【突破】工信部推广国产重大技术装备突破,套刻精度≤8nm的光刻机...

1.工信部推广国产重大技术装备突破,套刻精度≤8nm的光刻机在列为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同,工信部于9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《目录》)通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化...

中国第一台光刻机研发成功!国产化之路,势在必行!

我国几次想引进ASML光刻机，但都被美国百般阻拦，没有光刻机，导致我国一直在芯片行业受制于人。国产化之路，势在必行！功夫不负有心人，2018年经过艰苦研究，终于研发了“世界上首台分辨力最高的“紫外超分辨光刻装备”，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。虽然这台光刻机使用的是365纳米的波长光源，但是...

国产光刻机官宣突破,美荷却沉默了,究竟为啥?

因为世界上能够掌握7nm以下技术的只有光刻机之王阿斯麦,目前国际市场上所有高端芯片需要的EUV光刻机,只有荷兰有,这也正是阿斯麦的核心利益所在。要是有人突破了这道难关,那美国和阿斯麦早就坐不住了。而我们的国产氟化氩光刻机,从目前的数据来判断,它大概率能够实现28纳米芯片的量产,这和7nm还有一定距离。而真...

国产光刻机终结外资垄断,中字头央企成突破者!

南大光电:公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证,成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。并开始小批量生产,大族激光:公司生产的接近式光刻机已投入市场,步进式光刻机已启动用户优化,公司将根据市场需求及业务发展情况持续制定研发计划,并加大研发核心部件国产化。下面这家是我最看好的,最新的光刻...

禁令方向反了?国产光刻机获突破,套刻精度小于8nm

据悉，国产光刻机突破事件引发外媒关注，他们发现发现光刻机禁令简直就是笑话，非但没有阻止中国光刻机崛起，反而助中国光刻机更上一层楼，就连半导体制造水平落后的俄罗斯也有重大突破，光刻机崛起已是大势所趋。众所知周，俄罗斯的军事实力毋庸置疑，但其半导体水平却是相对落后的，与西方的差距超过20年，但俄罗斯...

国产光刻机新突破,投资50亿在浙江建厂,阿斯麦面临危机?

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源达:国内光刻机发展道阻且长,国产突破行则将至

光刻机国产化曙光已现,65nm节点光刻机有望突破近日,工信部发布《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中的电子专用装备目录下,集成电路设备方向披露一台氟化氩光刻机,属于DUV光刻机。光刻机分辨率≤65nm、套刻≤8nm。若按照套刻精度与量产工艺约1:3的关系,氟化氩光刻机有望用于28nm芯片产线中...

天塌了,英特尔或被收购;国产光刻机重大突破

难受的不光是英特尔,上周也有消息称,英特尔前总裁创立的AmpereComputingLLC也正考虑出售的可能性。这一拨属实是赶巧了,毕竟Ampere一直制造采用Arm架构的CPU,对标英特尔,现在或许我们在经历历史性的时刻。国产光刻机,重大突破工信部于9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《目...

国产光刻机唯一龙头,背靠中字头央企,打破技术垄断,有望追赶阿麦斯

1、是除上海微电子外另一家研发高端光刻机整机的公司,最新报道的光刻机就是该公司研发。2、公司背靠中字头央企,潜力巨大3,业绩连续五年稳增长,国企改革+央企重组概念叠加,炒作的概念大大增加。4,经过几个月强力洗盘调整,如今筹码大部分已集中在主力手中,近期上攻意愿极强,且上升空间十足,有望复刻张江高科8倍...

专家访谈精华:国产光刻机突破65纳米

中国工业和信息化部(工信部)近日宣布在芯片制造设备的自主研发方面取得突破,特别是在激光浸没式光刻机技术上取得了显著进展。■建议的设备分辨率为65纳米或更高,相比此前最先进的国产设备(上海微电子的90纳米光刻机),实现了重大提升。■该公告虽未提及具体供应商,但包括氧化炉、干法刻蚀机等设备在内的多个国产...