工艺繁多复杂,其中光刻、刻蚀和薄膜沉积是半导体制造三大核心工艺,其中光刻的主要作用是将印制于掩膜板上的电路图复制到衬底晶圆上,为下一步进行刻蚀或者离子...

又一半导体核心设备成功突围,国产高端温控器破解卡脖子难题

超高的技术门槛使得能进入半导体领域的串级温控器厂商屈指可数,以往只有日本AZBIL、英国PMA和美国WATLOW旗下EUROTHERM等少数品牌可以满足要求。而宇电新推出的AI-8半导体设备专用串级温控器去年成功进入光伏制造领域,成为目前唯一一家产品通过光伏半导体市场验证的国产温控器企业。

宽禁带半导体物理专题|《中国科学:物理学 力学 天文学》中文版

《中国科学:物理学力学天文学》中文版2022年第9期出版“宽禁带半导体物理专题”,由厦门大学物理科学与技术学院张峰教授和南京大学电子科学与工程学院刘斌教授共同组织。编者按宽禁带半导体材料(GaN、SiC、Ga2O3、AlN、金刚石等)正带来全球新一代电力电子与光电子技术的颠覆性变革,其中包括5G和6G通信、高续航新...