ASML、荷兰光刻机供应商相继宣布,外媒:事情“闹大”了

ASML不是一般企业，它是掌握全球最先进光刻技术的唯一厂商。尤其是它出品的EUV（极紫外光）光刻机，这一设备是制造7纳米及以下芯片的唯一选择。没有它，再牛的芯片设计也只是在纸上谈兵。换句话说，它是全球高端芯片供应链最上游的掌控者。这种“独一份”的存在，让ASML就像半导体行业的“金钥匙掌门人”。而美国...

阿斯麦预计2030年销售额将达600亿欧元,AI技术助力未来增长

阿斯麦作为EUV(极紫外光)光刻技术的先驱,持续在高端半导体设备上投入创新,其先进的光刻机被广泛应用于芯片制造业,尤其是在人工智能(AI)领域强劲需求推动下。阿斯麦首席执行官ChristopheFouquet在声明中表示,未来十年,公司将有能力进一步推动EUV技术的发展,这不仅将为其自身的营业额和利润增长奠定基础,也将显著助力人工...

上海微电子突破极紫外光刻技术,中国半导体崛起国际舞台

上海微电子的最新行动在半导体领域引发了无数热议。该公司选择在德国申请了6项极紫外光刻机(EUV)关键专利，立即成为全球焦点。这无疑透露出一个信号：中国在高端半导体设备上的技术水平和市场地位，正在迅速崛起。这一事件背后，包含了中国企业在国际舞台上力争上游的决心和策略。半导体行业一直被视为高科技领域的皇冠。

重大突破!国产光刻机7nm技术-icspec

该发明专利针对当前极紫外(EUV)光刻技术中的关键挑战,即极紫外光产生过程中伴随的带电粒子(如锡碎屑)污染问题,提出了一种创新性的解决方案。这项技术旨在提供一种极紫外辐射发生装置及光刻设备,用于高效且简便地收集带电粒子以提高光刻设备中关键部件——收集器镜的使用寿命。该发明通过巧妙设计,利用电场约束带电粒...

光刻机的故事(上):如何用极紫外光制造电路板?

光刻是半导体制造中的最为关键技术,用于在硅片上精确地转移电路设计。随着摩尔定律的推进,芯片上的晶体管数量持续增加,对光刻技术的要求也越来越高。从最初的紫外线到深紫外线,再到极紫外光刻技术,每一次进步都伴随着巨大的技术和工程挑战。光刻机是如何发展起来的?本文分为上下两篇来介绍这个故事:...

极紫外光刻新技术问世,大幅降本增效

日本冲绳科学技术大学院大学设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限(www.e993.com)2024年11月22日。极紫外线光刻机(ExtremeUltra-violet),又通常被称为EUV光刻机,它以波长为10~14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,该设备当前可被应用于14纳米及以下的先进制程芯片的制造。

极紫外光刻新技术问世,能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本

在传统光学系统中,例如照相机、望远镜和传统的紫外线光刻技术,光圈和透镜等光学元件以轴对称方式排列在一条直线上。这种方法并不适用于EUV射线,因为它们的波长极短,大多数会被材料吸收。因此,EUV光使用月牙形镜子引导。但这又会导致光线偏离中心轴,从而牺牲重要的光学特性并降低系统的整体性能。

光刻技术突破:揭秘如何将上百亿晶体管融入3nm芯片,这就是科技

缩短波长:光刻过程的光波长已经经历了多个波段的发展历程,目前13.5nm波长的极紫外光刻机(EUV)已经投入使用。使用更短波长的光源可以提高光刻分辨率。减小工艺因子:通过优化光刻工艺参数,如改善光照条件、光刻胶工艺和掩模版设计等,可以减小工艺因子k1,从而提高光刻分辨率。这些方法被称为分辨率增强技术(RET),它们通过调...

回顾:我国突破一项光刻机核心技术,打破荷兰垄断国产光刻机可期

而光刻机作为芯片制造的核心装备，其先进程度直接决定了一个国家在芯片领域的竞争力。长期以来，高端光刻机市场一直被荷兰ASML、日本尼康和佳能等少数几家企业所垄断，其中ASML更是占据了全球近九成的市场份额，尤其是在极紫外光刻机（EUV）领域，ASML几乎处于绝对的统治地位。面对西方国家在高端技术领域对中国的封锁和...

EUV光刻机内22万℃高温,1秒内5万滴锡被激光照射,德国蔡司立功

ASML(阿斯麦)公司,是一家位于荷兰埃因霍温的技术公司,专注于半导体行业的光刻机生产。ASML在全球市场中占据了举足轻重的地位,尤其作为全世界唯一能生产EUV(极紫外光)光刻机的厂商,它的技术和设备对于现代电子设备的生产至关重要。2021年,其市场份额高达67%。光刻机是制造半导体元件如微处理器芯片的关键工具。它可...