上海积塔半导体申请原子层沉积控制专利,提升薄膜均匀性

专利摘要显示,本申请涉及一种原子层沉积控制方法以及控制设备、沉积设备,包括:用于控制工艺腔室执行N次目标工艺步骤对其内的晶圆表面沉积目标厚度的目标膜层;其中,执行第i次目标工艺步骤包括:在向工艺腔室内通入交替前驱气体期间,控制励磁源向工艺腔室内施加第一磁场的同时,控制晶圆载盘向晶圆表面施加静电场,使得种前驱...

...设备产品,逐步拓展市场应用领域,用于半导体、光刻机、面板等工艺

子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入,2023年以来陆续在半导体、光刻机、面板、科研等行业领域出货验证,该产品用于化学气相沉积(CVD)、原子层薄膜沉积(ALD)、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中。是否属实?董秘回答(国林科技(17.200,0.56,3.37%)SZ300786):尊敬的投资者,您好。类似的问题...

国林科技:公司拥有并掌握半导体行业用臭氧清洗设备多项关键技术...

金融界10月21日消息,有投资者在互动平台向国林科技提问:公司半导体用臭氧设备产品在半导体、面板、科研等行业领域出货验证,该产品用于化学气相沉积(CVD)、原子层薄膜沉积(ALD)、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中,请问公司该类产品属于国产替代吗?公司回答表示:公司目前拥有并掌握了半导体行业用臭氧清洗设备制造及...

上海光驰半导体:获投2亿!ALD(原子层沉积)技术

ALD（原子层沉积）技术在半导体制造领域具有广泛的应用前景，光驰半导体凭借在该领域的深厚技术积累，已经赢得了市场的广泛认可。此次增资将进一步提升公司的市场竞争力，加速ALD技术的商业化进程，为半导体行业的发展贡献更多力量。综上所述，水晶光电通过翎贲聚光基金对光驰半导体的增资，不仅体现了双方对半导体行业发展的共...

山东省重大项目!思锐智能半导体先进装备研发制造中心项目封顶

据悉,青岛四方思锐智能技术有限公司成立于2018年,总部位于中国青岛,并在北京、上海设有研发中心。思锐智能主要聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售,提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案。该公司产品包括原子层沉积(ALD)设备及离子注入(IMP)设备,广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源...

这项ALD技术 牵引国产半导体设备攻克难关

ALD技术全称为原子层沉积技术,在半导体、光伏、新型显示、柔性电子、新能源等领域具有多种应用,是非常关键的核心工艺之一(www.e993.com)2024年11月1日。微导纳米董事会秘书龙文介绍,它通过交替输入不同的气体,使得这些气体在基底上形成原子级厚度的薄膜。由于沉积是在原子层级进行的,所以制备出来的薄膜具有非常好的覆盖率和均匀性,可以在复杂的形貌...

半导体设备增长812.94%,微导纳米没有估值焦虑

的事儿。”如果只看基数,半导体设备的收入尚不及光伏设备,顶多算作“第二增长曲线”;不过立足微导纳米以ALD(AtomicLayerDeposition,原子层沉积技术)为核心,CVD(CentralVehicleDepot,化学气相沉积技术)等多种真空薄膜技术梯次发展的定位,以及中国芯片制造国产化替代的历史洪流,显然半导体业务才是“被低估”的关键...

光伏行业深度报告:成结、镀膜、金属化,探究电池技术进步的本质

总体来讲,SE比常规电池更能平衡好金属半导体间接触电阻和光子收集之间的矛盾。由于硼扩有技术难度,在硼扩基础上做SE比磷扩SE难度大,当前主要有一次硼扩和二次硼扩这两种技术路线。通威股份有个《基于PECVD技术制备超薄隧穿氧化层及poly-Si在TOPCon电池中的应用》,里面提到,在行业里,常见的硼扩SE总共有五种...

面向未来高性能电子器件的石墨烯纳米带

5氮化硼层间锯齿形石墨烯纳米带及其高性能晶体管为满足未来电子器件应用的需求,除了制备超长、手性统一的半导体性石墨烯纳米带外,还需要进一步提高纳米带原型器件的性能。理论上,宽度小于5nm的石墨烯纳米带不仅具有合适的带隙,其载流子迁移率可达单晶硅的十倍(约10000cm2V-1s-1),是未来集成电路的理想沟道材料...

研报

屡获重复订单;5)卧式炉管设备方面,主要为光伏客户提供氧化扩散、等离子体化学气相沉积、低压化学气相沉积三大技术平台基础上的硼扩、磷扩、氧化退火、正/背膜氮化硅沉积、多晶硅沉积、多晶硅掺杂、隧穿氧化层沉积、异质结非晶硅薄膜沉积等20余款工艺设备,适用于PERC、TOPCon、HJT等多种技术路线工艺应用,实现主流客户全...