北京航空航天大学集成电路科学与工程学院反应离子束刻蚀机和金属...
反应离子束刻蚀机(RIBE)应用于副产物非挥发材料,光电材料的打开、材料表面处理和改性等应用。金属刻蚀机提供用于金属层和金属氧化物的刻蚀设备,主要用于副产物可挥发的金属材料:如AlTiN等材料的刻蚀。详见招标文件第三章采购需求。合同履行期限:自合同签订生效之日起6个月内完成交货,采购人指定时间完成安装、调...
...华创中标湖大粤港澳大湾区创新研究院1套感应耦合干法刻蚀机...
母公司台湾宇谦于2006年在中国台湾新竹科技园创建,专业从事半导体干法蚀刻设备的制造;2007年成立上海分公司,从事半导体蚀刻设备的销售及售后服务;2021年在浙江嘉兴成立“浙江宇谦”公司,主要从事干法刻蚀机的生产制造和行业配套的零部件设计制造业务。3、摩芯半导体完成数千万元Pre-A轮融资,专注汽车半导体芯片设计近日,...
...制造有限公司取得穹顶温控系统等专利,优化改善金属刻蚀机台中...
无孔导向部位于进风装置的出风口下方,用于配合箱体将气流引导至加热装置的目标加热区域。边缘固定部位于无孔导向部的边缘,用于固定空气扩散器至箱体。本公开用于优化改善金属刻蚀机台中穹顶的冷却方式。本文源自:金融界作者:情报员
2024年中国刻蚀机市场现状及重点企业预测分析
中商情报网讯:????刻蚀机是一种用于??电子与通信技术领域的工艺试验仪器,主要用于制造??微细结构,通过将化学反应物和物理能量相结合,去除材料表面的一部分,从而创建所需的微细结构。??市场规模刻蚀机主要用来制造半导体器件、光伏电池及其他微机械等。近年来,全球刻蚀机市场规模呈增长趋势。中商产业研究院...
珂玛科技获29家机构调研:公司先进陶瓷材料零部件主要用于半导体...
答:公司先进陶瓷材料零部件主要用于半导体制造前道工序,截至目前已覆盖刻蚀、薄膜沉积、离子注入、光刻和氧化扩散设备领域。陶瓷材料零部件既是设备的一部分,也是耗材。目前公司来自于光刻设备领域的营业收入较少,利润占比相对较低。问:公司先进陶瓷结构件的主要竞争对手有哪些?
珂玛科技:中微半导体供应陶瓷产品用于DUV光刻机
董秘回答(珂玛科技SZ301611):尊敬的投资者您好!中微半导体(上海)有限公司是直接参与公司IPO战略配售的投资者之一(www.e993.com)2024年10月2日。公司目前主要向其供应圆环圆筒类、气流导向类、承重固定类及手爪垫片类陶瓷产品,主要用于刻蚀机及PVD、CVD和ALD设备等。感谢您的关注!
从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘
刻蚀是指使用化学或物理方法有选择地在硅片表面去除不需要的材料的过程,根据工艺的不同,刻蚀机可以分为干法刻蚀和湿法刻蚀,目前,干法刻蚀已占据大部分市场。干法刻蚀中根据离子能量不同,可以主要分为ICP刻蚀设备(硅刻蚀、金属刻蚀)、CCP刻蚀设备(电介质刻蚀),二者市场份额几乎相当。
半导体刻蚀设备行业研究:半导体制造核心设备,国产化之典范
刻蚀是半导体图案化过程的核心工艺,刻蚀机被视为半导体制造三大核心设备之一。刻蚀设备主要用于去除特定区域的材料来形成微小的结构图案,与光刻、薄膜沉积并称为半导体制造三大核心设备,重要性凸显,地位举足轻重。刻蚀设备:三大核心设备之一,市场规模可观刻蚀机作为半导体制造三大设备之一,价值量高,市场规模可观。根据Gar...
英杰电气:公司半导体设备端的电源替代目前主要是在刻蚀机和PECVD...
半导体光刻设备全国产自主是大势所趋,建议公司认真考虑这方面的发展机会,利用所长助力相关产业独立自主。公司回答表示,您好,公司半导体设备端的电源替代目前主要是在刻蚀机和PECVD设备上,还有其他一些设备以及制程的运用,谢谢您的关注。
...中心、五轴刻蚀机、五轴点胶机、五轴激光切割等各种类型五轴机床
在高端数控系统方面,公司与山东豪迈、东莞埃弗米、艾姆克斯、华工激光等机床企业合作,共同开发五轴加工中心、五轴刻蚀机、五轴点胶机、五轴激光切割等各种类型五轴机床,为汽车及零部件、激光加工等领域重点企业进行批量配套,未来公司将继续发挥在高端领域的战略引领作用。在定增方面,公司正在按计划推进再融资项目,目前...