终于破冰!氟化氩光刻机有多牛?8纳米工艺可以量产了?

在荷兰宣布扩大光刻机出口管制范围后不久，中国工信部发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中，氟化氩光刻机的出现，无疑是中国芯片产业自主创新的又一里程碑。这款光刻机以其先进的深紫外光源技术，实现了对8纳米及以下芯片的制造能力，标志着中国在高端光刻机领域取得了重大突破。氟化氩光刻机...

中国研发光刻机,比ASML早20年,为什么还被美国卡脖子?

据《半导体产业协会》（SEMI）的报告显示，ASML的EUV光刻机已经在7纳米及以下节点的芯片制造中广泛应用，而中国在这方面显然还有很长的路要走。不过，中国自研光刻机何时能赶超国际水平，这并不是今天文章探讨的焦点。中国的光刻机研发始于上世纪60年代，比ASML成立的时间早近20年，这意味着，在光刻机的研发与发...

“光刻机”第一真龙,沉睡三年,有望从17元涨到69元

光刻机,亦称光刻对准曝光机或掩模对准曝光机,是半导体制造领域的关键设备。它不仅在光刻工艺中占据核心地位,还在整个芯片制造过程中起到至关重要的作用。作为微电子和半导体工艺中的核心组件,光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”,其重要性不言而喻。光刻机是一种利用光刻技术进行微纳米加工的精密设备。其工作...

荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗

如今,我国凭借氟化氩光刻机的成功研发,打破了这种依赖,迎来了全新的局面。我国不仅解决了光刻机关键零部件的生产难题,还通过自主创新克服了核心技术壁垒。例如,光刻机的高精度镜头系统、激光光源等关键部件曾被美荷两国控制,而我国在这些技术领域逐步攻克难关。这不仅意味着我国在半导体设备领域的独立性大大增强,...

佳能纳米压印光刻机迎来重大突破!

在TIE上,佳能的FPA-1200NZ2C纳米压印光刻系统将用于该联盟中的芯片制造商的研发——这是一件大事,因为目前英特尔、恩智浦和三星使用DUV和EUV(恩智浦除外)光刻技术来制造芯片。通过研究纳米压印光刻技术的能力,这些公司可能会也可能不会在其晶圆厂采用NIL技术。据日经新闻报道,佳能似乎对这些试验寄予了...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

尽管中国的65纳米光刻机尚未达到ASML最先进的7纳米机型的水准,但这一突破标志着中国已经具备了制造芯片关键设备的能力(www.e993.com)2024年11月23日。未来,随着国产光刻机技术的迭代更新,西方国家的技术垄断地位将受到更大的挑战。中国光刻机的未来:从艰难起步到技术腾飞尽管中国的光刻机技术起步较晚,但其发展速度令人惊叹。

美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

氟化氩光刻机里比较先进的那种，照明波长是193nm，分辨率最多是65nm，套刻最多是8nm。看这台光刻机的技术参数就能知道，我国的光刻机技术有重大突破了，它8纳米的套刻精度在全球都算比较高的。这款新的国产光刻机一问世，好多外国媒体都惊叹中国先进技术的发展速度真快。还有啊，光刻机的研制牵扯到好多不同的...

佳能首次出货纳米压印光刻机

佳能(Canon)9月26日宣布,将首次供应半导体的下一代制造设备——“纳米压印”光刻机(NIL),这批设备将交付给美国“得克萨斯州电子研究所”。据了解,该设备在半导体制程中用于在晶圆上绘制电路图。目前,标准方法是使用强光来绘制电路。佳能的设备采用的方法是一种像盖章一样的,将纳米级别的图案刻在掩膜上,然后将...

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

在光刻机的发展历史中,光刻技术经历了接触/接近式光刻机、扫描投影光刻机、步进重复式光刻机到现在的步进扫描光刻机的发展历程,现阶段主流技术为步进扫描光刻机,其余技术基本已经被淘汰了。主流的光刻机均采用浸没系统、可编程光照、畸变修正、热效应修正、对准与表面测量等高难度技术。光刻机可通过多重曝光来...

国产光刻机重大突破!28纳米芯片全流程国产化,龙头厂商梳理

随着政策的支持与企业的持续投入,国产光刻机的发展未来可期。但同时也应看到,技术提升是一个漫长而艰辛的过程,需要整个行业的共同努力与支持。相信在不久的将来,国产光刻机将成为中国半导体产业的中坚力量,为国家科技实力的提升提供强大动力。光刻机,这一微米级的神奇设备,不仅是技术的象征,更是国家科技命运的...