日本冲绳科学技术大学院大学:EUV光刻新突破
8月2日,日本冲绳科学技术大学院大学官网有新报告据其报告,该校设计了一种极紫外光刻技术,突破了半导体制造业的标准界限。此设计下的光刻设备能采用更小的EUV光源,功耗不到传统EUV光刻机的十分之一,可降低成本,并极大提高机器的可靠性与使用寿命。
极紫外光刻新技术问世,大幅降本增效
日本冲绳科学技术大学院大学设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。极紫外线光刻机(ExtremeUltra-violet),又通常被称为EUV光刻机,它以波长为10~14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,该设备当前可被应用于14纳米及以下的先进制程芯片的制造。极紫外线光刻机是芯片生产工具,是生产大规...
日本冲绳科学技术大学院大学:EUV光刻技术突破,功耗降低至传统十分...
8月2日,冲绳科学技术大学院大学官网发布最新报告,该校设计出一种极紫外光刻技术,该技术突破了半导体制造业的传统界限。新型光刻设备采用更小的EUV光源,功耗仅为传统EUV光刻机的十分之一,显著降低了成本。此外,新技术还大幅提高了机器的可靠性和使用寿命,为半导体行业带来重大变革。
日媒称日本已开发出EUV光刻设新技术 耗电量降至1/10
日媒称日本已开发出EUV光刻设新技术耗电量降至1/10CNMO科技消息近日,CNMO注意到,有日媒报道称,日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术,旨在显著减少制造尖端半导体所必需的极紫外线(EUV)光刻设备的能耗与制造成本。该创新成果由该校新竹积教授领衔研发,其核心在于将EUV光刻路径中的反光镜数量从传统的10个...
日本宣布开发出新技术,可大幅降低极紫外光刻设备耗电量和制造成本
8月13日消息,日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术,可大幅降低极紫外光刻设备的耗电量和制造成本。这项技术将从设备的光源到光刻的EUV路径上配置的反光镜数量从原来的10个减少到4个。以EUV光源为中心,整体耗电量可减至原来的约十分之一。设备的结构也可大幅简化,因此当前估计需要200亿日元左右的设备引入成本几...
日本TA扩大:参与大学由10所增至34所
这也覆盖了JUSTICE(日本高校图书馆电子资源联盟)旗下日本大学的研究人员每年在施普林格·自然发表的全部OA文章的约30%(www.e993.com)2024年10月23日。目前,参与机构包括东京大学、京都大学、大阪大学、东北大学、名古屋大学等国立大学,早稻田大学、东京医科大学、立命馆大学等私立大学,以及研究生院:冲绳科学技术大学院大学。
极紫外光刻新技术问世 能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本
每经AI快讯,据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源,其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。(科技日报)...
教育部认可的日本大学的名单-公立篇
茨城県立医療大学茨城县立医疗大学群馬県立県民健康科学大学群马县立县民健康科学大学群馬県立女子大学群马县立女子大学高崎経済大学高崎经济大学前橋工科大学前桥工科大学埼玉県立大学埼玉县立大学産業技術大学院大学产业技术大学院大学首都大学東京...
前瞻全球产业早报:Neuralink已为第二位人类患者成功植入脑机芯片
2、据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源,其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。
深研潜行,发现之路更坚实|量子|比特|日本_新浪科技_新浪网
日本科学家使用量子计算机,将单磷酸腺苷核苷酸与其他3种核苷酸分子区分开来,这是量子计算机首次应用于单分子测量,证明了其在基因组分析中大有潜力,有望使超快速基因组分析在药物发现、癌症诊断和传染病研究等领域大显身手。冲绳科学技术大学院大学(OIST)、德国凯泽斯劳滕大学和斯图加特大学的科学家团队合作,利用量子力学原理...