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纳米压印光刻技术
北京劳动者之歌|北京欣奕华材料科技有限公司中央研究院光刻胶研发团队:攀登技术高峰 “半边天”显担当
8月28日 11:09 - 劳动午报
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光谷实验室研发高性能量子点光刻胶,助力Micro-LED全彩显示技术突破
8月13日 11:17 - 环球网
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重大突破!极紫外光刻新技术问世,超越半导体制造业标准界限,功耗比传统EUV光刻机降低90%【附全球光刻机技术赛道观察图谱】
8月5日 09:32 - 前瞻网
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日科研团队突破极紫外光刻技术 功耗降低显著
8月2日 10:32 - 媒体滚动
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消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术
7月29日 13:18 - IT之家
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韩纳米光刻研究中心实现100英寸纳米透明屏幕商业化
7月5日 14:47 - 投影时代pjtime
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