华为芯片技术被偷,2nm光刻机横空出世,这背后到底发生了什么?

那么啊，这个2nm光刻机到底是怎么来的呢？说起来啊，这可是一家荷兰公司——ASML的杰作。这家公司在光刻机领域那可是数一数二的，技术实力非常雄厚。而这个2nm光刻机啊，就是ASML经过多年研发和努力才终于研制成功的。它的出现啊，对于提升芯片的性能和降低功耗都有着非常重要的意义。不过啊，这个2nm光刻机虽...

麦光刻机霸主地位解析:台积电豪掷38亿美金只为1nm芯片技术

英特尔在尝试恢复其在芯片行业中的领先地位，近期也购入了两台High-NAEUV光刻机，显示了其在技术更新上的紧迫性。台积电意识到如果不紧跟技术进步，可能会在竞争中落后，因此最终决定进行投资。阿斯麦目前正在研发更先进的Hyper-NAEUV光刻机，进一步提升数值孔径。这意味着未来的光刻机将支持更先进的制程，尽管价格也将...

港媒:国产光刻机公布重大技术突破,但半导体自给之路仍任重道远

近日,中国政府宣布两款国产芯片光刻机取得“重大技术突破”,彰显了中国在半导体领域追求科技自给自足的努力。这两款光刻机据称已经实现了关键技术突破,并拥有自主知识产权。尽管尚未正式投入市场,但其研发进展无疑为中国半导体产业带来了新的希望。据工业和信息化部(MIIT)透露,其中一款深紫外线(DUV)光刻机的工作...

光刻机+华为芯片最强黑马,华为联合长光所爆买1811万股,潜力远超...

它是A股唯一一家同时被长光所和华为控股的公司,在高功率半导体激光芯片领域国内市占率位居榜首,将掀起远超深圳华强主升浪。近期工信部公布的DUV光刻机表明,国内已然掌握了光刻机的核心技术。尽管与世界最前沿的EUV光刻机仍有一代差距,但我国已成为全球第四个拥有光刻机制造能力的国家,技术水平仅次于荷...

光子芯片取得重要突破,中国或将绕开EUV光刻机瓶颈

研发EUV光刻机的技术复杂度和产业链依赖性，使得中国芯片行业在这一领域的发展受到了很大的制约。根据相关数据，ASML的EUV光刻机涉及到全球数十个国家和5000多家企业的合作，形成了庞大的技术生态系统。然而，光子芯片的崛起为中国芯片产业带来了新的希望。光子芯片的研发路径与传统电子芯片截然不同，避免了对EUV光刻...

光刻技术的过去、现在与未来

光刻技术作为一项精密的微纳米加工工艺,通过将设计好的微小图案转移到光敏感的材料表面,为各个领域的微细结构制造提供了技术支持(www.e993.com)2024年11月6日。其核心在于利用光刻机,将精准的图案投射到光敏感材料上,从而实现微小结构的精确制造。在当今科技时代,光刻技术是推动半导体制造、光学器件、生物医学等领域发展的重要技术支撑。在半导体制...

3年前ASML曾断言,中国将自产光刻机,如今三年到了,我国怎样了

众所周知,华为就是由于芯片核心技术遭到美国制裁才短暂沉寂几年的,目前,我国在EUV光刻机领域依旧被卡着脖子。不过,在高端EUV技术被ASML垄断的大背景下,上海微电子依旧靠自主研发成功实现了90纳米光刻机的自产自销,且还将继续向14纳米甚至7纳米的光刻机发起冲锋。

我国光刻机起步不算晚,为啥至今没超越荷兰?这一观念太害人!

至于用于芯片生产的光刻胶,大多数高纯度化学品都受日本专利保护。对于国内光刻机独立研发来说,掌握这些关键原料和技术至关重要。目前,国产光刻机的确切信息显示,主要处于90nm制程阶段,光刻胶方面还处于起步阶段。解决这些薄弱环节,是中国半导体产业面临的一项重大挑战,这将会是巨大的压力。

??光刻机之战

自德州仪器(TI)的杰伊·莱思罗普发明光刻技术以来,光刻机和芯片制造的基本原理没有太多改变。但随着制程(可粗略理解为芯片上晶体管的密集程度)的发展,光刻技术的研发和实现成本越来越高。以目前仅有ASML能制造的EUV(极紫外光)光刻机为例,先看光源,在莱思罗普发明光刻技术的时候,只需要一个简单的灯泡,但当发展...

关于芯片的8个关键疑问 我们和中科院微电子研究所王晓磊聊了聊丨...

“晶圆制造能实现的器件最小特征尺寸是决定芯片性能的重要指标。”王晓磊表示,晶圆制造,是指按一定流程对硅晶圆进行清洗、薄膜制备、光刻图形、刻蚀及掺杂等加工工艺,在硅晶圆上形成不同元器件和连线的过程。疑问六光刻机技术为什么重要?据介绍,目前产业界已实现等效特征尺寸小至3纳米的器件,3纳米是头发丝直径1/...