涨停雷达:半导体工艺废气治理+光刻胶+华为海思概念 盛剑科技触及...

异动原因揭秘:1、公司的主营业务为泛半导体工艺废气治理系统及关键设备的研发设计、加工制造、系统集成及运维管理。2、公司与日本长濑化成达成合作,引进长濑化成先进的FPD光刻胶剥离液和蚀刻液技术,生产、销售适用于FPD(平板显示,包括LCD、LED、OLED等)的剥离剂和蚀刻液。4月26日公司互动:光刻胶剥离液产品已形成批...

光刻产业链是半导体“皇冠上的明珠”!这些光刻机概念股有望受益

中航证券分析指出,光刻是芯片制造的核心工艺,占芯片制造1/2的时间+1/3的成本,光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”,同时也是国内最“卡脖子”的环节。光刻工艺是指集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。光刻技术...

久日新材半导体光刻胶产线投产在即,国产替代迎来新突破

国内光刻胶市场长期被国外企业主导，久日新材4500吨/年光刻胶生产线即将在今年12月底投产的消息，为我国半导体材料国产化进程注入一剂强心剂。这条生产线的建成投产，标志着我国在高端光刻胶领域实现了重要突破。光刻胶作为半导体制造中的关键材料，其技术门槛和工艺难度极高。据统计，2023年中国光刻胶市场规模已突破...

尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机,预计2026财年发售

尼康方面透露,这款光刻机的曝光过程无需掩膜,从而简化了生产工艺,降低了成本。同时,其1.0μm的分辨率也足以满足当前半导体封装工艺的需求,为芯片制造商提供了更加高效、可靠的制造工具。

让老美担忧的是,中国光刻胶通过量产验证,7nm以上工艺全覆盖!

而我国在半导体领域,设备和耗材的主要进口渠道就是日本,无疑日本这么做,就是为了将中国半导体行业的发展给彻底扼杀掉。在这其中,如果我国还想要自主研发芯片,就离不开光刻胶,也是在这个背景下,中国企业奋起直追,现在终于到了扬眉吐气的时候,随着国产光刻胶通过量产验证,以后7nm以上芯片的制程工艺,咱们就再也不用担...

又一家国产KrF光刻胶通过半导体工艺量产验证

10月15日,“中国光谷”通过微信公众号发布消息称,武汉太紫微光电科技有限公司(以下简称“太紫微公司”)推出的T150A光刻胶产品,已通过半导体工艺量产验证,实现配方全自主设计,有望开创国内半导体光刻制造新局面(www.e993.com)2024年11月27日。据介绍,太紫微公司的这款光刻胶产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”...

...剂(PAC)及半导体集成电路光刻 胶光引发剂(PAG)的生产技术及工艺

目前公司控股子公司彩晶光电已掌握TFT液晶面板正性光刻胶核心原材料光引发剂(PAC)及半导体集成电路光刻胶光引发剂(PAG)的生产技术及工艺,多个产品在目标客户处进行了性能测试。PAC主要用于线性酚醛树脂体系光刻胶中,如FPD和IC的g/i线光刻胶;PAG主要用于在化学放大型光刻胶中,包括部分IC光刻胶。终端应用...

疆亘观察|半导体国产替代的重要一环:光刻胶

且伴随半导体工艺节点升级，中国大陆晶圆厂普遍采用DUV（ArFImmersion）多次曝光的7nm工艺流程，以及更多的金属层布线需求、NAND堆叠层数增加，都将导致光刻胶需求量价齐升。摘要本文全面梳理了光刻胶行业，包括光刻核心工艺、光刻胶原材料构成、产业链上下游分布、行业核心壁垒及发展现状，以及发展国产替代的重要性与必要...

刻蚀设备:仅次于光刻机的半导体制造核心工艺 迎国产爆发机遇?丨...

作为半导体制造三大核心工艺之一的刻蚀设备,其价值量占比达到了22%,是重要性仅次于光刻机的半导体设备,正迎市场增长和国产化双机遇共振。什么是刻蚀设备?集成电路制造经历上百道工艺,光刻、刻蚀、薄膜沉积是三大关键设备,价值占比达60%以上。国际最先进芯片产线需要百亿美元投资,70%以上用于购买设备,单条线需要十大...

...PCB光刻 胶、显示用光刻 胶、半导体光刻 胶等系列感光电子化学品

证券之星消息,容大感光(300576)06月04日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。投资者:请问,公司目前生产的光刻胶都有哪些?适用于什么方面?容大感光董秘:您好,公司的主要产品为PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶等系列感光电子化学品。光刻胶是光刻工艺中的关键材料,当前被广泛应用于PCB、平板显示...