紫光展锐董事新增陈大同!TowerSemi全球技术研讨会中国场:模拟技术...

赛道一:“芯”百科知识竞赛。考查集成电路的基本概念和发展历程、集成电路产品门类与应用、集成电路相关专业知识、集成电路的前沿技术和趋势等内容。赛道二:集成电路应用开发职业技能竞赛。结合两种型号开发板——EVB-L0136(MM32L0136C7P)、Mini-F5333(MM32F5333D7P)及扩展硬件功能模块,实现红外收发控制、传感器采集...

中国智能控制器行业政策、市场集中度、企业竞争格局及发展趋势预测

如工信部等七部门发布的《关于推动未来产业创新发展的实施意见》,意见指出要发展智能制造、生物制造、纳米制造、激光制造、循环制造,突破智能控制、智能传感、模拟仿真等关键核心技术,推广柔性制造、共享制造等模式,推动工业互联网、工业元宇宙等发展。

为了营销!三星二代3纳米更名为2纳米

三星2022年6月底成为全球首家量产采用全栅极(GAA)架构的3纳米芯片商,2024年量产第二代3纳米,2025年量产2纳米。韩国市场人士解读,三星更改制程名称可能有利营销,这也是代工业近期趋势。2020年三星从7纳米转向5纳米时,第二代7纳米就改名5纳米。7纳米2019年成为全球首个使用极紫外光(EUV)曝光制程,更稳定,并让三星缩...

「党建阅读」何建明:走进“芯”里

它们也有可能执行着同一个技术指令,进行着无差别的技术工艺任务——“001号”指着另一条排列整齐得像阅兵式的钢铁队伍,步伐一致地、每分每秒做着共同的、同一标准的、丝毫不差的动作,在纳米和微纳米的世界里找准定位,衔接线路、嵌入电极、启动闸门、转换基线……芸芸万千步骤。它们又有一些像广袤的油田上那些单纯得...

中国公司喜提两台核心机器 突破芯片技术封锁

光刻机的作用是扫描曝光芯片晶圆,刻蚀集成电路。精度越高的光刻机,能生产出纳米尺寸更小,功能更强大的芯片。目前,苹果iPhoneX和iPhone8系列的核心处理器芯片,采用了台积电的10纳米工艺技术,而今年即将推出的新款iPhone将使用7纳米工艺技术。阿斯麦的EUV光刻机,则能生产出5纳米工艺级别的芯片。

综述| 中国农大 (IF:14.9): 微生物代谢组学:从新技术到多样化应用...

除了五磷酸途径中的4-磷酸赤藓糖外,龈上菌斑含有所有中心碳代谢的靶向代谢物(www.e993.com)2024年11月2日。优化CE-MS接口以实现更有效的电离,结合预富集技术,使其能够进行单细胞代谢组学。Kawai等人已经开发了一种高效的无鞘离子发射器“nanoCESI”,其灵敏度是常规无鞘发射器的3.5倍。nanoCESI和样品富集方法(通过等速电泳和堆叠的大体积双重...

美国芯片制造水平究竟如何?能崛起吗?

但是,半导体行业正在寻求芯片架构和材料方面的新突破,以维持性能提高的步伐以及使诸如AI或量子计算等新的关键技术得到应用的成本。这些新领域的进展取决于设计与制造之间不断加强的研发合作。5鉴于美国半导体行业在基础科学,集成电路设计和生产设备方面的领先地位,增强其制造能力可能会它引领着这些创新领域的发展,为未来创造...

集成电路布图设计专有权公告(2021年12月31日)

技术:NMOS-PMOS功能:其他布图设计权利人:深圳市芯电元科技有限公司布图设计权利人国籍:中国布图设计权利人地址:广东省深圳市福田区梅林街道梅华路105号国际电子商务产业园3栋202B房布图设计创作人:杨彦峰代理机构:合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙)...

美国芯片制造领先在哪里

但是,半导体行业正在寻求芯片架构和材料方面的新突破,以维持性能提高的步伐以及使诸如AI或量子计算等新的关键技术得到应用的成本。这些新领域的进展取决于设计与制造之间不断加强的研发合作。5鉴于美国半导体行业在基础科学,集成电路设计和生产设备方面的领先地位,增强其制造能力可能会它引领着这些创新领域的发展,为未来创造...

全球人工智能发展白皮书:八大关键技术中国崛起中

▲智能芯片的分类▲智能芯片技术的进展8、脑机接口技术脑机接口(Brain-ComputerInterface,BCI)是在人或动物脑(或者脑细胞的培养物)与外部设备间建立的直接连接通路。通过单向脑机接口技术,计算机可以接受脑传来的命令,或者发送信号到脑,但不能同时发送和接收信号。而双向脑机接口允许脑和外部设备间的双向信息...