美版知乎:很多国家都害怕美国,为啥中国不怕?网友评论语出惊人

在中国发展芯片期间,美国就曾对中国进行制裁,禁止美国本土的芯片公司对中国进行技术支持,不仅如此,美国还威胁欧美国家,禁止向我国出口光刻机,我国的芯片产业也因此到达了“瓶颈期”。然而美国的压迫最终没有打倒中国,在我国的不懈努力下,中国的芯片成功被研制出来,为此华为老总任正非曾评价道,“若是没有美国的制裁,中...

早安太空 · 网罗天下 | 火箭军向太平洋公海成功发射洲际弹道导弹

掌握了光刻机技术,就意味着掌握了信息时代的“话语权”。中国在光刻机领域的突破,将打破西方国家在高端芯片制造领域的垄断地位,为全球芯片产业链带来更多元化和稳定的供应选择。知乎热榜●商务部对美PVH集团启动不可靠实体清单调查,疑因其歧视涉疆产品,这意味着什么?将带来哪些影响?据商务部消息,9月24日,不...

Fab晶圆厂,哪个省份最最最最最多?

有些特殊设备,如EUV光刻机,是晶圆厂最大的制程设备投资项之一,每台价格就得2亿美金。前台积电建厂专家LeslieWu就曾以台积电最先进的2nm工厂为例,推测每万片晶圆的资本投入情况:按照光刻机的投入占全部制程设备24%的比例倒推,制程设备的总投入为54亿美元,而制程设备占晶圆厂全部投资额的77%,以此倒推,2nm...

光刻机不是救世主!武汉千亿芯片项目工地成菜地,造芯梦碎一地

2019年底，弘芯浩浩荡荡地举行了首台ASML光刻机进厂仪式。但也有专业人士表示这台型号1980的设备做不到7nm。当前，用于生产7纳米及更先进制程芯片的极紫外光刻机（EUV），只有荷兰ASML（阿斯麦）一家能够生产，每台机器的售价超过1亿美元。有了光刻机和半导体业大神加持，似乎已经前路无忧。但是具体的商业模式和客...

光刻机是国产芯片的“痛中痛”,中国何时可以摘取这颗明珠?

ASML的产品，主要有两种：DUV光刻机和EUV光刻机。其中EUV最为厉害，其使用极紫外光技术，可以做7nm和5nm芯片，是当前最先进的光刻机；而DUV虽然可以做7nm芯片，但是性能略逊一筹。图|ASMLEUV光刻机（来源：ASML官网）光刻机之难“ASML的光刻机和氢弹哪一个更难搞？”知乎网友...

大型科普:多曝工艺究竟是如何超过光刻机的极限分辨率???

λ则代表光刻机使用光源的波长;NA(NumericalAperture)则是光学器件的数值孔径,描述了它们能够收集光的角度范围;K1包含了光学临近效应,包括光刻胶成分或者光刻机温度的控制等,是众多其他影响因子的汇总,这和使用方芯片制造公司的“手艺”有密切关系,不同的公司,这门“手艺”水平差距巨大(www.e993.com)2024年11月9日。

芯片江湖没有永远的老大

2019年,为了完成7nm制程,三星积极地采用了新的EUV光刻机,但是良率和进度都落后于台积电。相比之下,台积电2018年量产的7nm制程并没有采用EUV光刻机,而是同样在2019年推出了采用EUV光刻技术的N7+工艺。由于先进制程芯片的设计难度提升,其流片所需要投入的成本开始只有少数厂商能够承担。因此在苹果和台积电密切合作后,...

...称仍可向中国销售DUV光刻机;微信官方公布春节红包数据丨雷峰早报

ASML:仍可向中国销售DUV光刻机1月29日,据韩国媒体报道,荷兰半导体制造设备企业ASML近日表示,可以继续向中国出口深紫外线(DUV)曝光设备。当天,首席执行官彼得·温克宁表示,目前政府层面尚无新的出口限制措施,“我们可以继续(向中国)发货DUV设备”。DUV曝光设备是ASML独家生产的极紫外线(EUV)曝光设备的旧款型号,虽...

年度行研 芯片“印钞机”的背后:人类物理的极限探索与大国博弈的...

一家公司要研发芯片,他们会使用Cadence、Synospsys这些公司提供的EDA工具来辅助设计芯片,期间会用到来自于本公司自研或者ARM等第三方的各种IP核,在芯片设计完成后会交给TSMC台积电、UMC联电、SMIC中芯国际等晶圆代工厂生产,这些代工厂的生产设备就包括了来自ASML等的光刻机。最后经过日月光、长电科技的封测,形成完整芯片...

科普:图说芯片技术60多年的发展史

从光刻机的发展年代来看,上世纪60年代是接触式光刻机、接近式光刻机;70年代是投影式光刻机;80年代是步进式光刻机;再到步进式扫描光刻机,浸入式光刻机和现在的EUV光刻机[16],可见芯片制造的光刻工艺不可能是1970年才发明出来。离子注入、扩散、外延、光刻等工艺技术,加上真空镀膜技术、氧化技术和测试封装技术...