重大突破!中国第一台芯片光刻机成功交付使用!

近日，国内传来喜讯，我们自主研发的28纳米光刻机已成功问世。这无疑是为国产芯片产业注入了一剂强大的动力！作为芯片生产的核心装备，光刻机的成功研发意味着我们已在该领域稳扎稳打，逐步摆脱对国外设备的依赖。接下来，让我们深入了解这款光刻机背后的深远意义，以及它将如何重塑我们的芯片产业格局！力挺国产芯片...

美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

美国制裁中国的时候，中国首先宣布拿出多达4000亿元用来补贴建厂投资，还有几千亿元的税收减免政策，并且大力去建设国家级的芯片制造中心。并且以后还会拿出万亿资金来发展芯片全产业链，想方设法提升芯片企业对中国的信心。同时，我们也集中精力发展芯片产业，从设计、生产再到研发，专门制定各种政策，给芯片产业国产化提供...

中国芯片又一重大突破!

中国芯片又一重大突破!据“九峰山实验室”官方消息,2024年9月,该实验室在硅光子集成领域取得里程碑式突破性进展——成功点亮集成到硅基芯片内部的激光光源,这也是该项技术在国内的首次成功实现。显微镜下,片上光源芯片的光输出视频随着人工智能大模型的开发和应用,以及自动驾驶等技术的发展,对于芯片算力的需求持续...

“芯片荒”打不倒中国半导体,“28纳米”俱乐部又添新员

晶合集成的28纳米逻辑芯片,有望填补国内高端逻辑芯片的供给缺口,助力我国电子信息产业的自主可控进程。-02-研发投入必有回响2024年第三季度,晶合集成的这次技术突破,不仅仅是一次简单的验证成功,背后蕴含的是公司多年来在半导体领域的深厚积淀和持续创新。晶合集成成立于2015年,由合肥市建投与力晶创新合资建立,专...

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

DUV光刻机想要生产更先进制程芯片,除了浸没式外,就必须突破多重曝光技术的瓶颈。多重曝光将原本一层光刻的图形拆分到多个掩模上,利用光刻Litho和刻蚀Etch实现更小制程。1.35NA的浸没式DUV分辨率约38nm,单次曝光能满足28nm逻辑节点,在2015年EUV光刻机量产之前,台积电最先进制程已发展到16/12nm,实现手段便是多重曝光...

国产芯片迎来好消息,半导体材料跻身全球前六,突破日本垄断

不过，近期中国市场传来了振奋人心的消息：上海沪硅产业的硅片产能已经达到了每月30万片，并预计在年底前实现每月45万片的产能，成功跻身全球前六(www.e993.com)2024年11月9日。这意味着中国企业在半导体材料这一关键环节取得了突破，国产芯片产业链因此迈出了重要的一步。那么，硅片究竟是什么，又是如何制造出来的呢？在芯片领域，硅片指的是...

突破欧美围堵!国内公司取得7nm或以下芯片关键技术

近年美国禁止中国输入关键芯片及先进的芯片制作工具,被中国视为是欧美在科技上的围堵。最近中国上海微电子设备(集团)股份有限公司(SMEE),公布了一系列制造7nm及以下芯片关键能力的专利,或许可以突破欧美的科技围堵。图片由SMEE官方网页下载中国国家智慧财产局于9月10日披露了一项名为“极紫外线辐射发生装置及光刻设备...

中国半导体芯片研发再获两大重要突破:世界首创和全球首款

近日,中国在半导体芯片领域创造了两项记录:一是量产了全球首款28nm内嵌RRAM画质调节芯片,二是研发出了世界首创的16位量子比特半导体微型处理器芯片。量产全球首款28nm内嵌RRAM画质调节芯片近日,我国显示类芯片达到新的半导体工艺高度。据“北京亦庄介绍,由中国半导体厂商显芯科技有限公司(以下简称“显芯科技”)联合国...

从“差三代”到“全覆盖”!国产芯片制造核心装备实现新突破

国产芯片制造核心装备实现新突破提起离子注入机,熟悉集成电路的人都知道,该设备与光刻机、刻蚀机、镀膜机并称为芯片制造的“四大核心装备”,其高端市场长期被国外垄断。20多年前,为突破集成电路装备自主创新的堵点卡点,中国电科所属中电科电子装备集团(以下简称“电科装备”)第四十八研究所组建研发团队,走上离子...

外媒曝光中国芯片封锁加强,惊人内幕揭秘

而看到我们在芯片领域频频取得突破,不少外媒都纷纷表示:越封锁反而越强大了,拜登制裁了个“寂寞”!正所谓没有伤痕累累,哪来皮糙肉厚,美国以为修改了芯片规则,不准美芯企业出售高端芯片给我们,不准ASML出售高端光刻机给我们,我们就无法自主生产高端芯片,但事实证明美国明显高估了自己,低估了中国,因为我们拥有全球最...