美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

美国凭借自身的霸权优势，拉拢那些在芯片领域有技术优势的势力，搞了个围堵中国的联盟。美国这么干，就是想在芯片行业把中国孤立起来，不让中国跟其他国家有技术交流，拖慢中国的发展速度。此外，美国还推出了《芯片和科学法案》，硬是把原来的芯片产业格局给打破了，就想把全球芯片产业的主导权攥在自己手里。美国对...

“芯片荒”打不倒中国半导体,“28纳米”俱乐部又添新员

在国产替代方面，28纳米工艺更是有着巨大的潜力。随着国家对半导体产业的战略重视和政策扶持，以及企业自主可控意识的提升，国产芯片的需求呈井喷式增长。晶合集成的28纳米逻辑芯片，有望填补国内高端逻辑芯片的供给缺口，助力我国电子信息产业的自主可控进程。-02-研发投入必有回响2024年第三季度，晶合集成的这次技术...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

尽管中国的65纳米光刻机尚未达到ASML最先进的7纳米机型的水准,但这一突破标志着中国已经具备了制造芯片关键设备的能力。未来,随着国产光刻机技术的迭代更新,西方国家的技术垄断地位将受到更大的挑战。中国光刻机的未来:从艰难起步到技术腾飞尽管中国的光刻机技术起步较晚,但其发展速度令人惊叹。此次推出的65纳...

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

民众热切期盼国产光刻机技术取得突破,这一愿望源于对国产芯片摆脱外部制约的强烈渴望。对于这一现代半导体工业集大成的领域,国产光刻机究竟走到哪一步了?“在西方技术层层封锁下,国产8纳米光刻机横空出世!”“工信部官宣14nm国产光刻机,距离ASML的EUV光刻机还有多远?”日前,工信部正式发布了《首台重大技术装备推...

国产芯片突破五纳米 订单延续至2026年

在当前全球科技竞争态势日益升温的背景下，芯片产业的自我突破显得尤为重要。2024年很可能成为中国芯片发展的一个重要转折点。随着国内在5纳米光刻机领域取得显著进展，尤其是在RISC-V架构的崛起下，中国正在重塑芯片产业的格局。在经济命脉和国家安全的双重考量下，这是一场不容忽视的技术革命。光刻机，这个芯片制造...

...实现材料技术重大突破【附显示驱动芯片技术赛道观察图谱】

8月8日,中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员狄增峰团队开发出面向二维集成电路的单晶氧化铝栅介质材料——人造蓝宝石,这种材料具有卓越的绝缘性能,即使在厚度仅为1纳米时,也能有效阻止电流泄漏,该材料未来可用于开发低功耗芯片(www.e993.com)2024年11月7日。相关成果已发表于国际学术期刊《自然》。

科技新突破 | 我国科研团队在下一代芯片领域取得新突破 成功研发...

转自:中国科技网北京大学电子学院碳基电子学研究中心彭练矛-张志勇团队,在下一代芯片技术领域取得重大突破,成功研发出世界首个基于碳纳米管的张量处理器芯片。

科技企业高管说:我国芯片技术能解决7纳米已很了不起,3/5纳米不容易!

“中国我们肯定是得不到3nm,肯定得不到5nm,我们能解决7nm就非常非常好。”那些动不动就吹嘘说突破5纳米、3纳米脱离了现实,这无疑是在当下躁动的社会中给予重锤,提醒各方不要过于狂妄自大。“中国创新的方向就必须要依托于我们芯片能力的方向,我们的创新方向不能在单点的芯片工艺上,我们的创新方向应该在系统架构...

【新华社】我国科学家开发出可规模制造的光子芯片材料

光子芯片是未来信息产业的重要基础,业界一直在寻找可规模制造光子芯片的优势材料。中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员欧欣领衔的团队在该领域取得突破性进展,他们开发出钽酸锂异质集成晶圆,并成功用其制作高性能光子芯片。该成果5月8日发表于国际学术期刊《自然》。

光刻机研发遭卡脖子,量子芯片横空出世,我国能否实现弯道超车?

美国已经实现了7纳米芯片的量产,5纳米芯片的基本测试和应用,正在进行3纳米芯片的研发,并且从当前的进度来看,3纳米,甚至是2纳米芯片都只是时间问题。我国目前在传统芯片领域实现了14纳米技术的全面自主可控,和7纳米技术有大概两代的技术差距。其实从全球视角来说,以我们半导体产业的发展时间来看,我们的技术并不算绝对...