首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

如果光刻工艺制程来说,28nm称得上是一个临界点,在此之下的制程,比如5nm/7nm/10nm都可以称之为先进制程,这也是大多数消费端用户最为熟知的领域,因为我们天天都在使用的手机、电脑芯片目前都是先进制程下的产物,而这也会让人产生一种自然而然的理解:只要不是先进制程的芯片,就是已经过时的芯片。但事实其实没有这么...

3.8亿美元!ASML光刻机重大突破!外媒:2nm芯片要来了

近日，荷兰ASML公司宣布正式突破技术壁垒，研发出新一代High-NA（高数值孔径）的EUV（极紫外线）光刻机，不少外媒纷纷表示：2nm芯片要来了！据ASML官方消息，新一代High-NAEUV光刻机能够支持2nm及以下先进制程芯片的生产，这意味着半导体制造技术又向前迈进了一大步。然而，技术的进步往往伴随着成本的上升，据悉...

台积电计划2025年推出2nm芯片,为何台积电要疯狂“卷”工艺?

首先，我们正在集中精力研发国产EUV光刻机，中科院、华为、清华大学等已经取得了技术上的突破。其次，我们的芯片技术已经攻克了5nm，只要EUV光刻机一到位，我们就能在极短的时间内实现5nm芯片的量产。最后，到了2nm工艺后，距离摩尔定律的1nm只有一步之遥，可以预料，台积电的技术迭代会放缓，甚至停滞，这给了中国芯...

【Lancet】突破性!中科院田捷团队研发出针对神经胶质瘤手术的精确...

团队评估了靶向单羧酸转运蛋白4(MCT4)的探针在识别神经胶质瘤方面的有效性,以及近红外窗口II(NIR-II)荧光分子成像和光热疗法,作为治疗策略的有效性。2024年7月16日,中科院自动化研究所田捷团队在期刊《TheLancetDiscoveryScience》上发表了题为“Near-infraredIIfluorescence-guidedglioblastomasurgerytargetin...

载药领域重大突破不断!这台亚微米红外,连发多篇高水平文献

中科院过程工程研究所马光辉院士团队研发了用于治疗2型糖尿病有效期长达1个月的利拉鲁肽缓释微球,并利用mIRage对利拉鲁肽微球的药物与载药颗粒的化学成分与空间分布进行了鉴定,该成果以《Developmentof1MonthSustained-ReleaseMicrospheresContainingLiraglutideforType2DiabetesTreatment》为题发表在ACSAp...

安徽省人民政府办公厅关于印发安徽省“十四五”科技创新规划的通知

强化科技支撑和应用示范,深入推进十大新兴产业关键核心技术攻关,在核心基础零部件(元器件)、关键基础材料、先进基础工艺和软件、产业技术基础等方面实现突破(www.e993.com)2024年11月23日。支撑战略性新兴产业、高新技术产业高质量发展。提升十大新兴产业技术创新能力。围绕新一代信息技术、新能源汽车和智能网联汽车、数字创意、高端装备制造、新能源和节...

源达研究报告:国内加快成熟制程扩产,光刻胶国产替代加速突破

国内加大成熟制程扩产力度,相关晶圆厂对光刻胶等半导体材料的国产化意识持续提高。目前国产公司已在多款高端半导体光刻胶产品上取得重要突破,未来光刻胶国产化步伐有望加速。建议关注:彤程新材和华懋科技等。2.盈利预测表4:重点公司Wind一致预测资料来源:Wind(数据截至2024/04/23),源达信息证券研究所...

中科院芯片新突破,跳过EUV光刻机,或实现技术超车

台积电在3nm和2nm工艺上取得了进展，但如果摩尔定律确实已达到极限，那么在达到1nm工艺后，进一步发展将非常困难。在我们努力寻求芯片技术突破的同时，我们可能已经达到了技术的极限，这使得我们更加难以放弃传统的硅基芯片，并试图在技术上取得领先。中科院在微芯片领域带来了令人振奋的消息，整个半导体行业都在...

“网红”碳基半导体进展如何?是否像预期的一样完美?盘点2020-2024...

一句话,换赛道——突破摩尔定律,解决电子迁移率和能耗问题。能效比是半导体行业一直以来的追求。按照科学家的预计,硅基芯片的物理极限在1nm。而按照晶圆厂们的工艺演进,3nm后的工艺是2nm,再之后的工艺是1.4nm。因为硅基材料所限,硅基芯片性能的缺陷会变得愈发明显,无法再往1nm以下推进。比如:...

我国哪些材料被“卡了脖子”?16种“国产替代”新材料详解

国内己二腈技术有所突破,尼龙66全产业链进口替代可期。目前华峰集团已攻克己二腈“卡脖子”技术,其全资子公司重庆华峰聚酰胺有限公司已经计划建设30万吨己二腈、30万吨己二胺和30万吨尼龙66全尼龙66产业链装置,其一期、二期工程已经陆续建成投产。而中国化学与天辰公司等共同研发的“丁二烯直接氢氰化法...