光刻胶配方全自主,在国内是个什么水平?

光刻胶的其实就是由树脂、光敏剂、溶剂以及添加剂组成的。树脂是主体成分,起到结构支撑的作用,用来整合其他成分;但树脂对光是没反应的,真正决定光刻胶有感光能力的其实是光敏剂,溶剂的作用就是调节光敏剂的粘度,使其能更好地涂覆于硅片上。添加剂则是为了改善光刻胶性能,比如提高膜厚均匀性、提高光刻胶的储存稳...

【开源北交所】光刻胶+原材料壁垒突破,“专精特新”企业助力国产...

光刻胶树脂是光刻胶的主要成分之一,是由成膜树脂等构成。成膜树脂用于将光刻胶中不同材料聚合在一起,构成光刻胶的骨架,决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。光刻胶树脂是高分子聚合物,具有高分子的一些物理特性,如成膜特性、Tg(玻璃化温度)。光刻胶的树脂也有一定的化学特点,它必须可以与在光照下...

疆亘观察|半导体国产替代的重要一环:光刻胶

根据技术类型，半导体光刻胶主要分为酚醛树脂-重氮奈醌型光刻胶（g线、i线）和化学放大型光刻胶（KrF、ArF、EUV）。酚醛树脂-重氮奈醌型：在未曝光区，多组分线性酚醛树脂与感光剂PAC混合后，在碱性显影液中的溶解速率急剧降低。在曝光区，PAC曝光后生成羧酸产物，与碱性显影液发生反应，提高光刻胶在显影液中的...

电子行业深度报告:先进封装助力产业升级,材料端多品类受益

抛光液是一种水溶性试剂,主要组成成分有研磨粒子、氧化剂和其他一些化学试剂。磨料可以是二氧化硅、氧化铝或其他硬质材料;氧化剂可以是过氧化氢、高锰酸钾或其他强氧化剂;其他化学试剂可以是表面活性剂、络合剂或其他化学物质。其中磨料起到机械磨削的作用,是决定抛光液性能的关键原料。在抛光过程中,抛光液与硅片...

新知|X光片能提炼银子?扔手机就是扔真金白银?这竟是真的……

据统计，每年全球银总消耗量的40%用于感光材料的生产，感光材料经曝光、显影、定影后，黑白片上的银，有80%左右会进入定影液，彩色片上的银几乎全部进入定影液，所以废定影液中银的含量也是十分惊人的。由此可见，医用胶片中确实含银元素，这是胶片通过感光等方式，记录信息的重要载体。医用胶片价格一般都比较贵，这...

光刻工艺技术专题(十):光刻工艺与建模

随着显影的进行,界面的演化大部分发生在驻波图形的暗节点上,这些位置的PAC/抑制剂浓度很高,显影速率较低(www.e993.com)2024年11月4日。90s之后显影液还没有到达光刻胶底部。应用BARC或者扩散长度较大的光刻胶都可以减弱驻波。显影液渗透的速度快很多,通常不到1s或几秒就能到达光刻胶的底部,如下图的第二行所示。实践中,为实现良好的工艺稳定...

半导体制造之光刻工艺及原理

光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成,是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应,经曝光、显影等光刻工艺,将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上,是用于微细加工技术的关键性电子化学品。影响光刻胶厚度的主要因素:光刻胶本身的粘度和匀胶转速,对于一款已确定的光刻胶,转速是...

格林达:目前行业显影液还是以四甲基氢氧化铵(TMAH)为主要有效成分...

请问贵公司四乙基氢氧化铵的研发、推广进展如何?公司回答表示,尊敬的投资者,您好,公司一直关注着湿电子化学品下游芯片、面板和光伏等行业的技术进步。目前行业显影液还是以四甲基氢氧化铵(TMAH)为主要有效成分的正胶显影液为主流产品,谢谢。

粤万显影液消泡剂的消泡效果真的是绝绝子呀

1.显影液含有多种表面活性剂,很容易产生泡沫;2.在生产和使用显影液时,机器设备的搅拌震荡卷入了大量空气,使泡沫产生;3.受外界自然环境的影响,温度的变化也会导致显影液产生泡沫;4.显影液的主要成分是碳酸钠或碳酸钾,都是弱碱性,PH值通常在11左右,碱性容易产生泡沫。

一文看懂集成电路原材料

光刻主要包括薄膜生长、上胶、曝光和显影等环节。光刻是整个集成电路制造过程中耗时最长、难度最大的工艺,耗时占集成电路制造50%左右,成本约占集成电路生产成本的1/3。光刻工艺图示资料来源:互联网,株洲动力谷产业经济研究院有限公司2.光刻胶的成分与特性...