美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术
更让人兴奋的是,2024年9月的时候,工信部发布消息说,中国研制出了两台新光刻机呢。氟化氩光刻机里比较先进的那种,照明波长是193nm,分辨率最多是65nm,套刻最多是8nm。看这台光刻机的技术参数就能知道,我国的光刻机技术有重大突破了,它8纳米的套刻精度在全球都算比较高的。这款新的国产光刻机一问世,...
官宣了!中国光刻机重大突破,已成为全球唯一生产线完整的国家!
最近,答案似乎有了点眉目:中国自主研发的氟化氩和氟化氪光刻机取得了重大突破。虽然这并不意味着明天我们就能摆脱国外的技术封锁,但这无疑点燃了芯片产业的希望之灯。而这背后不仅是技术的革命,更多的是中国在国际科技竞争中逆风翻盘的一部分。可能有人会问,光刻机到底有多重要?直白地说,在芯片制造这场游戏...
荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗
荷兰政府此前对我国的光刻机技术研发能力缺乏充分认识,认为即便向我国提供中低端设备,我国也无法实现技术突破。然而,如今的事实证明,我国不仅在低端市场取得突破,甚至开始逐步迈向中高端领域。荷兰经济部长德克·贝利亚茨在与美国就光刻机禁售问题进行磋商时,明确表示我国是荷兰的重要贸易伙伴,阿斯麦公司在华业务的正常开...
中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗
一方面,这可能是因为中国光刻机的成功已经打破了他们原有的预期,使得西方无法继续用老套的唱衰论调来评价中国的技术进展。另一方面,这也折射出西方对于中国技术崛起的焦虑。尽管中国的65纳米光刻机尚未达到ASML最先进的7纳米机型的水准,但这一突破标志着中国已经具备了制造芯片关键设备的能力。未来,随着国产光刻机...
国产光刻机取得重大突破后,荷兰态度变了,要求美国放宽对华限制
而中方在光刻机上取得的突破,也顺应了市场规律,一是光刻机的发展路线国外已经走过了一遍,中方不至于再走弯路,自然能节省一定的研发时间;二是庞大的市场催生出了庞大的需求,美国“卡脖子”只能短时间内发挥作用。美国著名企业家比尔·盖茨去年3月份曾表示,美国永远无法成功阻止中国拥有强大的芯片,其做法只会迫使中国...
光子芯片取得重要突破,中国或将绕开EUV光刻机瓶颈
光子芯片取得重要突破,中国或将绕开EUV光刻机瓶颈光子芯片的产业化在中国正逐步取得关键进展,这标志着中国芯片行业迈出了具有里程碑意义的一步(www.e993.com)2024年11月10日。这一进展不仅为中国芯片行业带来了新的希望,更有可能助力中国在全球芯片竞争中实现逆袭,走出一条独特的发展道路。在当前国际形势复杂多变的背景下,中国芯片产业面临的...
首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”
在氟化氩光刻机的信息发布之后,网络上却出现了各种不同的声音,有说我国8nm光刻机取得突破的,也有分析14nm/28nm光刻机取得突破的,当各种说法在短时间内涌现时,氟化氩光刻机究竟是怎样的存在呢?这里大家其实应该首先了解“套刻精度达到≤8nm”的含义,光刻机的套刻误差(Overlav)描述的是光刻上一层图案与下一...
国产光刻机重大突破 工信部印发推广指导
而更先进的极紫外(EUV)光刻机此前早已被完全禁止出口中国。中国商务部新闻发言人9月8日表示,近来,中荷双方就半导体出口管制问题开展了多层级、多频次的沟通磋商。荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上,进一步扩大对光刻机的管制范围,中方对此表示不满。文/北京青年报记者朱开云...
中国造不出光刻机?中科大高层一句话让人心凉,造光刻机有多难?
中国真的造不出来光刻机吗对于我国来说,想要制造芯片,摆在面前的有两条路。第一条,死磕光刻机,从基础开始慢慢突破,其他领域都能突破,为什么光刻机不能?第二,放弃光刻机,另寻其他制造先进芯片的方法。这两个方法可谓是有利有弊,前者是时间不确定,有毅力在,相信我们绝对能突破,但时间却成为了我们最需要的...
中科大副院长:美国都造不出的光刻机,中国永远不可能造出来!
朱士尧教授认为,中国一国的力量难以比拟全世界几十个国家的联合能力。这种判断并非妄自菲薄,而是基于对现实情况的清醒认识。光刻机的研发不仅需要顶尖的科研人才,还需要长期的技术积累和巨额的资金投入。即便是科技强国,也需要数十年的持续努力才能在这一领域取得突破。