中国芯片光刻机自主研发成功,打破国际封锁!

近日，“国产光刻机交付”的消息广为传播，各大社交平台热议。这不仅是一则科技新闻，更是关乎国家命运的重要事件。中国首台自主研发的28纳米光刻机已投入使用，标志着中国芯片产业的重大进展。长期以来，我们在关键技术上受制于人，如今终于取得突破。光刻机是芯片制造的核心设备，被誉为芯片制造的灵魂。它将电路图...

全都反水了!ASML、荷兰光刻机供应商相继宣布,外媒:事情闹大了

据业内专家分析："ASML此次市值暴跌，暴露出全球半导体产业链过度集中的风险。这种风险不仅威胁到企业自身的发展，更影响着整个产业的稳定。"在这个过程中，最引人注目的是中国企业的表现。上海微电子成功研发出28纳米沉浸式光刻机，标志着中国在这一领域取得了实质性突破。这不仅是技术进步，更是产业实力的体现。针...

首台纳米压印光刻机,佳能出货了

佳能宣布,向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所(TIE)交付佳能最先进的纳米压印光刻NIL系统FPA-1200NZ2C。本文引用地址:这台纳米压印光刻机将交付给德克萨斯电子研究所,该研究所是德克萨斯大学奥斯汀分校支持的联盟,成员包括英特尔和其他芯片公司以及公共部门和学术组织。该设备将供芯片制造商用于...

A股:“光刻机”第一龙头沉睡8年,有望从35元到135元(建议收藏)

3、宝丽迪公司成功研发红色纳米色浆,可应用于光刻胶领域。目前公司已经完成部分光刻胶色浆样品验证,并且正在进行多批次、重复性、稳定性等应用测试。4、固高科技公司产品在刻蚀、沉积、清洗等半导体前道加工设备中已形成订单,并积极开发如光刻机、机械抛光、涂胶显影等晶圆制造先进制程控制系统5、万润股份公司积极...

专家解读65纳米光刻机的分辨率 技术瓶颈与多重曝光潜力

专家解读65纳米光刻机的分辨率近期,互联网上关于“65纳米光刻机”的讨论颇为热烈,但诸多言论缺乏权威依据,导致不少人对这一技术概念的理解愈发模糊。有人仅凭“8纳米套刻精度”来阐释65纳米光刻机的分辨能力,这种简化处理加深了混淆。幸运的是,随着科普工作的推进,大众逐渐达成一项共识:提及的65纳米分辨率、搭...

专家访谈精华:国产光刻机突破65纳米

中国工业和信息化部(工信部)近日宣布在芯片制造设备的自主研发方面取得突破,特别是在激光浸没式光刻机技术上取得了显著进展(www.e993.com)2024年11月1日。■建议的设备分辨率为65纳米或更高,相比此前最先进的国产设备(上海微电子的90纳米光刻机),实现了重大提升。■该公告虽未提及具体供应商,但包括氧化炉、干法刻蚀机等设备在内的多个国产...

阿斯麦业绩“爆雷”,美荷网友“甩锅”,都怪上海研发成功光刻机

9月9日，中国工信部突然宣布了一个重磅消息：上海微电子集团成功研发出了拥有完全自主产权的氟化氩光刻机。这可不是小打小闹，而是实打实的技术突破。这台光刻机的最小分辨率达到了65纳米，最小套刻精度更是达到了8纳米。虽然和阿斯麦最先进的光刻机还有差距，但已经相当于欧美2020年左右的技术水平了。这个消息一...

唯一掌握5nm刻蚀机黑马,业绩大增,外资重仓5941万股,有望腾飞

清华大学借助前沿的“稳态微聚束”技术,成功研制出适用于高端极紫外(EUV)光刻机的核心光源,填补了国内在该领域的空白,为我国自主研发EUV光刻机筑牢了坚实根基。另一方面,有“中国刻蚀机之父”之称的尹志尧博士带领团队,成功研制出国内首台5纳米刻蚀机。这一成果标志着我国在芯片微观加工领域步入国际顶...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么

那么,通知文件中的ArF光刻机(光源波长193nm,分辨率≤65nm,套刻≤8nm)极限能做到多少纳米制程?处于什么水平?极限制程能达到多少纳米?综合来看,这种规格的国产ArF光刻机性能与ASML于2015年二季度出货的ArF光刻机TWINSCANXT:1460K(分辨率为≤65nm,套刻精度<5nm)较为接近。而按套刻精度与量产工艺1∶3的关系,这...

国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

近期,工信微报微信公众号发文披露《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中,在电子专用设备一栏,氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示,氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。据东兴证券(10.410,-0.12,-1.14%)研报,光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机,...