紫外可见分光光度计的使用步骤及注意事项|蓝景科技

紫外可见分光光度计是一种常用的分析仪器,用于测量物质在紫外光区(约190-400nm)和可见光区(约400-700nm)的吸光度。通过测量吸光度,可以确定溶液中特定物质的浓度,广泛应用于化学、生物学、医学、环境科学、材料科学等领域。使用步骤开机预热:打开仪器电源,预热一段时间(通常为15-30分钟)。校准仪器:使用空...

西安建筑科技大学nAFM:发射波长在379-400 nm范围内可调的紫色...

西安建筑科技大学nAFM:发射波长在379-400nm范围内可调的紫色钙钛矿量子点,钛矿,紫色,nm,紫外光,发光二极管,西安建筑科技大学

【技术前沿】半导体激光照明技术:科技之光,照亮深海的探索之路

波长范围广半导体激光器的发射波长广泛,从红外线延伸至可见光谱,并可通过技术手段进一步扩展至紫外线区域。丰富的波长选择,使得半导体激光器能够适应不同应用场景对特定激光波长的需求。例如,红外波段的半导体激光器适合用于夜视和安全监控等,而可见光波段的半导体激光器则适用于激光显示和照明等领域。▲对比LED光源,激光...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

DUV,是一种光的名字:DeepUltra-Violet(深紫外光)。波长可以短到193nm。很多人认为,用这把“光刀”的光刻设备,基本只能刻出20nm以上制程的芯片。EUV,也是一种光的名字:ExtremeUltra-violet(极紫外光)。看名字就知道,这种光卷得更狠,波长可以短到只有13.5nm。谁拥有了这把刀,谁就有机会再往前一步,刻...

光刻机产业链深度报告:国产路漫其修远,中国芯上下求索

第三代光刻机采用248nm的KrF准分子激光作为光源,将最小工艺节点提升至180-130nm。第四代光刻机的光源采用193nm准分子激光,将制程提升至130-65nm的水平(通过浸没式技术、双图形技术、多图形等先进技术,193nmArF准分子激光可应用于光刻10nm节点量产)。第五代光刻机技术,采用波长为13.5nm的极紫外光作为曝光光源。

国产光刻机突破28nm了吗

比如现在的EUV极紫外光刻机,光源波长只有13.5nm,同时ASML也在不断地推出更高数值孔径的EUV光刻机,以用于7nm甚至更高工艺制程芯片的制造(www.e993.com)2024年11月9日。但要注意,3nm芯片自下而上大概上百层,对分辨率的要求也自高到低,EUV光刻机只是负责最下面的20多层,其余则由DUV光刻机来配合。

光刻机国产化持续突破 多家公司股票竞相涨停

据悉,EUV是一种使用波长为13.5纳米的极紫外光作为光源的下一代光刻技术,技术难点在于光学系统、光源等关键子系统,其广泛应用于半导体制造中。记者了解到,光刻机技术的持续突破,对半导体行业产生了积极的推动作用。中国企业资本联盟中国区首席经济学家柏文喜对《证券日报》记者表示:“光刻机技术的突破,不仅表明了国家...

【开源北交所】光刻胶+原材料壁垒突破,“专精特新”企业助力国产...

光刻胶曝光波长越短,则加工分辨率越高,能够形成更小尺寸和更精细的图案,目前最先进的光刻胶曝光波长已经达到了极紫外光波长范围为EUV光刻胶。半导体光刻胶技术壁垒主要集中于1)原材料端:光刻胶的原材料包括树脂、光酸、添加剂和溶剂,我国原材料自给率总体较低,特别树脂原材料,成本占比接近50%,且高端树脂国产化...

经过几十年对广泛波长范围的观测,M31 解锁了我们对浩瀚宇宙理解

由于先进的技术和太空望远镜，我们对仙女座大星系的结构、组成和演化的理解正在迅速提高，这使得获得包括远紫外（UV）和红外（IR）在内的广泛波长的数据成为可能——这两者都无法通过地面望远镜获得。例如，美国宇航局的星系演化探测器（GALEX）太空望远镜在远紫外光和近紫外光下捕捉图像，揭示了在旋臂中形成的...

人类看不见紫外线,但其他动物却可以,这反而证明人类是天选之子

紫外线(UV)光位于可见光和X射线之间的电磁波谱范围内,波长约为380纳米(1.5×105英寸)至10纳米(4×107英寸)。紫外线通常分为三个子波段:UVA,即近紫外线(315–400nm)UVB,即中紫外线(280–315nm)UVC,即远紫外线(180–280nm)在10纳米至180纳米之间的辐射有时被称为真空紫外线或极紫外线。