极紫外光刻技术获突破:可大幅提高能源效率,降低半导体制造成本
8月2日,冲绳科学技术大学院大学(OIST)的教授新竹俊(TsumoruShintake)提出了一种极紫外(EUV)光刻技术。基于这种设计的EUV光刻技术可以使用更小的EUV光源工作,从而降低成本,显著提高机器的可靠性和使用寿命。而在消耗电量上不到传统EUV光刻机的十分之一,有助于半导体行业变得更加环境可持续。据了解,...
日本冲绳科学技术大学院大学:EUV光刻新突破
8月2日,日本冲绳科学技术大学院大学官网有新报告据其报告,该校设计了一种极紫外光刻技术,突破了半导体制造业的标准界限。此设计下的光刻设备能采用更小的EUV光源,功耗不到传统EUV光刻机的十分之一,可降低成本,并极大提高机器的可靠性与使用寿命。
极紫外光刻新技术问世,大幅降本增效
极紫外光刻新技术问世,大幅降本增效日本冲绳科学技术大学院大学设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。极紫外线光刻机(ExtremeUltra-violet),又通常被称为EUV光刻机,它以波长为10~14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,该设备当前可被应用于14纳米及以下的先进制程芯片的制造。极紫外...
深研潜行,发现之路更坚实——2023年世界科技发展回顾·基础研究篇
冲绳科学技术大学院大学(OIST)、德国凯泽斯劳滕大学和斯图加特大学的科学家团队合作,利用量子力学原理设计并制造出一种不依赖于传统燃料燃烧方式的引擎,而是依据粒子在极小尺度上遵守的特殊规则。东京大学科学家利用六方氮化硼二维层中的硼空位,首次完成了在纳米级排列量子传感器的精细任务,从而能够检测磁场中的极小变化,...
日本冲绳科学技术大学院大学:EUV光刻技术突破,功耗降低至传统十分...
8月2日,冲绳科学技术大学院大学官网发布最新报告,该校设计出一种极紫外光刻技术,该技术突破了半导体制造业的传统界限。新型光刻设备采用更小的EUV光源,功耗仅为传统EUV光刻机的十分之一,显著降低了成本。此外,新技术还大幅提高了机器的可靠性和使用寿命,为半导体行业带来重大变革。
日媒称日本已开发出EUV光刻设新技术 耗电量降至1/10
CNMO科技消息近日,CNMO注意到,有日媒报道称,日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术,旨在显著减少制造尖端半导体所必需的极紫外线(EUV)光刻设备的能耗与制造成本(www.e993.com)2024年10月23日。该创新成果由该校新竹积教授领衔研发,其核心在于将EUV光刻路径中的反光镜数量从传统的10个精简至4个,从而有效降低了EUV光源的能量损耗。
日本宣布开发出新技术,可大幅降低极紫外光刻设备耗电量和制造成本
8月13日消息,日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术,可大幅降低极紫外光刻设备的耗电量和制造成本。这项技术将从设备的光源到光刻的EUV路径上配置的反光镜数量从原来的10个减少到4个。以EUV光源为中心,整体耗电量可减至原来的约十分之一。设备的结构也可大幅简化,因此当前估计需要200亿日元左右的设备引入成本几...
招聘专栏:上海交通大学-溥渊未来技术学院戚亚冰课题组博士后招聘
2008年至2011年,他在美国普林斯顿大学从事博士后研究,研究课题为表界面科学在有机半导体中的应用。从2011年至2024年,他在日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)任教,并提前晋升为终身教职正教授,担任能源材料与表面科学研究团队学术带头人及实验室主任。在过去的二十余年中,戚亚冰教授对表界面科学和能源材料前沿交叉方向做出...
前瞻全球产业早报:Neuralink已为第二位人类患者成功植入脑机芯片
2、据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源,其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。
小K播早报|我国首个基本医保参保长效机制公布 苹果第三财季营收...
据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源,其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。