阿斯麦CEO断言:没有高端光刻机,中国造不出3nm、5nm芯片

国内已经有多家企业在积极布局高端光刻机研发。据悉，上海微电子装备集团正在开发国产7nm光刻机，预计将在2025年前后实现量产。此外，中科院下属的光刻机研究所也在全力推进相关技术的研发。与此同时，我国在芯片设计、制造工艺等方面也在不断取得突破。华为麒麟9000芯片的问世就是一个很好的例证，它证明了中国在高端芯...

扬眉吐气!国产DUV光刻机研制成功,各国反应:美韩荷兰都不笑了

国产DUV光刻机的研发成功，其根本目的并非与他国较劲，而是为了实现关键核心技术的自主可控。在现代社会，芯片已然成为各行各业不可或缺的"基础设施"。如果在这一领域长期受制于人，将严重制约我国产业升级和经济发展。近年来，我国在高端制造装备领域投入巨大。DUV光刻机的突破，正是这一系列努力的关键一环。从此，...

华为海思光刻机供应商,上海微电子+中科院双方认证,全国仅一家

在A股市场众多公司中,与光刻机领域关联最为紧密的企业仅有两家。第一家张江高科,因持有上海微电子10.779%的股份而备受瞩目;第二家公司,它不仅是上海微电子光刻机的核心供应商,还直接向华为海思及中科院提供直写光刻机,更掌握着下一代EUV光刻机的核心技术。尤为重要的是,该公司股价尚处于10元左右的低位,近期...

光刻机的最新专利!背靠中科院,市占率80%,随时有望迎来翻倍!

国家出台的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》等政策,为国产芯片产业的发展提供了强有力的支持。这些政策不仅推动了国产氟化氪光刻机和氟化氩光刻机等关键生产设备的研发,还促进了整个集成电路产业链的完善。在A股市场中,这些政策的实施无疑为投资者指明了方向。那些能够抓住机遇,成为关键性厂商...

中科大副院长:美国都造不出的光刻机,中国永远不可能造出来!

视频中,博主项立刚自信地宣称,中国只需要再有五年时间,就完全有能力自主研发光刻机这样的芯片制造设备。这一观点迅速在社交媒体上爆火,激发了国民对于国家科技进步的期待与自豪感。项立刚的言论得到了不少公众的支持,许多人认为,这种乐观预期并非空穴来风,而是基于中国近年来在科技领域所取得的显著进步。

国产DUV光刻机研制成功!各国反应:荷兰不满,韩国美国诧异

面对这些困难，中国的DUV光刻机行业需要冷静思考，自己研发，不断提高技术能力和服务质量(www.e993.com)2024年11月1日。只有这样，我们才能在竞争激烈的市场上稳住脚跟。中国在DUV光刻机领域取得成功，这标志着一个新的起点。它告诉我们，中国科技已经进入了一个全新的时代，有能力在全球科技竞赛中扮演更加重要的角色。这条创新之路充满了困难和挑战...

中国造不出光刻机?中科大高层一句话让人心凉,造光刻机有多难?

科技发展日新月异,或许在我国成功研制光刻机的时候,世界就又变了模样。后者的难点在于,我们要摒弃光刻机的一切,从原点开始寻找新的途径。也就是说,我们要开创一个新的路径,如果成功,这就是颠覆性的举动。这两个无论任何一个,对于我国的难度都非常大,毕竟就算是上个世纪能与阿斯麦一较高下的日本,也无法更...

《中科院:电子加速器同步光源》中国光刻机的未来

成功直接1nm去了,用超大型x光做光源一旦成功确实逆天000881中广核技:电子加速器同步光源中国核心龙头企业---光刻机的希望国内已经在搞电子加速器一样的光源做光刻机光源,如果成功中国光刻机技术立刻进入2纳米以下,弯道超车西方技术。个人一直觉得,荷兰光刻机为了卖给其它国家,在光刻机设计上有妥协,为了方便运输...

ASML可远程锁死光刻机,我国如何关上半导体制造“后门”

具体产品方面,上海微电子装备有限公司已经成功研发出国内首台28纳米分辨率的浸没式光刻机,并实现了量产。此外,上海微电子还在全力攻关28nm技术,通过双重曝光可以制造14nm芯片,尽管良品率有所下降。中科院光电技术研究所研制的国内首台新型超分辨率光刻机也已投入生产,采用365nm波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米...

院士访谈 | 中科院光电所姜文汉院士

第二种是光刻机。1978年全国科学大会胜利召开,中国迎来了科学的春天,为改变我国集成电路制造的落后局面,党中央提出开展大规模集成电路的关键技术攻关。中国科学院安排光电所研制国内第一台光刻机——接近/接触式光刻机,我在第一台弹道相机刚刚研制完成后,就接到了新的任务。所里安排我负责这台光刻机的研制工作。