国产半导体迎来曙光:7nm工艺正式交付,外媒惊呼“反转再现”

说到这个突破，那可真是一波三折啊！要知道，在半导体行业，从28nm到14nm，再到7nm，每一次工艺的提升都不是小事。就拿7nm来这可是一个能让芯片性能大幅提升的关键节点。之前，全世界也就只有少数几家公司能够量产7nm芯片，比如台积电、三星和英特尔。我们国产半导体企业要想赶上这个水平，难度可想而知。但咱们的工...

一万八干字详解半导体刻蚀工艺_腾讯新闻

刻蚀工艺作为半导体工艺中的核心环节,直接决定了器件的结构和特性,刻蚀工艺用于精确地去除或调整半导体表面的材料,以形成所需的结构和电路图案。#01刻蚀工艺的发展历程如图展示了半导体产品的发展与刻蚀和沉积技术的关系,揭示了技术进步的重要节点和趋势。半导体产品从早期的4-bitDRAM发展到更复杂的MLC3DNAND...

一万八干字详解半导体刻蚀工艺_腾讯新闻

刻蚀工艺作为半导体工艺中的核心环节,直接决定了器件的结构和特性,刻蚀工艺用于精确地去除或调整半导体表面的材料,以形成所需的结构和电路图案。#01刻蚀工艺的发展历程如图展示了半导体产品的发展与刻蚀和沉积技术的关系,揭示了技术进步的重要节点和趋势。半导体产品从早期的4-bitDRAM发展到更复杂的MLC3DNAND...

台积电:半导体工艺革新路线图

03其中,A16工艺将是首个“埃级”工艺节点,标志着半导体制造进入一个新的时代。04A16工艺采用背面供电网络技术(BSPDN)和GAAFET纳米片晶体管,旨在提升性能和能效。05随着台积电的这些技术突破,半导体行业正步入一个充满挑战与机遇的新时代。以上内容由腾讯混元大模型生成,仅供参考芝能智芯出品在半导体科技的快速演...

半导体后端工艺|第七篇:晶圆级封装工艺

3溅射(Sputtering):一项利用等离子体束对靶材进行物理碰击,使靶材粒子脱落并沉积在晶圆上的工艺。图1:各类晶圆级封装工艺及相关步骤光刻工艺:在掩模晶圆上绘制电路图案光刻对应的英文是Photolithography,由“-litho(石刻)”和“graphy(绘图)”组成,是一种印刷技术,换句话说,光刻是一种电路图案绘制工艺。首先在晶...

半导体PR Strip(光阻剥离)工艺介绍

Strip工艺是集成电路制造过程中至关重要的一步,主要用于在芯片制造的多个阶段去除表面上的光阻或其他保护层(www.e993.com)2024年11月14日。2.工艺原理Strip工艺的基本原理是使用化学或物理方法来去除芯片表面的光阻层或其他材料。化学剥离涉及使用溶剂、酸或碱,而物理剥离可能包括干法如等离子体剥离。这需要精确控制各种参数,如温度、时间和化学剂...

2024年第二届特色工艺半导体产业发展常州大会举行

4月18日,2024年第二届特色工艺半导体产业发展常州大会举行。市长盛蕾,中国科学院院士郝跃、中国工程院院士吴汉明、国际欧亚科学院院士魏少军等出席活动。现场,亦泓科技智能感知、轻舟微电子MEMS传感器、浦兰斯半导体射频感应制粉设备、铸远智造虚拟传感器、鸣耀激光固体激光器5个项目签约入驻龙城芯谷。来自西安电子科技大学...

2nm半导体大战一触即发:三星、台积电等积极布局2nm工艺制造

2nm工艺被视为下一代半导体工艺的关键技术突破，其优势在于能为芯片带来更高性能和更低功耗。据媒体报道，三星已拟定计划，预计于明年在韩国启动2nm制程技术的生产。此外，该公司还计划在2047年之前，于韩国投资500万亿韩元，兴建一座超大规模的半导体生产基地，专注于2nm制程技术的制造。而三星电子在近日的2023年四...

广州市工业和信息化局关于印发广州市关于聚焦特色工艺半导体产业...

(一)本文件所称特色工艺半导体企业是指在广州市范围内从事设计、制造、封装、测试、验证、材料、装备,宽禁带半导体器件制造、模块、外延片以及智能传感器等领域研发、生产、运营、服务的各类企事业单位和组织。(二)本文件执行过程中,与国家法律法规和广东省有关规定有冲突的,以国家法律法规和广东省有关规定为准。

半导体制造工艺——挑战与机遇

瑞萨在支持半导体工艺方面的作用和进步瑞萨电子是公认杰出的先进半导体解决方案供应商,为包括汽车、工业和物联网在内的广泛应用提供微控制器、模拟和功率部件以及片上系统(SoC)解决方案。我们致力于创新,并通过开发先进技术,在支持半导体工艺方面发挥了举足轻重的作用。