蚀刻(Etch)的原理、设备及工艺简介
蚀刻(Etching)是在半导体制造过程中的关键步骤之一,主要用化学或物理方法去除基片上特定区域的材料,形成所需的精细电路图案。在Bump工艺中,蚀刻步骤对于电路连接的质量和整体可靠性至关重要。二、蚀刻设备及其功能蚀刻机种类:干法蚀刻机:主要采用等离子体技术,通过放电产生高能粒子,实现对材料的去除。这种方法具有高选...
长鑫存储取得半导体干式蚀刻机台及其工艺流程专利,可以简单又有...
金融界2024年5月3日消息,据国家知识产权局公告,长鑫存储技术有限公司取得一项名为“半导体干式蚀刻机台及其工艺流程“,授权公告号CN109962002B,申请日期为2018年4月。专利摘要显示,本发明属于半导体技术领域,具体为半导体干式蚀刻机台及其工艺流程,该机台包括依次设置的气闸室、真空传输室以及工艺腔,气闸室通过氮气管...
晶圆蚀刻Etch工艺主要工艺步骤
案例1:ISO步骤中的过蚀问题:问题描述:在ISO步骤中,由于控制系统故障导致蚀刻时间过长,造成过蚀。解决策略:立即停止蚀刻过程,检查和校准蚀刻机的时间控制系统,重新进行蚀刻前的设定,避免未来此类问题。案例2:MLM步骤中的不均匀蚀刻:问题描述:在进行多层掩模蚀刻时,发现某些区域蚀刻不足。解决策略:分析蚀刻剂的...
至纯科技:已实现背面蚀刻功能,工艺指标可对标国际大厂
金融界11月10日消息,至纯科技在互动平台表示,Backsideclean(晶背清洗)工艺是在芯片制造工艺中相当重要的湿法工艺,其功能是将晶圆背面的金属污染物清除,把颗粒洗净,让晶圆以最佳状态进入光刻机。目前公司已实现Backsideetch(背面蚀刻)功能,达到客户的验收标准。通过背面单片机台清洗后,可实现较少的剩余颗粒...
北方华创(002371.SZ):已发布应用于晶边刻蚀工艺的首台国产12英寸...
北方华创回复称,公司近日发布了应用于晶边刻蚀工艺的首台国产12英寸CCP晶边刻蚀设备AccuraBE,该设备已在客户端量产,其优秀的工艺均匀性、稳定性及快速维护能力赢得客户高度评价。
半导体蚀刻系统市场预计复合年增长率为2.5%
技术进步带来的半导体领域的扩张正在推动该地区半导体湿法蚀刻系统市场的增长(www.e993.com)2024年7月28日。晶圆刻蚀系统与光刻和沈积设备等其他半导体设备结合使用,以生产复杂的集成电路和其他半导体器件,用于各种半导体製造工艺。此外,3D封装和异构集成等先进封装技术的日益采用也推动了对复杂湿法刻蚀工艺的需求,以形成复杂的结构和图案,从而推高...
腾鑫精密:蚀刻是当下PEM钛板制造的最优选
蚀刻工艺的导入是化解以上难题的关键,腾鑫精密研发的蚀刻技术工艺在PEM电解槽钛极板生产过程中起到了重要作用。腾鑫精密在大型极板方面有着比较长时间的技术积累,其用于钛板制造的蚀刻机有12个头的蚀刻线,总长超过50m,在效率和成本上都极具竞争力。蚀刻加工的产品整板平整度好,不变形、没有毛刺、压点,不影响产品...
??PEM电解槽钛极板蚀刻经济性分析
在2023高工氢电年会上,金泉益总经理谢金发详细介绍了蚀刻工艺在PEM电解槽钛板制造过程中的经济性,在他看来,蚀刻是当下PEM电解槽钛板制造的最优选。蚀刻工艺如何助力钛板制造降本?在PEM电解槽的制备过程中,极板的制造尤为重要,目前PEM电解槽极板制造主要有冲压、蚀刻和机加工三种不同的工艺路线,蚀刻工艺在生产周期...
【芯片制造工艺】刻蚀(中):新进展和终点控制
原子层刻蚀ALE是一种利用连续自限反应去除材料薄层的技术,被认为是实现原子级时代所需的低工艺变异性的最有前途的技术之一。ALE可以选择性地去除超薄材料或仅原子,而不损坏其周围的结构。ALE是单层蚀刻:它能够从基材上逐层受控地去除材料,蚀刻厚度约为单层的数量级。ALE基本步骤是是先形成反应层的改性,然后仅去...
...主要产品包括半导体显示光刻胶剥离液和蚀刻液(附调研问答)
答:2022年8月,公司子公司与日本长濑达成技术授权合作,主要产品包括半导体显示光刻胶剥离液和蚀刻液。基于双方的顺利合作,为加深合作关系,互利共赢,进一步扩大合作范围,今年3月,与日本长濑签署新的合作协议,新增先进封装RDL光刻胶剥离液技术使用许可。问:公司在新能源领域业务情况及相关发展策略...