撕下自由竞争面具,遏制中国技术发展,美“芯片法案”藏着多少...

美国的“芯片法案”主要聚焦以下几个方面,意图将中国芯片产业扼杀在起步阶段。首先,对中国封锁28纳米以下的技术和设备及材料。集微咨询总经理韩晓敏对记者表示,芯片法案的限制主要体现在两方面:一是持续禁止先进制造相关的设备、材料等供应链资源给到中国本土企业,压制中国企业在先进制造领域的研发进度;二是要求获得芯片...

国产半导体,逆袭中!

国产芯片在制程工艺方面取得了显著进展。例如,中国芯片制造商如华为海思、中芯国际(SMIC)在14纳米工艺技术上取得重要突破,并预计在规划的时间内实现量产。当Mate60以惊人的性能征服了市场,很多人惊讶地发现,这款手机的芯片竟然只用了7nm制程。半导体行业观察机构TechInsights副主席DanHutcheson在评价华为Mate60...

让老美担忧的是,中国光刻胶通过量产验证,7nm以上工艺全覆盖!

这是一种芯片制造过程中,所要使用到的聚合物薄膜材料。在光刻过程中发生聚合或者是解聚反应,从而把图案留在硅片上。在国际上,日本的光刻胶技术最强,早在上世纪六七十年代,日本就已经拥有了光刻机的自主知识产权,并将核心技术牢牢握在手中,率先创立了光刻胶行业的技术壁垒,有随着日本光刻胶的商业化,最终实现了...

贝茵凯:深耕高端领域,第七代IGBT芯片突破国产化技术壁垒

在这一进程中，北京贝茵凯微电子有限公司（简称“贝茵凯”）作为国内厂商的佼佼者，致力于推动国产IGBT技术的突破与创新。成功量产第七代IGBT，突破国产化领域壁垒贝茵凯成立于2022年5月，专注于高精尖制程功率芯片的研发与应用，在不到2年的时间里已研发并批量生产出独具特色的全系列第七代IGBT芯片，成功突破国产...

中国首台国产光刻机交付,突破西方的技术垄断后,美国能接受吗

美国为了打压中国芯片领域的发展,使用了多种手段,在几年前就限芯,还施加压力给荷兰阿斯麦,不让其把先进的光刻机设备提供给中国,现在中国首台国产“SMEE”光刻机交付,是上海微电子研发建造的,在突破了西方的技术垄断之后,一个奇怪的现象发生了。美国一直都对中国芯片领域的发展速度感到不安,认为中国的发展速度,会...

AI时代,我们需要怎样的国产芯片?|甲子引力X

东方富海合伙人王兵认为中国国已经基本解决了中低端芯片的设计问题,当前中国芯片行业最大的短板在于先进制程的设备和先进制程的生产能力(www.e993.com)2024年11月29日。他强调了AI算力需求的增长和对芯片互联技术的关注,同时他认为,汽车厂商在下场造芯片的时候可以借鉴特斯拉的思路,将MCU很多功能糅合到一张芯片里去;...

中国光刻机技术实现重大突破,美国的制裁不灵了

假如我国持续在光刻机领域发力，实现类似极紫外光刻机技术的突破，每年单单光刻机和芯片进口就能节省超过2万多亿元人民币的花费。而且这还只是自我花费的节约，有了先进的光刻机，我们还可以进行光刻机和芯片的出口。这样里外里怕不是能够为国家产出3万亿人民币的财富，换算成美元，可以排到世界各国GDP排名的第30位...

国内芯片先进制程中的良率探讨-闭门会精华

3月22日,常垒资本和水木梧桐创投在上海西岸国际人工智能中心组织了一场闭门分享会,现场的嘉宾及观众围绕国内芯片先进制程的现状、芯片研发/生产制造中的良率以及亟待突破的新技术等主题做了精彩的探讨和展望。此次来到现场参与圆桌对话的嘉宾都是半导体领域的资深人士,他们当中有国内半导体行业的元老级人物,如今依然奋斗...

国产汽车芯片如何应对挑战和实现突破

目前,我们正在集中力量做一款高端的ADAS芯片,因为公司的技术能力全部在高性能、高制程芯片上面,明年我们会给大家呈现达到200TOPS的自动驾驶芯片。在功能安全方面,我们的芯片是国内首款通过SLD的流程认证的,是既有产品认证又有功能安全认证的,也是国际上首款在车上用LPDDR5内存的芯片,这些产品都是在量产过程当中。谢谢...

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

光刻技术经过不断地技术迭代已经达到了以浸没式、多重曝光技术为主的先进光刻技术环节,芯片的制程技术达到了3nm以下。光刻是半导体生产过程中最重要的步骤之一,典型的光刻工艺流程包括8个步骤,分别是底膜准备、涂胶、软烘、对准曝光、曝光后烘、显影、坚膜、显影检测。在光刻机的发展历史中,光刻技术经历了接触/接近...