为什么说GDS文件是芯片设计的图纸?

晶圆制造:制造晶圆是芯片制造的起点,包括硅晶圆的生长、抛光、涂覆光刻胶等步骤。在这些过程中,GDS文件中的布局指引着各个元件在硅片上的位置和形状,确保电路能够精确复现。光刻:光刻是GDS文件最直接的应用阶段。在这一阶段,GDS文件用来制作掩模版,掩模版将用于将电路图案精确转移到硅片上。光刻技术越精细,芯片的性...

揭秘半导体行业:分析技术如何重塑未来?|组分|离子|试剂|光刻胶|...

光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体。是指通过紫外光、电子束、准分子激光束、粒子束、X射线等的照射或辐照,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,主要用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,主要应用于电子工业和印刷工业领域。其组成部分:主要由成膜...

股票行情快报:容大感光(300576)11月19日主力资金净卖出2406.40万元

容大感光(300576)主营业务:PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶及配套化学品等电子感光化学品的研发、生产和销售。资金流向名词解释:指通过价格变化反推资金流向。股价处于上升状态时主动性买单形成的成交额是推动股价上涨的力量,这部分成交额被定义为资金流入,股价处于下跌状态时主动性卖单产生的的成交额是推动股...

DMF的定义和市场应用是什么?这些应用如何影响相关行业的竞争力?

在化工领域,DMF常作为溶剂用于生产聚氨酯、聚酰胺和聚氯乙烯等高分子材料。其优异的溶解性能使得它在合成复杂有机化合物时扮演重要角色。在制药行业,DMF用于合成多种药物中间体,有助于提高药物的纯度和效能。电子行业中,DMF被用作清洗剂和光刻胶的溶剂,对于确保半导体器件的制造质量至关重要。在纺织业,DMF用于人造纤...

2025-2029年中国掩膜版行业投资规划及前景预测报告

首先分析了中国掩膜版的发展环境及国内外掩膜版的发展状况;然后报告分析了掩膜版产业链上游的发展状况——玻璃基板、光刻机、刻蚀设备、光刻胶,并深入分析了掩膜版产业链下游的发展状况——半导体、平板显示、印刷电路板及触控;随后,报告分析了国内掩膜版主要企业的经营状况;最后,报告重点分析了中国掩膜版的投融资状况...

各赛道细分龙头(建议收藏)

此外,2016年底至2017年初,全球和美国出现一轮明显的通胀冲击(www.e993.com)2024年11月22日。由于当时全球经济处于企稳之初,市场对于通胀的担忧更大(甚至出现滞胀担忧),因此我们把2016年第四季度至2017年初定义为通胀冲击阶段。经济相对表现上,尽管美国经济的周期韧性更强,但是基本面的相对表现上仍有差异。如图8所示,2017年大部分时间内,在全球共振...

集成光子封装的双光子3d打印技术,打印微透镜耦合和光子引线键合

在近红外区域工作的激光通过物镜聚焦到样品上，提供高光强度，通过双光子吸收被光刻胶中存在的光引发剂吸收。要为镜头选择合适的放大倍率，书写速度必须与所需的分辨率相平衡。放大倍率越高，结构分辨率越精细，但写入速度会显著降低。共聚焦成像系统有助于定位样品表面并提高对准精度。振镜扫描仪和样品台定义了不同的...

...四川大学冯良文合作成果:基于表面光刻技术的高性能纤维状垂直...

为定义准确的通道尺寸,该工作将S1813光刻胶引入到纤维电极表面上,以选择性地暴露所需的纤维电极区域。通过使用特制的光刻系统,纤维表面经过曝光和后续显影,可以方便地将S1813涂层图案尺寸作为实际的通道尺寸(特征长度可小于100μm)。除此之外,器件的其他功能层都利用简单的浸涂方法引入。Ag-AuNW作为上电极粘附在半...

2025版存储芯片行业发展现状及市场全景评估报告(智研咨询发布)

存储芯片行业产业链上游主要包括生产存储芯片所需的原材料及生产设备等,主要原材料包括半导体硅片、光刻胶、靶材等,主要生产设备包括光刻机、蚀刻机、PVD设备等。硅片作为存储芯片的基础材料,其纯度和尺寸精度直接影响到芯片的性能和可靠性。光刻胶则是制造过程中用于形成电路图案的关键材料,其质量和稳定性对芯片制造的...

大型科普(三)为什么28nm光刻机上多曝也无法做到7nm?

因为在光刻胶工艺上,也有正负胶之分(正负胶,像石碑的阴刻或者阳刻),一个pitch,就是一次光照的明暗变化,半个就是亮或暗,按照正胶或者负胶的不同,都可以代表最小线宽或者最小特征尺寸,所以会叫半间距。在实际晶体管中,沟道宽度(channellength)和MOS管体积密切相关,沟道越小密度越高,又因为金属层连接沟道,...