这项ALD技术 牵引国产半导体设备攻克难关

ALD技术全称为原子层沉积技术,在半导体、光伏、新型显示、柔性电子、新能源等领域具有多种应用,是非常关键的核心工艺之一。微导纳米董事会秘书龙文介绍,它通过交替输入不同的气体,使得这些气体在基底上形成原子级厚度的薄膜。由于沉积是在原子层级进行的,所以制备出来的薄膜具有非常好的覆盖率和均匀性,可以在复杂的形貌...

负载型双金属催化剂在原子层面上的精细可控合成取得重要进展

近日,中国科学技术大学化学物理系路军岭教授课题组在原子层面上精细设计与合成负载型双金属催化剂领域取得新进展。路军岭教授通过与美国阿贡国家实验室的J.W.Elam博士合作,成功探索到了一种普适的利用原子层沉积(ALD)技术精细合成负载型双金属催化剂方法:通过选择适当的反应温度和ALD过程所需的氧化剂或还原剂,充分利用...

这项ALD技术 牵引国产半导体设备攻克难关 创新引领多领域突破

ALD技术,即原子层沉积技术,是半导体、光伏等多个高科技领域的核心工艺,微导纳米的这项技术因其高精度与均匀性,在市场上备受青睐。公司自2015年由一群在半导体薄膜沉积技术领域有着深厚背景的专家团队创立以来,面对重重困难,始终坚持自主研发,最终在光伏ALD设备市场确立了领导地位。微导纳米的创业之路始于2015年,由王...

全球与中国原子层沉积(ALD)设备行业发展规模及前景趋势预测报

第1章:原子层沉积(ALD)设备行业综述及数据来源说明1.1薄膜沉积是半导体工艺三大核心步骤之一1.2薄膜沉积技术分类及对应设备类型(ALD、CVD、PVD等)1.3原子层沉积(ALD)概述1.4原子层沉积(ALD)原理1.5《国民经济行业分类与代码》中薄膜沉积设备行业归属1.6原子层沉积(ALD)设备专业术语说明1.7本报告研究...

原子层沉积设备(ALD)行业发展动向及市场前景研究报告

原子层沉积(ALD)设备是一种用于精确控制薄膜厚度的沉积工具,通过逐层沉积材料来形成纳米级薄膜。ALD设备设备逐层引入反应气体,使每一层材料都均匀地沉积到基材上。每个气体反应仅沉积一层原子厚度的材料,能够精确控制沉积厚度和材料成分,适用于制造高质量的薄膜,特别是在纳米技术和半导体制造中,能够在复杂的三维结构表...

默克通过开发原子层沉积(ALD)前驱体对应柔性OLED薄膜封装工艺

CINNOResearch产业资讯，德国化学材料专业厂商默克（Merck）正通过提供高端汽车显示解决方案，加速向柔性OLED市场的扩张(www.e993.com)2024年11月1日。在柔性OLED的核心技术——薄膜封装（TFE）工艺中，默克导入了原子层沉积（ALD）方法，以替代传统的化学气相沉积（CVD）方法。根据韩媒Sisajournal报道，据显示行业8月27日消息，默克公司已成功开发了...

韩国成功研发原子层沉积技术 可减少EUV工艺步骤

韩国成功研发原子层沉积技术可减少EUV工艺步骤据韩国半导体公司周星工程最新研发出原子层沉积(ALD)技术,能够在生产先进工艺芯片中减少对极紫外光刻(EUV)工艺步骤的需求。EUV又称作超紫外线平版印刷术,是一种使用极紫外光波长的光刻技术,目前广泛应用于7纳米以下的先进制程。

微导纳米:ALD技术在GAA环绕式栅极技术中占有重要地位,能满足复杂...

ALD技术作为可以应用在半导体集成电路领域的一种共性技术,具有薄膜均匀性好、高保形性、成膜质量高等诸多优点。ALD的薄膜台阶覆盖率可以做到将近100%,薄膜可以很均匀地覆盖在深孔和复杂表面上,是其他薄膜沉积技术难以达成的。ALD技术沉积出来的高质量的薄膜能够满足复杂栅极结构中薄膜沉积的要求。

...让您的锂电池发挥更大效能?试试Forge Nano 原子层沉积(ALD)技术!

03/使用ForgeNanoALD原子层沉积技术提升电池效能ForgeNano推出了一种名为AtomicArmor??的解决方案,以解决电极结构不稳定的问题并从电池中释放更多容量。该方法采用原子层沉积(ALD)技术,在电池电极材料表面包覆薄膜,可实现厚度可控、均匀致密的纳米涂层。该技术可保护活性材料免受与电解质的寄生反应的影...

Swiss Cluster ALD原位多层复合原子层沉积系统-瑞士真空-新品

ALD+PVD原位复合薄膜沉积技术介绍:ALD原位复合多层纳米薄膜应用案例---1:ALD原位复合多层纳米薄膜应用案例---2:ALD原位复合多层纳米薄膜应用案例---3:产品型号介绍:可选具有功能优势的配件:创新点:无需昂贵真空互联部件即可实现ALD+PVD原位多层复合原子层薄膜沉积,且不同工艺在同一真空腔自动切换,样品也保...