激光直写光刻机设备商江苏影速集成电路装备拟科创板IPO
(文/Jimmy),科创板日报消息,江苏影速集成电路装备股份有限公司拟赴科创板IPO,中金公司任其辅导机构。该公司主要生产激光直写的光刻机设备,主要应用在PCBFPCHDI和集成电路掩膜板。江苏影速成立于2014年8月,于2016年被认定为国家级高新技术企业。公司是国内专业的集成电路核心装备制造商及中国唯一能够制造半导体纳米...
芯碁微装主导的直写光刻技术国家标准正式实施
记者获悉,芯碁微装主导起草的直写光刻设备GB/T43725-2024《直写成像式曝光设备》国家标准已通过国家标委会的审核,将于2024年10月1日正式实施。该项国家标准旨在弥补行业标准空白,对设备的设计、制造、检测、安装维护、质量检测与保证等全生命周期环节设定统一、科学的技术规则,从而为行业构建一套完备的体系标准。
芯碁微“一种用于直写式光刻机的安全防护系统及方法”专利公布
天眼查显示,合肥芯碁微电子装备股份有限公司“一种用于直写式光刻机的安全防护系统及方法”专利公布,申请公布日为2024年8月9日,申请公布号为CN118466111A。背景技术运动平台一般会在机台腔体内部进行动作,设计人员对运动平台的安全防护意识比较薄弱,如有操作人员在门板打开的情况进行机台内部调试或者操作时不注意,...
西安交通大学生命科学与技术学院激光直写光刻机竞争性磋商
项目概况生命科学与技术学院激光直写光刻机采购项目的潜在供应商应在详见西安交通大学采购与招标信息网(cgb.xjtu.edu)获取采购文件,并于2024年08月05日09点00分(北京时间)前提交响应文件。一、项目基本情况项目编号:西交采招(2024)237项目名称:生命科学与技术学院激光直写光刻机采购方式:竞争性磋商...
应对先进封装挑战,芯?微装直写光刻技术助力本土创新突破
潘昌隆表示,除了CoWoS和SoW等晶圆级封装,FoPLP封装技术也开始逐渐发力,步进式光刻机在应对这类大面积封装同样力不从心,而直写光刻技术将会是最佳选择。在泛半导体领域,根据是否使用掩模版,光刻技术主要分为掩模光刻与直写光刻。掩模光刻可进一步分为接近/接触式光刻以及投影式光刻。直写光刻也称无掩模光刻,是指计算...
光刻工艺技术专题(三):低成本光刻技术之激光直写光刻
低成本光刻主要指的是无需投影成像的光刻技术,如掩模接近式光刻,激光直写光刻,无衍射极限的光学光刻等(www.e993.com)2024年11月1日。尽管这些技术的产率、分辨率和工艺控制能力普遍低于DUV和EUV光刻,但是它们仍然广泛应用于微纳制造领域。本文简单介绍一下激光直写光刻技术。激光直写光刻不需要使用掩模,只需使用简单的聚焦光学系统就可以灵活地生成...
扬帆新材:双光子光刻胶技术仅应用在飞秒激光直写技术上,目前仍在...
一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法、应用,可以应用到多重曝光工艺吗,谢谢。公司回答表示:目前您所指的技术仅应用在飞秒激光直写技术上,且仍停留在实验室研究阶段,仅少量提供于科研机构或研究所用于相关研究中,目前产品下游应用未涉及您所说的产品。本文源自:金融界AI电报作者:公告君...
光刻技术,有了新选择
接近式光刻技术广泛应用于20世纪70年代,接近式光刻技术中的掩膜版与晶圆表明光刻胶并未直接接触,留有被氮气填充的间隙。接近式光刻示意图接近式光刻技术的特点是最小分辨尺寸与间隙成正比,间隙越小,分辨率越高。缺点是掩膜版和晶圆之间的间距会导致光产生衍射效应,因此接近式光刻机的空间分辨率极限约为2um。随着...
半导体之光刻:行业技术升级加速应用渗透,直写光刻市场如日方升
先进封装光刻机主要技术路径有投影式光刻及直写光刻,通常使用步进式光刻机。全球晶圆级封装光刻设备主要市场被美国AppliedMaterials、Rudolph及日本SCREEN、ORC等国际半导体厂家所占据,国内厂商中的上海微电子等企业实现了晶圆级封装掩模光刻设备的产业化并占据了一定的市场份额。上海微电子装备集团的新一代SSB500...
...的双光子光刻胶及其制备方法、应用”仅应用在飞秒激光直写技术...
同花顺(300033)金融研究中心04月01日讯,有投资者向扬帆新材(300637)提问,你好董秘:华为光刻机多重曝光工艺专利公开,请问公司申请一项名为“一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法、应用,可以应用到多重曝光工艺吗,谢谢公司回答表示,尊敬的投资者,您好!目前您所指的技术仅应用在飞秒激光直写技术上,且仍...