深圳永霖申请抛光液成分校正专利,适用于抛光液工业实时监控和质量...

专利摘要显示,本申请的实施例提供了抛光液成分校正模型构建方法、抛光液成分校正方法和装置,通过收集光谱数据x,其中包括样本序号和相应的光谱信息,光谱信息包含水性成分、油性成分和固体成分波长信息和波峰强度;收集成分含量y,其中包括样本的序号以及对应的成分含量,成分含量包含水性成分含量、油性成分含量和固体成分含量;...

深圳市特研科技取得一种抛光液混合装置专利,提高抛光液各种材料...

专利摘要显示,本实用新型公开了一种抛光液混合装置,其包括:工作台,所述工作台的顶部固定连接有桶体,所述桶体的顶部固定连接有主电机和添加组件;所述添加组件包括添加桶、前窗、报警器、进料管、进料阀、电动杆、活塞、下料管、下料阀、侧孔压力传感器弹珠和弹簧。通过设置添加桶、前窗、进料管、进料阀、电...

研磨抛光液配方含量剖析抛光液成分分析检测

研磨清洗剂:主要用于研磨过程中对工件表面的清洗,去除表面污垢和残留物;研磨清洗剂通常包含有机溶剂、表面活性剂等成分,主要有:脂肪醇聚氧乙烯醚和亚甲基二萘磺酸钠、络合剂和防锈剂,缓冲剂等成分。研磨光亮剂:主要用于提高物体表面的光泽度,使其更加美观。光亮剂通常包含有机化合物、稀土金属等成分。作用是提高工件...

金手镯有划痕可以修复吗?价格及修复方法全解析!

金手镯的主要成分是黄金,黄金的质地柔软,在纯金上使用指甲就能留下痕迹。罗昭行2024-03-15每个金镯子都有划痕那,不仅仅是一句心灵鸡汤般的自己的话语,更是一种深刻的变形哲理。在生活中,我们常常会发现金镯子上有各种各样的玻璃划痕。有书2024-03-15金手镯划痕怎样修复真的金手镯表面划痕,一般可以采用抛光...

【技术沙龙】超洁净磁悬浮无轴承泵在微电子领域的应用

抛光液通常由去离子水、氧化剂、腐蚀抑制剂、pH调节剂、分散剂和纳米级磨料颗粒等成分组成。每种成分在抛光过程中均发挥着重要作用。然而,抛光液中的磨料颗粒及其他化学成分在输送过程中容易发生沉降、团聚等现象,导致抛光液成分分布不均,进而影响抛光效果。此外,研磨液输送过程中要求流量均匀一致,因此如何高效、稳定地...

电子行业深度报告:先进封装助力产业升级,材料端多品类受益

在CMP材料中,抛光垫与抛光液市场份额占比总和超过80%,价值最高(www.e993.com)2024年11月8日。根据SEMI统计,在晶圆制造材料中,CMP抛光材料份额占比7.1%。而CMP抛光材料又包括抛光液、抛光垫、调节剂、清洗剂以及其他添加剂,其中抛光液和抛光垫分别占据CMP材料49%和33%的市场份额。其次为调节剂和清洗液,主要用于去除残留...

干货!CMP抛光垫的作用和种类

聚合物抛光垫的主要成分是发泡体固化聚氨酯,聚氨酯抛光垫具有抗撕裂强度高、耐磨性强、耐酸碱腐蚀性优异的特点,是最常用的抛光垫材料之一。图聚氨酯抛光垫微观结构在抛光过程中,聚氨酯抛光垫表面微孔可以软化和使抛光垫表面粗糙化,并且能够将磨料颗粒保持在抛光液中,可以实现高效的平坦化加工。聚氨酯抛光垫表面的沟槽...

芯片投资黄金坑?解密七大半导体材料和17家中国龙头企业

目前在部分细分领域,已经突破国外垄断,实现规模化供货。如CMP抛光材料的龙头企业安集科技,公司化学机械抛光液已在130-28nm技术节点实现规模化销售,主要应用于国内8英寸和12英寸主流晶圆产线;溅射靶材龙头江丰电子,7纳米技术节点实现批量供货,同时还满足了国内厂商28纳米技术节点的量产需求。

半导体系列之抛光材料CMP

通常根据被加工材料以及所选用的抛光垫材质对抛光液成分进行配置。常用的抛光液一般分为二氧化硅抛光液、钨抛光液、铝抛光液和铜抛光液。其中铜抛光液主要应用于130nm及以下技术节点逻辑芯片的制造工艺，而钨抛光液则大量应用于存储芯片制造工艺，在逻辑芯片中用量较少。以铜抛光液为例，其主要由腐蚀剂、成膜剂和...

内蒙古自治区人民政府办公厅关于印发《内蒙古自治区“十三五...

开展主要农作物优质高产品种配套栽培技术,农作物光、热、水、养分等资源优化配置与绿色高产高效种植模式,“间套作”与“轮作休耕”等养地型生态种植模式与技术、粮饲兼顾型种植模式与耕作技术,农作物生长监测与精确栽培技术,主产区土壤培肥与耕作技术,农作物灾变过程及其减损增效调控技术等研究,创新现代农作物耕作栽培...