麦光刻机霸主地位解析:台积电豪掷38亿美金只为1nm芯片技术

然而，光刻机的生产周期长且复杂，涉及许多高精度的零部件，这使得它的产量较低，往往需要排队等待。台积电能够率先获得这台全球第三台High-NAEUV光刻机，确实反映了其在技术获取上的敏锐度和决策能力。英特尔在尝试恢复其在芯片行业中的领先地位，近期也购入了两台High-NAEUV光刻机，显示了其在技术更新上的紧迫性。

台积电年底迎神器,高NA EUV光刻机即将到位,芯片江湖要变天?

你想啊，有了这批光刻机，台积电就能造出更多、更好的芯片，不仅能满足现有的市场需求，还能开拓新的市场领域。到时候啊，台积电在芯片界的地位那可就更加稳固了，说不定还能再攀高峰呢！可话说回来啊，这光刻机也不是万能的。虽然它能提升芯片的性能和产量，但也需要相应的技术支持和人才储备。台积电啊，你可得...

27亿一台!台积电大手笔购买最先进光刻机,目标直指1nm芯片!

这27亿一台的光刻机啊，可不是一般的设备。它采用了最先进的技术和工艺，能够制造出精度极高的芯片。咱们知道，芯片上的电路图案是非常细小的，要想把这些图案准确地“刻”到硅片上，就得用非常精密的设备。而这台光刻机呢，它的精度和性能都达到了前所未有的高度。它能够制造出1纳米级别的芯片，这是目前世界...

34亿一台!台积电购买最先进光刻机,剑指1nm芯片!

谁能在最短时间内掌握最前沿的光刻技术,谁就有可能取得更大的市场优势。而此次引入High-NAEUV光刻机,标志着台积电为未来2nm甚至1nm制程打下了坚实基础,无疑是继续保持领先地位的关键一环。值得一提的是,此前台积电嫌弃High-NAEUV光刻机价格太贵了,信誓旦旦的表示就用之前的标准EUV光刻机就行。打开网...

Jim博士:EUV专利等于有了光刻机?对于EUV光刻的基本认知误区!

所以,同样是极紫外光源装置的中国专利,但是这篇专利并没有涉及任何高功率EUV光发生器的技术。其实,全球很多企业每年都会发表EUV光源技术专利,我之前便介绍过台积电的EUV光源专利。这种技术更多的属于企业的专利布局的一部分,而并非其真正要做EUV光刻机的产业化。

俄罗斯终于有了光刻机 技术却落后30年

总的来说,技术确实是落后了点,但有也比没有强,最起码眼下也能应急,像俄罗斯火箭军的主力装备,伊斯坎德尔导弹系统,用的就是350纳米芯片(www.e993.com)2024年11月13日。最后,对俄罗斯来说,这次的光刻机突破还是有实际意义的,而且也算圆了点从苏联时代以来,俄罗斯人对半导体独立的心愿。

阿斯麦称可远程瘫痪光刻机,台积电早有准备,给我们提了个醒

尤其是台积电一直在寻找可以利用旧光刻机生产先进芯片的方法,而现在,他们终于把技术路线走通了,2nm工艺以及之后的1.6nm工艺,也不准备换成High-NAEUV,而是要继续使用旧的EUV光刻机,就可以生产出2nm工艺的芯片。台积电走这条路,这背后或许本质是强化对手头已有的光刻机自主掌控的能力,这个过程中,台积电需要对旧...

台积电分析师:大陆造出DUV光刻机没问题,造EUV光刻机要等很久

最近他的一个言论引起了巨大争议,项立刚认为国内三年之内就能解决光刻机卡脖子的问题,实现光刻机国产化。不过,有台积电分析就表示大陆造出DUV光刻机也就是深紫外光光刻机问题不大,但EUV光刻机就另当别论,要等上很长一段时间,甚至要花十年。??ASML光刻机的技术路径...

ASML:EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径?

报导分析说,在ASML现有光刻机技术路线即将走向尽头的背景之下,对于中国厂商来说在现有技术路线对于ASML之间的差距可能将不会继续加速扩大,这有利于大陆厂商的技术追赶。但是,在EUV技术路线发展受欧美限制,且该技术路线前景灰暗的情况下,中国大陆厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术跟随,还是考虑投入资源另辟蹊径寻找新...

台积电大举拉货EUV光刻机

01台积电计划在未来两年内交付超过60台EUV光刻机,总投资金额上看超过4000亿元新台币,以应对2nm先进制程产能的需求。02ASML是EUV设备的最大供应商,预计2025年交付数量增长将超过3成,其中家登积极与ASML携手投入下一代High-NAEUV研发。03除此之外,帆宣、意德士、公准、京鼎及翔名等台厂供应链有望同步受惠于EUV...