大型科普:多曝工艺究竟是如何超过光刻机的极限分辨率???

一个芯片制程过程,其实类似盖高楼大厦,其中M0和M1,这最底下的两层,因为需要的分辨率最小,因此需要最先进的光刻机来完成曝光工艺,而之上的金属层并需要,甚至用线宽很大的光刻机也能完成这项工作,因此就有类似i线光源的的12英寸光刻机,看起来非常魔幻,12英寸工艺上居然用i线的12英寸光刻机哦!!!上图框出来的...

光刻机之战(2)

《光刻机之战》发表后,得到超过60家科技和财经类公众号转载,“光刻机”这个对大众奇怪又陌生的词,通过贸易战和华为事件被放大了很多倍,让大家知道了中国制造最大的短板是什么。在知乎上,出现了氢弹和光刻机做哪个更难的热烈讨论。也有读者问,凭举国之力,我们是不是花十年可以做出先进光刻机来呢?为什么一...

美国的半导体霸主地位是如何达成的?

这里多说两句,集成电路并不是简单的把元器件焊连在一起,它的观感有点像纸雕灯,是用一把刻刀,在一个物体上一层层刻出电路,但它远比纸雕灯复杂,因为集成电路的底是晶圆,而刻刀则是光刻机。纸雕灯与集成电路两者都需要一层层雕刻上面那张图里,中间印着intel的那个扁平状黑色物体,就是芯片。但更准确来...

年度行研 芯片“印钞机”的背后:人类物理的极限探索与大国博弈的...

目前光刻机市场的老大ASML几乎可以说是整个光刻机技术的垄断者,他们每年投入的研发费用,几乎是某些世界500强企业的三个季度的收入。ASML,为了筹集资金,同时也是进行上下游利益捆绑,研发风险共担,邀请英特尔、三星和台积电出资,做自己的大股东。ASML实际上是美、日、韩、德等共同投资的项目,才能保证资金够用。三、光...

科普:图说芯片技术60多年的发展史

从光刻机的发展年代来看,上世纪60年代是接触式光刻机、接近式光刻机;70年代是投影式光刻机;80年代是步进式光刻机;再到步进式扫描光刻机,浸入式光刻机和现在的EUV光刻机[16],可见芯片制造的光刻工艺不可能是1970年才发明出来。离子注入、扩散、外延、光刻等工艺技术,加上真空镀膜技术、氧化技术和测试封装技术...