干货满满!荷兰刚宣布扩大管制,我国就公布2条重磅光刻机消息

如今市面上的光刻机已经发展出五代了。头两代呢，是接入式的光刻机，之后才出现了第二代的扫描投影式设备以及第三代的浸入步进式设备。不过呢，现在市面上流通得最广的已经是那种最新的极紫外线光刻机了。这种光刻机啊，光学分辨率提高了不说，速度和质量也特别精准，达到了很高的水平呢。光刻机水平怎么衡量...

源达:国内光刻机发展道阻且长,国产突破行则将至

我们认为光刻机的核心器件包括激光器、光学镜头和工作台等：1)激光器是光刻机的光源，决定了光刻机的套刻精度和工艺节点;2)光学镜头：保证光刻机光源可以精准成像在晶圆表面，伴随光刻机技术衍进，投影物镜结构愈加复杂、尺寸增加;3)工作台：2004年ASML将双工作台推广至TX系列光刻机，光刻机产能显著提升。光刻...

项目副总师:超分辨光刻机将助力“中国芯”跨越发展

光刻机是制造芯片的核心装备,我国在这一领域长期落后。该光刻装备将为中国未来新型国产纳米器件提供技术支持。项目副总设计师胡松30日对《环球时报》记者介绍说,光刻装备利用全新的紫外超分辨光学光刻技术,为超材料/超表面、光学器件、广义芯片等变革性战略领域的跨越式发展提供了制造工具。光刻机是制造芯片的核心装...

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

东海证券研报显示,中国2023年进口光刻机数量高达225台,进口金额高达87.54亿美元,进口金额创下历史新高,预计3年至5年内我国光刻机主要依赖进口。一台先进的光刻机有多达10万个零部件,整体来看我国半导体零组件的国产化率非常低,尽管在各个赛道均有相关的国有企业在不断发展,距离海外企业依然有较大的差距,同时也预示...

国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

◎中国2023年进口光刻机数量高达225台,进口金额高达87.54亿美元,进口金额创下历史新高,预计3年至5年内我国光刻机主要依赖进口。◎目前光刻机国产化率仅为2.5%,整机技术与海外差距较大,短期5—10年内一方面重点发展90nm、28nm光刻机的研发量产较为关键,一方面重点布局国内半导体零组件发展。

行业专题 | 中国光刻机崛起!

NikonS322FArF光刻机:波长193nm(134nm),分辨率≤65nm,套刻精度2.0/5.0nm,产量≥230wphASMLNXT1980Di光刻机:OPO≤3.5nm,DCO≤1.6nm.MMO≤2.5nmA证券:光刻机是集成电路制造的核心环节,其发展受到光源波长、数值孔径、工艺系数和机台四轮驱动的影响(www.e993.com)2024年11月2日。目前,ASML、尼康和佳能占据全球光刻机市场的主导...

芯片历史④史上最复杂机器:光刻机,“大力出奇迹”为何不管用

12:37人工智能⑧人类和AI如何分工?AI负责“预测”,人类负责“决策”10:02人工智能⑦OpenAI用“信仰”成就了ChatGPT,以及“幸存者偏差”11:24人工智能⑥人机时代,“卷知识”将变得毫无价值,我们何以为人?10:46人工智能⑤目前AI的“死穴”,现在的“大语言模型”还不能做什么...

EUV光刻机突破中的科技与产业创新是如何融合的?

EUV光刻机创新历程,是从松散式的科学原理探索研究,逐步形成面向未来产业愿景和产学研用多方协同攻关创新态势,不断打通产业链、创新链上的“断点”“堵点”,成功实现集科学新发现、技术新轨道和产业新方向于一体的“大纵深”整体突破。EUV光刻技术路线验证与商业成功的历史进程,是面向产业发展需求重大科技问题的共同凝练...

巨丰百科|光刻机概念股解析:光刻机龙头上市公司有哪些?

光刻机在半导体制造中发挥着至关重要的作用,具有显著的特征。光刻机能够以极高的精度将微小的电路图案复制到硅片上,这一过程是集成电路制造的核心技术。它集合了电子科学、计算机科学、通信技术和机械制造等多学科交叉知识,使用的曝光光源波长不断缩短,从高压汞灯的G线和I线发展到极紫外光源(EUV),使得集成电路的特征...

光刻机巨头爆雷,国产替代还远吗?

目前,国内光刻机从艰难起步到奋力追赶,扎实前进。我国光刻机的发展历史可以追溯到上个世纪七十年代。前二十年,科研人员将光刻机技术与国外的20年差距缩短到7年;中间十五年,差距重新拉回20年;而近十五年又在大力追赶。目前,中国光刻机技术与国外相比,仍有较大差距。但在部分领域也已取得了一定的进展与突破。