小米的3nm和燕东微用的光刻机

在国产光刻机迟迟不见动静的情况下，是不是国产芯片技术又要被拉大距离了？星空君认为并非如此。现在的制程并非真实的物理间距，在14nm以后，这些数字就几乎不存在任何物理上的意义了，仅仅相当于一个代号。成了各厂家的文字游戏，Intel的10nm在台积电那里叫7nm，在三星那里叫5nm。不否认台积电2nm技术的先进性，但...

国产光刻机工厂落户,50亿砸向浙江,ASML不愿意看到的情况出现!

近期，科技界传出了震撼全球的消息：中国计划投资50亿元在浙江建立一座光刻机制造厂，这让全球最大的光刻机制造商ASML感到非常不安。那么，光刻机究竟是什么“神奇设备”，为何吸引如此多的关注？中国为何在此时要建设光刻机工厂？西方国家又为何对中国科技的崛起心存忌惮，并将如何应对？光刻机的“神奇”之处提到...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

EUV光刻机造出一台EUV光刻机,有多难?一个朋友给我的回答是:如果说“用DUV光刻机造出7nm芯片”的难度系数是“过万重山”,那么“造出一台EUV光刻机”的难度系数,就是“过万重珠穆朗玛峰”。光刻机为什么?EUV光刻机和DUV光刻机,一个字母之差,能有多大区别?不都是发个光,投个影,再刻点沟沟壑...

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

国产光刻机官宣已经有一段时间了,国内外网友都沸腾了,但我们却注意到一个情况是,美国荷兰却沉默了。今年9月9日,工信部公布了我国重大技术装备推广目录,氟化氩光刻机赫然在目,这一成果表明了我国光刻机整机生产实现了从0到1的重大突破,且已经大面积商用推广,意义非常重大!国外网友沸腾了。在油管上,瑞士网友表...

国产首台DUV光刻机?工信部突然宣布,外媒:ASML彻底“破防”了

但随着国产DUV光刻机的横空出世,我们在高端光刻机领域的空白正在被慢慢填补,只要我们将精度突破到真正的8nm制程,那么以后将彻底摆脱对ASML的依赖,国产芯片也将实现自给自足!对此就连外媒都纷纷表示:ASML这次要彻底“破防”了!还记得曾经我们去ASML公司参观的时候,当时ASML高管还嘲讽我们,表示就算是把图纸给我们,也...

白山头:国产光刻机进展太慢?重点不是这个

展望未来,当整个行业都在快速迭代、奋起直追时,如果按照历史规律判断需要多少年能赶上欧美,显然是不切实际的(www.e993.com)2024年11月2日。个人判断,不出五年,先进的国产DUV光刻机将会大规模应用;而不出十年,包括最先进的EUV光刻机都有可能实现大规模量产。当国产半导体供应链完整形成后,可能会出现国产供应链与欧美供应链的竞争格局。由于国产...

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

此次国产套刻指标≤8nm的氟化氩光刻机,实际制程约为55nm,技术水平仅相当于ASML于2015年二季度出货的TWINSCANXT1460K,甚至部分关键指标不如ASML2006年推出的干式DUV光刻机XT1450,所以总体差距在15—20年。对标有失偏颇,曝出尼康NSR-S636E狠角色

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

第二个问题:为什么我会说这台光刻机可能不是大家想象当中的那台设备?从工信部公布文件的参数来看,这台光刻机的最小分辨率是65nm,最小套刻精度是8nm。在国产光刻机工件台唯一供应商华卓精科的招股书中有这么一段话,公司研发的DWS系列纳米精度运动及测控系统主要适用于「干式步进式扫描光刻机」,可用于65nm及以上...

国产光刻机新突破,50亿建厂,挑战阿斯麦!

咱们在浙江省投资了50亿打造的超级光刻机工厂，现在已经正式落户了。这个工厂专门用来研究和制造更高精度的国产光刻机，这下子，阿斯麦（ASML）这家巨头都得担心自己的饭碗了，全球的芯片行业也要迎来一场大变局。所以，各位，这个消息真的超级重要，先点个赞，再仔细看看！这个位于浙江省绍兴市的光刻机项目占地35...

美论坛惊讶,中国怎敢擅自研发光刻机?国产光刻机官宣,打谁的脸

01中国工信部宣布氟化氩193nm波长、8nm的套刻精度光刻机已进入推广目录,标志着国产光刻机取得重大突破。02尽管与国外先进光刻机存在较大代差,但28nm光刻机的突破意味着中国在众多工业化领域已实现自主。03由于国内对光刻机的需求极度迫切,产业前进速度往往比预想中快,光刻机突破打破芯片制造瓶颈指日可待。