上海国产光刻机成功突围,实现在国内生产线上的应用情况

我们知道光刻机是生产芯片过程中必不可少的关键设备，在光刻机生产过程中它会释放出极紫外光照射到涂有光刻胶的硅衬底上，光刻胶会将这种紫外光在不同波长范围内的能量吸收，然后发生化学反应，把被照射的区域分为感光胶被剥离的开发态和感光胶得到保存不被剥离的保护态。因为光刻胶的耐高温性比较差，不能承受...

源达:国内光刻机发展道阻且长,国产突破行则将至

我们认为光刻机的核心器件包括激光器、光学镜头和工作台等:1)激光器是光刻机的光源,决定了光刻机的套刻精度和工艺节点;2)光学镜头:保证光刻机光源可以精准成像在晶圆表面,伴随光刻机技术衍进,投影物镜结构愈加复杂、尺寸增加;3)工作台:2004年ASML将双工作台推广至TX系列光刻机,光刻机产能显著提升。光刻机市...

国产光刻机突破28nm了吗

通知文件的“电子专用装备”的第一项即“集成电路生产装备”,其中明确提到氟化氪(KrF)光刻机和氟化氩(ArF)光刻机的技术指标,尤其是氟化氩光刻机,文件标明其波长为193nm、分辨率≤65nm、套刻≤8nm,这也被外界理解为国产DUV光刻机取得重大突破,甚至传出了国产DUV光刻机突破8nm工艺的说法。那么,工信部的这份通知...

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

(2)光刻机工作原理类似胶片照相机,均是通过光线穿透将电路图形在晶圆表面成像,但光刻机的精密度远远高于照相机。光刻机将光源射出的高能镭射光穿过掩膜版,缩图透镜将掩膜版的电路图缩小很多倍后,将图形集成在即将曝光的晶圆片上。我们可以将光刻机类比照相机,被拍摄的物体等同于光刻过程中的衬底,聚光镜就是单反镜...

国产计算光刻再传好消息

引言:在现代芯片制造工艺中,光刻是非常重要的一个步骤,其过程采用类似照相机的原理,光刻机发出的光通过具有图形的掩模版在晶圆上进行曝光成像,从而实现将电路图转印到晶圆上。在理想情况下,晶圆上的成像图形会与掩模版上的布局设计完全一样。但是,当掩模版图形的关键尺寸小于曝光波长的时候,由于衍射效应晶圆上的成像...

High-NA光刻高成本的解药?浅谈Intel 14A工艺要用的DSA技术

这个时候DSA就能派上用场了(www.e993.com)2024年11月6日。SemiAnalysis形容DSA是一种纳米成形技术(nanopatterningtechnique),基于嵌段共聚物(blockcopolymers)的自组(self-organizing)特性,藉由预成形的模板引导完成。简单来说DSA可以大幅降低光刻机工作过程中曝光所需的剂量,提升最终成像的质量。

光刻机是做什么的 光刻机厂家

光刻机的基本工作原理是利用光学成像原理，将掩模版上的电路图案通过光的照射和透镜的聚焦，在硅片上形成微小的影像。这个过程中，光刻胶被用作图像转移的媒介。在曝光过程中，光刻胶在受到特定波长光线的照射后，会发生化学反应，从而改变其物理性质。未被光线照射的部分则保持原状。通过后续的显影过程，可以将电路...

【易起解惑】什么是光刻机:决定芯片生产精度的核心设备

光刻机的生产精度主要受光源波长、数值孔径、工艺系数和机台性能几个方面的影响。光源波长越短,分辨率越高;数值孔径的增大可以提高成像精度;工艺系数的优化通过计算光刻等技术实现更精细的图案转移;而机台性能的提升则确保了曝光过程的稳定性和产能。光源波长:光源技术是光刻机的核心技术之一,从早期的汞灯到现在的极...

制造光刻机 40 年,一本新书重新发现了 ASML 成功的秘密

最终,ASML做出代号为PAS2500的光刻机,也是全球第一台模块化光刻机。得益于模块化设计,工程师可以在安装和使用过程中快速关闭或者更换镜头、光源以及其他重要模块,为晶圆厂节省大量资金。这样的灵活性让PAS2500在发布30多年后,仍然在一些晶圆厂的产线上7*24小时不间断工作。

EUV光刻机,大结局?

一般来说,光刻的分辨率越高,焦深越小。也就是说,光刻允许的工艺容差就越小。在实际操作过程中,晶片的表面位置有纳米尺度的变动,也会导致图案的细节部分变得模糊,对光刻结果产生显著的影响。这对光刻机的调平调焦系统提出了更为苛刻的要求。第一种提高光刻分辨率途径,光刻机的波长已经经历了从435nm(G-线)、365...