【芯历史】起了个大早的国产光刻机研发,是如何与行业脱节的?

20世纪50年代,美国研制出接触式光刻机,70年代,美国Perkin-Elmer公司研制成功1:1投影式光刻机,随后美国GCA公司推出“分步重复精缩投影光刻机”,将投影光刻的比例发展到1:5或1:10。分步式光刻机的概念提出之后,光学光刻机的技术路线就基本上稳定下来了,后续的光刻机基本上都属于这种类型。差异只在于光源的变化。

晶瑞电材:光刻胶在光刻机研发和品控中的应用

光刻胶(又称光阻剂)是光刻机工作过程中所使用的材料,公司共有5台光刻机,用于光刻胶的研发以及品控。

【电子】产业政策持续加码,国产光刻机任重道远——半导体行业跟踪...

目前市场上的光刻机主要分为g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代迭代更新,五代光刻机的主要差异是光刻机的工艺节点,即限制成品所能获得的最小尺寸。在光刻机的更新迭代中,对光源、光学透镜、反射镜系统提出了越来越高的要求。根据观知海内信咨询,2020年全球光刻机市场规模为170.9亿美元,预计2024年将达315亿美...

海立股份:投资者关注光刻机资产注入或借壳事宜

请向控股股东上海电气集团、上海国资致函,询问是否有微电子光刻机资产注入或借壳?谢谢董秘回答(海立股份SH600619):您好!公司严格按照相关法律法规履行信息披露义务,不存在应披露而未披露的事项。您也可查阅公司近期披露的股票交易异常波动公告及股票交易风险提示公告等。感谢您的关注。

【上证电子】大厂接连推出智能眼镜,光刻机龙头ASML积极展望芯片未来

光刻机龙头ASML积极展望芯片未来。11月14日,在2024年投资者日会议上,ASML更新了其长期战略以及全球市场和技术趋势分析,确认其到2030年的年收入将达到约440亿至600亿欧元,毛利率约为56%至60%。公司预期,人工智能可能成为推动社会生产力和创新的下一个重大驱动力,未来全球半导体销售额有望在2030年超过1万亿美元,这...

光刻机为何突然陷入滞销困境?

光刻机为何突然陷入滞销困境?2024-11-1821:31:13说故事的阿袭广西举报0分享至0:00/0:00速度洗脑循环Error:Hlsisnotsupported.视频加载失败说故事的阿袭7050粉丝伊说历史,妙悟国学(www.e993.com)2024年11月27日。传播中国传统文化,分享国学知识!00:52PCB走线为什么不能太长?03:15天舟七号坠入大气层...

海立股份:光刻机冷却系统项目实施情况及未来发展规划

请问公司与上海微电子装备集团合作的光刻机冷却系统项目是否已经实施?未来公司是否有意进入芯片制造冷却环节领域?董秘回答(海立股份SH600619):您好!公司严格按照相关法律法规履行信息披露义务,不存在应披露而未披露的事项。您也可查阅公司近期披露的股票交易异常波动公告及股票交易风险提示公告等。感谢您的关注。

深圳国微福芯申请可降低对光刻机性能要求版图掩膜处理方法、光刻...

金融界2024年11月11日消息,国家知识产权局信息显示,深圳国微福芯技术有限公司申请一项名为“可降低对光刻机性能要求的版图掩膜处理方法、光刻方法”的专利,公开号CN118915379A,申请日期为2024年7月。专利摘要显示,本发明公开了一种可降低对光刻机性能要求的版图掩膜处理方法、光刻方法。其中可降低对光刻机...

国产量子芯片量产突破 光刻机成历史障碍

最近，央视确认了一个令人振奋的消息：国产量子芯片的量产能力提升了1000倍，光刻机这一长期以来被视为技术壁垒的关键设备，似乎不再是我们发展的障碍。这一系列变化不仅是技术上的突破，更是中国在全球科技竞争中自信崛起的标志。在过去的几年里，中国的半导体产业经历了巨大的挑战与变革。美国及其盟友对中国实施了...

EUV光刻机争夺战,风云突变

从早期的深紫外(DUV)光刻机起步,其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础;到后来的极紫外(EUV)光刻机以其独特的极紫外光源和更短的波长,成功将光刻精度推向了新的高度;再到如今的高数值孔径(High-NA)光刻机正式登上历史舞台,进一步提升了光刻的精度和效率,为制造更小、更精密的芯片提供了可能。