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磁控溅射靶材温度范围
迈为股份取得一种靶材模组及用于磁控溅射的阴极装置专利,降低了溅射过程中形成的深刻区域的几率
2023-11-23 10:15 - 金融界网站
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东威科技取得驱动装置、配合结构及磁控溅射双面镀膜系统专利,便于阴极靶材的更换操作
2023-12-7 11:05 - 金融界网站
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