阿斯麦业绩爆雷!美荷网友甩锅,都怪上海研发成功光刻机!

接下来，我们完全可以先从中低端市场入手。把中低端光刻机和芯片的价格打下来，逼得阿斯麦要么降价，要么减产。如果他们只靠高端EUV光刻机，恐怕难以维持高额研发投入，可能会陷入恶性循环。这场芯片大战，我们虽然起步晚，但潜力无限。我们有全产业链优势，有庞大的市场，更有坚定的决心。只要持续投入，迟早会赶上去...

重大突破!中国第一台芯片光刻机成功交付使用!

近日，国内传来喜讯，我们自主研发的28纳米光刻机已成功问世。这无疑是为国产芯片产业注入了一剂强大的动力！作为芯片生产的核心装备，光刻机的成功研发意味着我们已在该领域稳扎稳打，逐步摆脱对国外设备的依赖。接下来，让我们深入了解这款光刻机背后的深远意义，以及它将如何重塑我们的芯片产业格局！力挺国产芯片...

荷兰光刻机巨头CEO:美对华出口限制将推动中国成功研发自己的技术

环球网报道记者祁玥据彭博社报道,荷兰光刻机巨头阿斯麦公司首席执行官温宁克当地时间25日在荷兰维尔德霍芬的公司总部接受采访时表示,美国主导的针对中国的半导体出口管制措施,最终会促使中国在高端芯片制造设备领域成功研发出自己的技术。彭博社报道称,温宁克表示,中国的半导体公司“必须参与全球竞争”,所以他们才...

美论坛惊讶,中国怎敢擅自研发光刻机?国产光刻机官宣,打谁的脸

中高端光刻机的研发,还没到终点,依然任重道远,我们要尊重科学、正视基础科学的复杂性与精密性,但也要对中国工业潜力与未来长期发展多一份乐观,按照当前的进度,光刻机突破,打破芯片制造瓶颈,实现全产业链自主可控或指日可待,我们拭目以待。作者:王新喜TMT资深评论人本文未经许可谢绝转载...

光刻机无望?美国都造不来,中国永远都不能造出来?为什么这样说

光刻机的制造需要用到特殊的材料,例如光刻机的镜片材料要特别均匀,打磨工艺加工精度可以达到0.001纳米。这种镜片通常由德国蔡司的工人手工打磨出来,而且制造光刻掩模的成本可能高达几百万美元,其材料也需要极其昂贵且具备高精度的特性。光刻机的研发和制造也是需要大量的资金投入,以极紫外光刻机为例,其研发过程需...

俄罗斯成功研发350纳米工艺光刻机,对芯片制造业有重要意义。

俄罗斯已经成功制造了其首台光刻机,并且目前正处于测试阶段(www.e993.com)2024年11月6日。这对俄罗斯的芯片制造业具有重要意义。1.俄罗斯新研发的光刻机在技术上并不高超。光刻机是一个广泛的技术领域,而大家通常只关注到了最高端的EUV光刻机,也就是极紫外线光刻机。实际上,中国在中低端光刻机方面也有着不俗的研发和生产能力。早在2007...

EUV光刻机突破中的科技与产业创新是如何融合的?

ASML将其有限的顶尖人才资源集中投入光刻系统整体层面的集成研发,并持续开展体系化和前瞻性关键技术开发,明确其在系统集成方面的突出优势并巩固提升。而在关键部件创新方面,ASML则主要通过与全球领先的零部件供应商深度合作。例如,在EUV光源方面,光刻机光源供应商Cymer为ASML所提供的EUV光源方案整合了3家德国公司的先进技...

??光刻机之战

自德州仪器(TI)的杰伊·莱思罗普发明光刻技术以来,光刻机和芯片制造的基本原理没有太多改变。但随着制程(可粗略理解为芯片上晶体管的密集程度)的发展,光刻技术的研发和实现成本越来越高。以目前仅有ASML能制造的EUV(极紫外光)光刻机为例,先看光源,在莱思罗普发明光刻技术的时候,只需要一个简单的灯泡,但当发展...

ASML光刻机是怎样一步步走上绝路的

我们要解释光刻机的难度,同样需要理解它怎样处理各种印刷的精度和材料及温度特性等问题。二、光刻机从Aligner到Stepper(步进光刻机),是一次微机电的升级,从一次曝光一整片晶圆到光头在晶圆上一步一步(Stepandrepeat)移动曝光一个小方块,那时还用的是简单的汞灯。Stepper升级到Scanner(扫描光刻机),因为激光光源...

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

因此,光刻机企业往往具备高外采率、与供应商共同研发的特点,而其下游应用主要包括芯片制造、功率器件制造、芯片封装等。事实上我国光刻机的研制起步并不晚,早在70年代就研制出接触式曝光系统,由于早期我国半导体产业的整体落后,以及受到“造不如买”的思潮影响,光刻机产业化落地滞后,直到2002年ArF光刻机被列入“...