中国芯片攻坚7nm,努力实现媲美3nm性能的新突破

美国联合多国，采取严格的出口管制措施，试图限制中国在先进半导体制造技术上的进展，特别是在14nm以下的逻辑芯片领域。面对这种形势，中国的芯片产业并未退缩，而是展现出了顽强的韧性和创新能力，逐步在技术上取得突破。回顾过去的几次媒体报道，可以看到美国及其盟友，如日本和荷兰，采取了阻止中国获取能够制造14nm以下...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

此次推出的65纳米光刻机，虽然与全球最顶尖的7纳米光刻机仍有差距，但已经能够满足大部分工业芯片的生产需求。尤其是在汽车制造、家电智能化等领域，28纳米及以上的芯片需求庞大，而中国自主研发的光刻机正好填补了这一市场空白。更重要的是，随着国产光刻机的不断改进，中国芯片产业逐步摆脱了对外技术的依赖。这不...

中国芯片技术突破7nm!侯汉廷:全球只有中国大陆能全面性完成芯片...

00:00/00:00倍速当前设备不支持播放你可以刷新试试70017001.199-3c751b832b98844b67b0e7dd46ce8cc1中国芯片技术突破7nm!侯汉廷:全球只有中国大陆能全面性完成芯片生产制造展开2024-09-2310:45发布于北京|46万观看2580338268409手机看中国...

突破欧美围堵!国内公司取得7nm或以下芯片关键技术

近年美国禁止中国输入关键芯片及先进的芯片制作工具,被中国视为是欧美在科技上的围堵。最近中国上海微电子设备(集团)股份有限公司(SMEE),公布了一系列制造7nm及以下芯片关键能力的专利,或许可以突破欧美的科技围堵。图片由SMEE官方网页下载中国国家智慧财产局于9月10日披露了一项名为“极紫外线辐射发生装置及光刻设备...

港媒:或将扫清芯片技术障碍,中国科学家在硅光子学取得突破

然而，据香港知名国际媒体《南华早报》消息称，近日武汉一家实验室传来了一则好消息，或将为中国摆脱这种技术束缚带来新的曙光。硅光子技术的突破据武汉光电国家研究中心（JFS实验室）最近发布的公告，该实验室成功将激光光源集成至硅基芯片，实现了国内首次这一突破性成就。人民日报将其称为“中国光电子技术少有的...

科技前沿|可批量制造!我国高性能光子芯片领域取得突破

随着集成电路产业发展进入“后摩尔时代”,集成电路芯片性能提升的难度和成本越来越高,人们迫切需要寻找新的技术方案(www.e993.com)2024年11月9日。近日,中国科学院上海微系统与信息技术研究所科研团队在钽酸锂异质集成晶圆及高性能光子芯片领域取得突破性进展,成功开发出可批量制造的新型“光学硅”芯片。相关研究成果8日在线发表于《自然》杂志。

中国科技新突破:钽酸锂集成光子芯片的批量制造

最近咱们国家的科学家在钽酸锂集成光子芯片这方面有了超级大的突破,成功实现了这种芯片的批量生产!这可真是个超级大的飞跃呀,对咱们国家的集成电路产业发展那是相当有推动作用!那这到底有啥意义呢?简单说吧,就是咱们能大规模生产一种超级厉害的光子芯片啦!这种芯片,电光转换特性超棒,而且在双折射、透明窗口范围这...

从“差三代”到“全覆盖”!国产芯片制造核心装备实现新突破

国产芯片制造核心装备实现新突破科技日报记者付毅飞提起离子注入机,熟悉集成电路的人都知道,该设备与光刻机、刻蚀机、镀膜机并称为芯片制造的“四大核心装备”,其高端市场长期被国外垄断。20多年前,为突破集成电路装备自主创新的堵点卡点,中国电科所属中电科电子装备集团(以下简称“电科装备”)第四十八研究所...

官宣!中国芯片重大突破,美国看了马上联合日韩偷摸搞事!

我们都知道,中国科技领域技术的突破早就引起了美国的警觉。美国政府迅速对中国企业实施了打压,将一些关键企业列入了“实体清单”,限制它们与美国企业的交易。美国还采取了封锁芯片出口的举措,限制了关键技术的交流和共享更可笑的是它还联合了日韩荷兰等国,限制向中国出售光刻机和制造过程所需的关键材料,试图进一步削...

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

需要说明的是,套刻精度与制程工艺是两码事,新光刻机的套刻精度小于8纳米,不意味着能够量产8纳米工艺制程的芯片,实际上也不存在所谓的8纳米制程工艺芯片,不少人认为套刻精度与量产工艺节点大约有1:3的关系。因此,尽管目前国产光刻机的套刻精度达到了8纳米,但这并不意味着可以直接生产8纳米制程的芯片,而是可能更...