上海新阳取得一种 193nm 干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用专利

上海新阳取得一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用专利金融界2024年11月21日消息,国家知识产权局信息显示,上海新阳半导体材料股份有限公司取得一项名为“一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用”的专利,授权公告号CN116144015B,申请日期为2021年11月。本文源自:金融界...

扬州虹扬科技发展有限公司取得去除硅片表面光刻胶后的废液处理...

专利摘要显示,本实用新型公开一种去除硅片表面光刻胶后的废液处理装置,涉及晶片生产辅助技术领域,其具体结构包括:机架;多个硫酸槽,间隔安装于机架上;排液机构,安装于机架上,且排液机构的一端与硫酸槽连通;收集机构,设置于地面上,且收集机构与机架间隔设置;收集机构的高度低于排液机构的高度,且收集机构与排液机构的...

中国光刻胶发展任重道远,2023 年市场规模约 121 亿

按形成的图像,可分为正性和负性两大类;按曝光光源和辐射源的不同,又有紫外光刻胶、深紫外光刻胶等多种细分。其成分复杂,包括感光树脂、增感剂和溶剂等。光刻胶用途广泛,从智能手机处理器到航天器控制系统等众多领域都有其身影,对精密制造和小型化设备生产尤为关键,性能直接影响终端产品的产能和质量。中国对...

晶瑞电材:公司子公司瑞红苏州拥有紫外宽谱系列光刻胶、g线系列光...

公司回答表示,尊敬的投资者,您好!公司子公司瑞红苏州拥有紫外宽谱系列光刻胶、g线系列光刻胶、i线系列光刻胶等近百种型号半导体光刻胶量产供应市场,在高端光刻胶方面,已有多款KrF光刻胶量产,ArF光刻胶多款产品已向客户送样。感谢您对公司的关注!点击进入交易所官方互动平台查看更多...

光刻胶是什么材料?这种材料在半导体制造中有何重要性?

光刻胶:半导体制造中的关键材料在半导体制造领域,光刻胶是一种不可或缺的重要材料。它是一种由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成的混合物,具有特殊的化学和物理性质。光刻胶的主要成分感光树脂决定了其感光度和分辨率等关键性能。增感剂则有助于提高光刻胶对光的敏感度,从而能够在光刻过程中实现更精细的图案...

中国光刻胶企业暴露了,美国知道后,正敦促日本对华进行遏制

光刻胶的种类繁多,按照曝光波长不同,可分为g-line(436nm)、i-line(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)等光刻胶(www.e993.com)2024年11月23日。不同种类的光刻胶就像不同功能的画笔,适用于不同精度要求的芯片制造。例如,对于精度要求更高的先进芯片制造,ArF光刻胶就成了不二之选。而中国的光刻胶企业在研发和生产这些光刻胶的过程...

光刻胶是什么材料?这种材料在高科技产业中有什么应用?

光刻胶:高科技产业中的关键材料在高科技产业的舞台上,光刻胶扮演着至关重要的角色。光刻胶是一种具有特殊性能的材料,它在微电子制造等领域发挥着不可或缺的作用。首先,我们来深入了解一下光刻胶的成分。光刻胶通常由感光树脂、光引发剂、溶剂以及添加剂等组成。其中,感光树脂决定了光刻胶的基本性能,如分辨率...

中石科技:公司产品暂未应用于光刻胶领域,多种技术交叉优势及稳定...

金融界7月29日消息,有投资者在互动平台向中石科技提问:您好,请问公司的研发投入如何?竞争力如何?公司的产品能否应用在光刻胶领域?谢谢。公司回答表示:公司始终重视技术升级及新技术研发,持续稳定地加大在各产品领域的研发投入,为产品升级及新产品的研发提供充分的保障,公司产品竞争力稳步提升,持续与客户共同定义下一...

复旦大学研制出一种功能型光刻胶

记者8日从复旦大学获悉，该校高分子科学系、聚合物分子工程国家重点实验室魏大程研究员带领团队设计出一种功能型光刻胶，利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连，集成度达到特大规模水平。该成果发表于最新一期《自然·纳米技术》上。这款功能型光刻胶可通过添加感应受体实现不同的传感...

瑞红苏州取得一种耐刻蚀的正性光刻胶专利,提高光刻胶膜的抗渗透能力

金融界2024年8月20日消息,天眼查知识产权信息显示,苏州瑞红电子化学品有限公司取得一项名为“一种耐刻蚀的正性光刻胶“,授权公告号CN114326304B,申请日期为2021年12月。专利摘要显示,本申请属于光刻胶技术领域,具体涉及一种耐刻蚀的正性光刻胶,包括如下重